JPH01114852A - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
- Publication number
- JPH01114852A JPH01114852A JP27231887A JP27231887A JPH01114852A JP H01114852 A JPH01114852 A JP H01114852A JP 27231887 A JP27231887 A JP 27231887A JP 27231887 A JP27231887 A JP 27231887A JP H01114852 A JPH01114852 A JP H01114852A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- photoconductive layer
- coupling
- coupling film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 37
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 37
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims description 22
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 9
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 abstract description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 abstract description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 amino, mercapto Chemical class 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- KQJBQMSCFSJABN-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[O-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[O-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[O-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[O-] KQJBQMSCFSJABN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trinitrofluoren-1-one Chemical compound C1=CC=C2C3=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C([N+]([O-])=O)C(=O)C3=CC2=C1 FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZPQAUEDTKNBRNG-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoylsilicon Chemical compound CC(=C)C([Si])=O ZPQAUEDTKNBRNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003209 petroleum derivative Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、静電式複写機あるいは電算機のプリンタ等
に使用される電子写真用感光体に関する。
に使用される電子写真用感光体に関する。
なおこの明細書において、アルミニウムの語はその合金
を含む意味で用いる。
を含む意味で用いる。
従来の技術
上記のような用途に用いられる電子写真用感光体は、一
般に、アルミニウムからなる導電性支持体に、光導電性
絶縁材からなる光導電層を被覆したものに構成される。
般に、アルミニウムからなる導電性支持体に、光導電性
絶縁材からなる光導電層を被覆したものに構成される。
而して従来、導電性支持体と光導電層との接着性を向上
するために、導電性支持体に下地処理として陽極酸化処
理を施し、支持体の表面に界面層としての未封孔陽極酸
化皮膜を形成し、該皮膜を介して光導電層を被覆形成し
たものが知られている(例えば特開昭61−19824
3号)。
するために、導電性支持体に下地処理として陽極酸化処
理を施し、支持体の表面に界面層としての未封孔陽極酸
化皮膜を形成し、該皮膜を介して光導電層を被覆形成し
たものが知られている(例えば特開昭61−19824
3号)。
発明が解決しようとする問題点
ところが未封孔陽極酸化皮膜は、表面が吸着性に富み、
特に皮膜形成後直ちに光導電層を被覆形成する場合は確
かに光導電層との良好な接着性を実現しうるが、反面そ
の吸着性に富む性質の故に、皮膜形成後光導電層の被覆
形成までの期間が長いと良好な接着性が却って得られな
いという欠点があった。即ち実際の生産に際しては、導
電性支持体がその陽極酸化処理後、光導電層未形成のま
ま数日ないしは1か月程度あるいはそれ以上在庫され、
その後光導電層が成膜される場合がある。このような場
合、陽極酸化皮膜の優れた吸着性のため、在庫環境や在
