JPH01113399A - フルオロペントフラノシド類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフルオロベントフラノシド類に関するものであ
る。

ヌクレオシドやその種々の誘導体などの核酸類は、悪性
腫瘍細胞などの必須代謝物質と拮抗し、細胞の発育、増
殖を抑制するいわゆる代謝拮抗物質として、またＲＮＡ
合成阻害剤として、抗腫瘍剤、抗ウィルス剤をはじめと
する医薬、農薬その他の用途に広く用いられている。

特にフッ素を有するヌクレオシド、なかでもフッ素を糖
部に有するヌクレオシドは抗腫瘍剤や抗ウィルス剤とし
て近年、特に注目されている。それはフッ素原子が水酸
基と比較して電子等優性を有し、水酸基に比較して炭素
原子に対する結合が極めて大きく、不活性で、しかも水
酸基に近似した原子サイズを有しているからである。従
って水酸基をフッ素原子に置換すると代謝拮抗作用など
の面で優れた効果を期待し得る。

しかし、公知のデオキシベントフラノシドを有するヌク
レオシドの例は少なく、２’、３°−ジデオキシ−３−
フルオロチミジン（Ｐ、　Ｌａｎｇｅｎ他Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ　ＬｅｔＬ、、２７．２４６３ｆ１９７１）
）、２′、３−ジデオキシ−３−フルオログアノシン（
ＤＰ　２０９．＋９７１　、２’、３°−ジデオキシ−
３−フルオログアノシン（ＯＰ　１５８．９０３＋、　
２°、３°、５°−トリデオキシ−３′、５°−ジフル
オロチミジン（Ｐ。

Ｌａｎｇｅｎ他ＡｃＬａ　Ｂｉｏｌ、　Ｍｅｄ、　Ｇｅ
ｒｍ、　、　２３．８１９Ｆ＋９６９）　）があるだけ
である。

本発明者は、前記医薬の用途に有用な新規なフルオロヌ
クレオシド類を見い出すべく鋭意研究検討した結果、新
規な２″、３−ジデオキシ−２−フルオロヌクレオシド
類あるいはその合成中間体であるフルオロベントフラノ
シド類を見い出すに至った。本発明はこれを要旨とする
下記の発明である。

Ｒ１：保５基を有していてもよい核酸塩基類の残基、ハ
ロゲン原子、あるいは−Ｏｘ基（ただし、Ｘは水素原子
、水酸基の 保護基、あるいはアルキル基） 式Ｎ］で表わされる化合物の内Ｒ’が核酸塩基類の残基
である化合物は新規な２°、３−ジデオキシ−２′−フ
ルオロヌクレオシド類である。この場合、Ｒ１はβ配置
（即ち、環に対して５゛位の炭素原子と同じ側に存在す
る）であり、Ｒ２は水素原子であり、核酸塩基類の残基
は保護基を有しない。フッ素原子はβ配置であってもα
配置（即ち、環に対して５゛位の炭素原子とは反対の側
に存在する）であってもよい。しかし、好ましくは、リ
ボヌクレオシドの２゛位の水酸基と同じ側（即ちα配置
）に存在する。Ｒ１が保護基を有する核酸塩基類の残基
である場合、および／またはＲ２が水酸基の保護基であ
る場合、これらは上記２°、３−ジデオキシ−２゛−フ
ルオロヌクレオシド類の合成中間体であり、脱保証を行
うことにより上記２°、３−ジデオキシ−２−フルオロ
ヌクレオシド類が得られる。Ｒ’がハロゲン原子や−Ｏ
ｘである化合物は上記２゛、ｉｏ−ジデオキシ−２−フ
ルオロヌクレオシド類の合成中間体として有用であり、
このハロゲン原子やＯｘ基を核酸塩基類の残基に変えて
上記２′、３−ジデオキシ−２−フルオロヌクレオシド
類を製造することができる。ハロゲン原子としては塩素
原子あるいは臭素原子が好ましい。−Ｏｘ基のＸは、ア
ルキル基であるか、後述のアシル基などの水酸基の保護
基であり、特に低級アルキル基（炭素数１〜４のアルキ
ル基）が好ましい。ハロゲン原子や−Ｏｘ基の立体位置
は特に限定されず、α配置とβ配置のいずれであっても
よい。式［１］において、へ〜