庫期間によっては汚れや大気中の水分との反応による自
然封孔等を生じて、酸化皮膜の経時劣化を引起す結果、
所期のような良好な接着性が得られず、密着不良を起こ
すという問題があった。
特に皮膜形成後直ちに光導電層を被覆形成する場合は確
かに光導電層との良好な接着性を実現しうるが、反面そ
の吸着性に富む性質の故に、皮膜形成後光導電層の被覆
形成までの期間が長いと良好な接着性が却って得られな
いという欠点があった。即ち実際の生産に際しては、導
電性支持体がその陽極酸化処理後、光導電層未形成のま
ま数日ないしは1か月程度あるいはそれ以上在庫され、
その後光導電層が成膜される場合がある。このような場
合、陽極酸化皮膜の優れた吸着性のため、在庫環境や在
庫期間によっては汚れや大気中の水分との反応による自
然封孔等を生じて、酸化皮膜の経時劣化を引起す結果、
所期のような良好な接着性が得られず、密着不良を起こ
すという問題があった。
しかもまた、導電性支持体と光導電層との間に陽極酸化
皮膜を介することによって、感光体の常温環境下での電
気的特性にも優れたものとなすことができるが、陽極酸
化皮膜の種類(特に硫酸皮膜)によっては高温、高湿環
境下で使用した場合、電気的特性が劣化し良好な画像特
性が得られないという問題もあった。
皮膜を介することによって、感光体の常温環境下での電
気的特性にも優れたものとなすことができるが、陽極酸
化皮膜の種類(特に硫酸皮膜)によっては高温、高湿環
境下で使用した場合、電気的特性が劣化し良好な画像特
性が得られないという問題もあった。
一方また、導電性支持体と光導電層との接着性の更なる
向上及び電気的特性の向上を目的として、光導電層と陽
極酸化皮膜との間にアンダーコート層を設けることも行
われているが、この場合にも、陽極酸化処理後アンダー
コート層を設けるまでの期間が長いとやはりアンダーコ
ート層と陽極酸化皮膜との接着性が劣化し、また高温、
高湿環境下での使用の際に生じる電気的特性の劣化を防
ぐまでには至らないものであった。
向上及び電気的特性の向上を目的として、光導電層と陽
極酸化皮膜との間にアンダーコート層を設けることも行
われているが、この場合にも、陽極酸化処理後アンダー
コート層を設けるまでの期間が長いとやはりアンダーコ
ート層と陽極酸化皮膜との接着性が劣化し、また高温、
高湿環境下での使用の際に生じる電気的特性の劣化を防
ぐまでには至らないものであった。
この発明はかかる技術的背景に鑑みてなされたものであ
って、光導電層あるいはアンダーコート層との接着性に
優れるとともに、光導電層等を長期間経過後に被覆形成
した場合においても良好な接着性を維持でき、しかも高
温高湿環境下においても電気的性能の劣化を生じること
のない電子写真用感光体の提供を目的とするものである
。
って、光導電層あるいはアンダーコート層との接着性に
優れるとともに、光導電層等を長期間経過後に被覆形成
した場合においても良好な接着性を維持でき、しかも高
温高湿環境下においても電気的性能の劣化を生じること
のない電子写真用感光体の提供を目的とするものである
。
問題点を解決するための手段
上記目的において、発明者は種々実験と研究を重ねた結
果、導電性支持体に形成された陽極酸化皮膜の表面に、
さらに接着性、はっ水性に優れた有機金属化合物からな
るカップリング皮膜を、金属付着量を所定の範囲に規定
された状態に被覆形成することで、光導電層あるいはア
ンダーコート層の接着性の低下や、使用環境条件の変化
に伴う電気特性の劣化を防止しうろことを知見し、この
発明を完成しえたものである。
果、導電性支持体に形成された陽極酸化皮膜の表面に、
さらに接着性、はっ水性に優れた有機金属化合物からな
るカップリング皮膜を、金属付着量を所定の範囲に規定
された状態に被覆形成することで、光導電層あるいはア
ンダーコート層の接着性の低下や、使用環境条件の変化
に伴う電気特性の劣化を防止しうろことを知見し、この
発明を完成しえたものである。
即ち、この発明は第1図に示すように、アルミニウムか
らなる導電性支持体(1)に陽極酸化皮膜(2)が被覆
形成されるとともに、該陽極酸化皮膜の表面に有機金属
化合物からなるカップリング皮膜(3)が、金属付着量
を0. 1Q/rrt以上に規定された状態に被覆形成
され、該カップリング皮膜の上に光導電層(5)が形成
されてなることを特徴とする電子写真用感光体を要旨と
するものである。
らなる導電性支持体(1)に陽極酸化皮膜(2)が被覆
形成されるとともに、該陽極酸化皮膜の表面に有機金属
化合物からなるカップリング皮膜(3)が、金属付着量
を0. 1Q/rrt以上に規定された状態に被覆形成
され、該カップリング皮膜の上に光導電層(5)が形成
されてなることを特徴とする電子写真用感光体を要旨と
するものである。
導電性支持体(1)の構成材料として用いられるアルミ
ニウム材の種類は特に限定されるものではなく、加工性
、強度、硬さ等を考慮して市販の各種アルミニウム材の
中から適宜のものを選択使用すれば良い。−船釣には純
アルミニウム系、A3000番系等のアルミニウム展伸
材が好適に用いられる。また支持体の製造方法も問わな
い。
ニウム材の種類は特に限定されるものではなく、加工性
、強度、硬さ等を考慮して市販の各種アルミニウム材の
中から適宜のものを選択使用すれば良い。−船釣には純
アルミニウム系、A3000番系等のアルミニウム展伸
材が好適に用いられる。また支持体の製造方法も問わな
い。
導電性支持体(1)の表面に被覆形成された陽極酸化皮
膜(2)の種類もまたこれを特定の皮膜に限定するもの
ではなく硫酸法、蓚酸法、クロム酸法等種々の陽極酸化
処理法の中から任意の処理法を用いて形成された皮膜で
良い。また陽極酸化処理条件も常法に従って設定すれば
良い。さらにはまた、陽極酸化皮膜(2)はこれを封孔
処理しても良く、あるいは未封孔のままでも良い。
膜(2)の種類もまたこれを特定の皮膜に限定するもの
ではなく硫酸法、蓚酸法、クロム酸法等種々の陽極酸化
処理法の中から任意の処理法を用いて形成された皮膜で
良い。また陽極酸化処理条件も常法に従って設定すれば
良い。さらにはまた、陽極酸化皮膜(2)はこれを封孔
処理しても良く、あるいは未封孔のままでも良い。
陽極酸化皮膜(2)の表面に被覆形成された前記カップ
リング皮膜(3)は、有機金属化合物であるカップリン
グ剤を有機溶剤や水に溶解させ、またはエマルジョンの
状態となされた処理溶液の塗布、乾燥工程を経て形成さ
れるものである。カップリング皮膜(3)の好適例とし
ては、シランカップリング剤を用いたシランカツブリン
グ皮膜や、チタンカップリング剤を用いたチタンカップ
リング皮膜を挙げうる。これらについて説明すると、シ
ランカップリング剤の処理溶液は、シラカップリング剤
を水またはアルコールを溶剤として希釈することにより
形成されるもである。ここでシランカップリング剤とし
ては、一般化学構造式YRSiX3 (ただし、Xは
けい素原子に結合している加水分解性の基を示し、例え
ば塩素、アルコキシ基、アセトキシ基などがあり、Yは
有機ポリマーと結合する有機反応基を示し、ビニル、メ
タクリル、アミノ、メルカプトなどがある)で表される
全てのなかの任意のものを使用可能である。具体的には
γ−メルカプトプロピルトリメトキシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン
、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を
始めとするメルカプトシラン、アミノシラン、エポキシ
シラン、ビニルシラン、メタクリルシラン等をあげうる
。
リング皮膜(3)は、有機金属化合物であるカップリン
グ剤を有機溶剤や水に溶解させ、またはエマルジョンの
状態となされた処理溶液の塗布、乾燥工程を経て形成さ
れるものである。カップリング皮膜(3)の好適例とし
ては、シランカップリング剤を用いたシランカツブリン
グ皮膜や、チタンカップリング剤を用いたチタンカップ
リング皮膜を挙げうる。これらについて説明すると、シ
ランカップリング剤の処理溶液は、シラカップリング剤
を水またはアルコールを溶剤として希釈することにより
形成されるもである。ここでシランカップリング剤とし
ては、一般化学構造式YRSiX3 (ただし、Xは
けい素原子に結合している加水分解性の基を示し、例え
ば塩素、アルコキシ基、アセトキシ基などがあり、Yは
有機ポリマーと結合する有機反応基を示し、ビニル、メ
タクリル、アミノ、メルカプトなどがある)で表される
全てのなかの任意のものを使用可能である。具体的には
γ−メルカプトプロピルトリメトキシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン
、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を
始めとするメルカプトシラン、アミノシラン、エポキシ
シラン、ビニルシラン、メタクリルシラン等をあげうる
。
一方チタンカップリング剤の処理溶液は、チタンカップ
リング剤を石油系炭化水素、芳香族炭化水素、その他で
きるだけ低融点の溶剤を用いて希釈することにより形成
されるものである。
リング剤を石油系炭化水素、芳香族炭化水素、その他で
きるだけ低融点の溶剤を用いて希釈することにより形成
されるものである。
ここでチタンカップリング剤としては、例えばテトライ
ソプロピルチタネート、テトライソプロピルチタネート
ポリマー、テトラブチルチタネート、テトラブチルチタ
ネートポリマー、テトラステアリルチタネート、2−エ
チルへキシルチタネート、テトライソプロピルチタネー
ト(4部)+テトラステアリルチタネート(1部)、ジ
ブチルチタネートポリマー、イソブロボキシチタニウム
スチプレート、チタニウムアセチルアセトネート、チタ
ニウムラクチート等をあげうる。
ソプロピルチタネート、テトライソプロピルチタネート
ポリマー、テトラブチルチタネート、テトラブチルチタ
ネートポリマー、テトラステアリルチタネート、2−エ
チルへキシルチタネート、テトライソプロピルチタネー
ト(4部)+テトラステアリルチタネート(1部)、ジ
ブチルチタネートポリマー、イソブロボキシチタニウム
スチプレート、チタニウムアセチルアセトネート、チタ
ニウムラクチート等をあげうる。
上記シランカップリング剤やチタンカップリング剤等の
処理溶液の導電性支持体(1)表面への塗布方法として
はスプレー法、浸漬法、ロールコート法、ハケ塗り法等
任意の方法を採用しうる。また塗布後の乾燥は15〜3
00℃程度の温度で行うのが望ましい。乾燥時間は乾燥
温度により異なり、例えば100℃で30秒程度行うの
が良い。かつまたカップリング皮膜(3)はその中に含
まれるS l s T i等の金属が0. 11111
/lri以上の付着量となるように被覆形成されること
を条件とする。金属付着量をこのように設定するのは、
次の理由による。即ち、カップリング皮膜(3)を被覆
することで、長期間経過後光導電層やアンダーコート層
を形成しても良好な接着性を保持でき、また高温、高湿
環境下での電気的特性の劣化を生じないものとなしうる
理由の1つとして、該カップリング皮膜がはっ水性皮膜
であることが考えられるが、金属付着量が0. 11!
19/lri未満では、良好なはり水性が得られず、ひ
いては光導電層との接着不良等を生ずるからである。一
方送に多くなっても該効果の格別な増大がなく、むしろ
材料の無駄によるコストアップの欠点を派生する。好ま
しい付着量の範囲は0. 5〜100jl15j/mで
ある。Si、Ti等金属付着量の設定は、処理溶液の製
作段階においてカップリング剤の希釈割合の調整によっ
て行っても良く、あるいは処理溶液の導電性支持体への
塗布量の調整によって行っても良い。
処理溶液の導電性支持体(1)表面への塗布方法として
はスプレー法、浸漬法、ロールコート法、ハケ塗り法等
任意の方法を採用しうる。また塗布後の乾燥は15〜3
00℃程度の温度で行うのが望ましい。乾燥時間は乾燥
温度により異なり、例えば100℃で30秒程度行うの
が良い。かつまたカップリング皮膜(3)はその中に含
まれるS l s T i等の金属が0. 11111
/lri以上の付着量となるように被覆形成されること
を条件とする。金属付着量をこのように設定するのは、
次の理由による。即ち、カップリング皮膜(3)を被覆
することで、長期間経過後光導電層やアンダーコート層
を形成しても良好な接着性を保持でき、また高温、高湿
環境下での電気的特性の劣化を生じないものとなしうる
理由の1つとして、該カップリング皮膜がはっ水性皮膜
であることが考えられるが、金属付着量が0. 11!
19/lri未満では、良好なはり水性が得られず、ひ
いては光導電層との接着不良等を生ずるからである。一
方送に多くなっても該効果の格別な増大がなく、むしろ
材料の無駄によるコストアップの欠点を派生する。好ま
しい付着量の範囲は0. 5〜100jl15j/mで
ある。Si、Ti等金属付着量の設定は、処理溶液の製
作段階においてカップリング剤の希釈割合の調整によっ
て行っても良く、あるいは処理溶液の導電性支持体への
塗布量の調整によって行っても良い。
光導電層(5)は前記カップリング皮膜(3)の表面に
直接的に被覆形成されても良く、あるいは図面に示すよ
うに、アンダーコート層(4)を介して被覆形成されて
も良い。光導電層(5)の種類は特に限定されるもので
はなく、セレン系材料、アモルファスシリコン系材料、
有機物系材料等いずれを用いても良い。またアンダーコ
ート層は一般的にはポリアミド系樹脂により構成される
。
直接的に被覆形成されても良く、あるいは図面に示すよ
うに、アンダーコート層(4)を介して被覆形成されて
も良い。光導電層(5)の種類は特に限定されるもので
はなく、セレン系材料、アモルファスシリコン系材料、
有機物系材料等いずれを用いても良い。またアンダーコ
ート層は一般的にはポリアミド系樹脂により構成される
。
発明の効果
この発明は上述の次第で、アルミニウムからなる導電性
支持体に陽極酸化皮膜が被覆形成されるとともに、該陽
極酸化皮膜の表面に有機金層化合物からなるカップリン
グ皮膜が、金属付着量を0.IIng/TI1以上に規
定された状態に被覆形成され、該カップリング皮膜の上
に光導電層が形成されてなることを特徴とするものであ
る。従って後述の実施例の参酌によっても明らかなよう
に、カップリング皮膜形成後直ちに光導電層やアンダー
コート層を形成した場合はもとより、長期間経過後形成
した場合であっても導電性支持体と光導電層との充分な
接着性を保持しえ、光導電層の別離、ふくれ、亀裂等の
現象を生じることのない安定した感光体となしつる。さ
らにまた、陽極酸化皮膜表面にカップリング皮膜を形成
することで、特に陽極酸化皮膜が硫酸皮膜である場合に
従来認められたような高温、高湿環境下での電気的性能
の劣化を引き起こすことがなく、使用環境条件の如何を
問わず優れた電気的性能を発揮し、ひいては優れた画像
特性を有する感光体となしうる。
支持体に陽極酸化皮膜が被覆形成されるとともに、該陽
極酸化皮膜の表面に有機金層化合物からなるカップリン
グ皮膜が、金属付着量を0.IIng/TI1以上に規
定された状態に被覆形成され、該カップリング皮膜の上
に光導電層が形成されてなることを特徴とするものであ
る。従って後述の実施例の参酌によっても明らかなよう
に、カップリング皮膜形成後直ちに光導電層やアンダー
コート層を形成した場合はもとより、長期間経過後形成
した場合であっても導電性支持体と光導電層との充分な
接着性を保持しえ、光導電層の別離、ふくれ、亀裂等の
現象を生じることのない安定した感光体となしつる。さ
らにまた、陽極酸化皮膜表面にカップリング皮膜を形成
することで、特に陽極酸化皮膜が硫酸皮膜である場合に
従来認められたような高温、高湿環境下での電気的性能
の劣化を引き起こすことがなく、使用環境条件の如何を
問わず優れた電気的性能を発揮し、ひいては優れた画像
特性を有する感光体となしうる。
実施例
次にこの発明の実施例を比較例との対比において示す。
A3003アルミニウム合金を、常法により押出バイブ
に押出したのち引抜き加工を施し、さらにその後切削を
実施してその表面を表面粗さ0.ISに平滑仕上げした
ものを導電性支持体として用いた。
に押出したのち引抜き加工を施し、さらにその後切削を
実施してその表面を表面粗さ0.ISに平滑仕上げした
ものを導電性支持体として用いた。
そして上記支持体を複数個用意し、それぞれに硫酸濃度
:15%、液温:20±1℃の硫酸電解液中で電流密度
: 1. 3A/drIt、処理時間20分の条件で陽
極酸化処理を実施して硫酸陽極酸化皮膜を被覆形成した
。
:15%、液温:20±1℃の硫酸電解液中で電流密度
: 1. 3A/drIt、処理時間20分の条件で陽
極酸化処理を実施して硫酸陽極酸化皮膜を被覆形成した
。
次いで、半数の導電性支持体については、圧力4Kyf
/adの加圧蒸気処理による封孔処理を25分間実施し
た。また他の半数については封孔処理を実施しなかった
。その後以下に示す処理をした。
/adの加圧蒸気処理による封孔処理を25分間実施し
た。また他の半数については封孔処理を実施しなかった
。その後以下に示す処理をした。
(実施例1)
陽極酸化皮膜の表面に、アミノシランの1つであるγ−
アミノプロピルトリエトキシシラン(H2NC3He
S i (OC2H5) 3 )の1%水溶液(PH約
11)を用いて、165グラビアメツシユロールコート
を施したのち、100℃×30秒乾燥してシランカップ
リング皮膜を形成した。このときのSi付着量は約15
IItg/TItであった。
アミノプロピルトリエトキシシラン(H2NC3He
S i (OC2H5) 3 )の1%水溶液(PH約
11)を用いて、165グラビアメツシユロールコート
を施したのち、100℃×30秒乾燥してシランカップ
リング皮膜を形成した。このときのSi付着量は約15
IItg/TItであった。
モして封孔処理したもの及び未封孔のものそれぞれにつ
いて、カップリング皮膜形成後すぐにアンダーコート層
を厚さ約1μmに被覆形成したものと、カップリング皮
膜形成後温度25℃、湿度70%の環境下にて30日間
放置したのち同じくアンダーコート層を被覆形成したも
のを製作した。アンダーコート層の形成は、ポリアミド
系樹脂の塗布、乾燥により行った。
いて、カップリング皮膜形成後すぐにアンダーコート層
を厚さ約1μmに被覆形成したものと、カップリング皮
膜形成後温度25℃、湿度70%の環境下にて30日間
放置したのち同じくアンダーコート層を被覆形成したも
のを製作した。アンダーコート層の形成は、ポリアミド
系樹脂の塗布、乾燥により行った。
その後、光導電層としてポリビニールカルバゾール/ト
リニトロフルオレノン(PVK/TNF)を被覆形成し
、本発明に係る感光体を得た(試料No1〜4)、なお
PVK/TNFの被覆形成はいずれも浸漬法による塗布
をもって行い、層厚はいずれも15μmとした。
リニトロフルオレノン(PVK/TNF)を被覆形成し
、本発明に係る感光体を得た(試料No1〜4)、なお
PVK/TNFの被覆形成はいずれも浸漬法による塗布
をもって行い、層厚はいずれも15μmとした。
(実施例2)
陽極酸化皮膜の表面に、テトラアルキルチタネートをn
−へキサンに溶解した4%溶液を用いて、165グラビ
アメツシユロールコートを施シたのち、100℃×30
秒乾燥してチタンカップリング皮膜を形成した。このと
きのTi付着量は約17■/ゴであった。
−へキサンに溶解した4%溶液を用いて、165グラビ
アメツシユロールコートを施シたのち、100℃×30
秒乾燥してチタンカップリング皮膜を形成した。このと
きのTi付着量は約17■/ゴであった。
そして実施例1と同じく、封孔処理したもの及び未封孔
のものそれぞれについて、カップリング皮膜形成後すぐ
にアンダーコート層を実施例1と同一条件で被覆形成し
たものと、カップリング皮膜形成後温度25℃、湿度7
0%の環境下にて30日間放置したのちアンダーコート
層を被覆形成したものを製作した。
のものそれぞれについて、カップリング皮膜形成後すぐ
にアンダーコート層を実施例1と同一条件で被覆形成し
たものと、カップリング皮膜形成後温度25℃、湿度7
0%の環境下にて30日間放置したのちアンダーコート
層を被覆形成したものを製作した。
その後、光導電層としてPVK/TNFを前記と同一条
件で被覆形成して本発明に係る感光体を得た(試料No
5〜8)。
件で被覆形成して本発明に係る感光体を得た(試料No
5〜8)。
[比較例]
カップリング皮膜を形成することなく、封孔処理したも
の及び未封孔のものそれぞれについて、陽極酸化皮膜形
成後すぐにアンダーコート層を実施例と同一条件で被覆
形成したものと、陽極酸化皮膜形成後温度25℃、湿度
70%の環境下にて30日間放置したのちアンダーコー
ト層を被覆形成したものを製作した。
の及び未封孔のものそれぞれについて、陽極酸化皮膜形
成後すぐにアンダーコート層を実施例と同一条件で被覆
形成したものと、陽極酸化皮膜形成後温度25℃、湿度
70%の環境下にて30日間放置したのちアンダーコー
ト層を被覆形成したものを製作した。
その後、光導電層としてPVK/TNFを前記と同一条
件で被覆形成して比較品としての感光体を得た(試料N
o9〜12)。
件で被覆形成して比較品としての感光体を得た(試料N
o9〜12)。
以上により得た各感光体につき、その製作途中においで
あるいは完成後において、下記の試験を実施した。
あるいは完成後において、下記の試験を実施した。
[カップリング皮膜のはり水性調査]
各カップリング皮膜につき、その表面に純水を2μΩ垂
らし、1分後の接触角を測定した。
らし、1分後の接触角を測定した。
なお比較品については、陽極酸化皮膜表面において調査
した。
した。
[接着性試験]
アンダーコート層の被覆形成後テープ剥離試験を実施し
た。
た。
[画像性能]
各感光体につき、白刷りにおける黒点発生状況を調査し
た。調査は温度及び湿度を変えた2種類の環境条件のも
とで行った。
た。調査は温度及び湿度を変えた2種類の環境条件のも
とで行った。
以上の結果を下記第1表に示す。
[以下余白]
上記結果から明らかなように、本発明実施品ではカップ
リング皮膜のはっ水性が良く、またカップリング皮膜形
成後アンダーコート層の被覆形成までの時間が長い場合
であっても直ちに被覆形成した場合と同じく、導電性支
持体とアンダーコート層との接着性、従って該支持体と
光導電層との接着性に優れたものであることがわかる。
リング皮膜のはっ水性が良く、またカップリング皮膜形
成後アンダーコート層の被覆形成までの時間が長い場合
であっても直ちに被覆形成した場合と同じく、導電性支
持体とアンダーコート層との接着性、従って該支持体と
光導電層との接着性に優れたものであることがわかる。
しかも、感光体の使用環境条件が悪くても感光体の電気
的性能の劣化ひいては画像特性の劣化を生じないことも
わかる。
的性能の劣化ひいては画像特性の劣化を生じないことも
わかる。
第1図はこの発明に係る感光体の一実施例を示す部分拡
大断面図である。 (1)・・・導電性支持体、(2)・・・陽極酸化皮膜
、(3)・・・カップリング皮膜、(4)・・・アンダ
ーコート層、(5)・・・光導電層。 以上
大断面図である。 (1)・・・導電性支持体、(2)・・・陽極酸化皮膜
、(3)・・・カップリング皮膜、(4)・・・アンダ
ーコート層、(5)・・・光導電層。 以上
Claims (3)
- (1)アルミニウムからなる導電性支持体に陽極酸化皮
膜が被覆形成されるとともに、該陽極酸化皮膜の表面に
、有機金属化合物からなるカップリング皮膜が金属付着
量を0.1mg/m^2以上に規定された状態に被覆形
成され、該カップリング皮膜の上に光導電層が形成され
てなることを特徴とする電子写真用感光体。 - (2)カップリング皮膜がシランカップリング皮膜であ
る特許請求の範囲第1項記載の電子写真用感光体。 - (3)カップリング皮膜がチタンカップリング皮膜であ
る特許請求の範囲第1項記載の電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62272318A JP2708435B2 (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62272318A JP2708435B2 (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01114852A true JPH01114852A (ja) | 1989-05-08 |
JP2708435B2 JP2708435B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
ID=17512211
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62272318A Expired - Lifetime JP2708435B2 (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2708435B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006109401A1 (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Ntn Corporation | 流体軸受装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS493847A (ja) * | 1972-05-04 | 1974-01-14 | ||
JPS59104651A (ja) * | 1982-12-07 | 1984-06-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
JPS61109064A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
JPS63296051A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Olympus Optical Co Ltd | 像保持部材 |
-
1987
- 1987-10-28 JP JP62272318A patent/JP2708435B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS493847A (ja) * | 1972-05-04 | 1974-01-14 | ||
JPS59104651A (ja) * | 1982-12-07 | 1984-06-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
JPS61109064A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
JPS63296051A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Olympus Optical Co Ltd | 像保持部材 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006109401A1 (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Ntn Corporation | 流体軸受装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2708435B2 (ja) | 1998-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH03119701A (ja) | 抵抗層付導電材料及び抵抗層付プリント回路基板 | |
DE69927331T2 (de) | Elektrophotographischer Photorezeptor, sein Herstellungsverfahren und Bildherstellungsapparat | |
US6410197B1 (en) | Methods for treating aluminum substrates and products thereof | |
US4180442A (en) | Electrodeposition of coatings on metals to enhance adhesive bonding | |
JPH01114852A (ja) | 電子写真用感光体 | |
DE3616607C2 (ja) | ||
JPH01114853A (ja) | 電子写真用感光体 | |
US6254976B1 (en) | Electrophotographic charging member | |
JP4222307B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置、プロセスカートリッジ | |
JPH01114854A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP2680314B2 (ja) | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 | |
JP2509225B2 (ja) | 電子写真用感光体の製造方法 | |
JPS63311261A (ja) | 電子写真用感光体の製造方法 | |
JPS59185799A (ja) | 陽極酸化物被覆の電解着色方法 | |
JP2003027281A (ja) | アルミニウム材の化成処理方法および化成皮膜を有するアルミニウム材、ならびに電子写真用感光体の製造方法および電子材料の製造方法 | |
TW202001001A (zh) | 經陽極處理之金屬基板的無鎳密封技術 | |
GB2324880A (en) | Electrophotographic medium | |
DE2165295C3 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
JPS63314555A (ja) | 電子写真用有機感光体 | |
JP3980389B2 (ja) | 継目無し可撓性無端状金属シート体の製造方法 | |
JPH0355817B2 (ja) | ||
JPH01108551A (ja) | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 | |
JPH01114855A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH0784391A (ja) | 電子写真感光体用支持体の製造方法および電子写真感光体 | |
PL80007B1 (ja) |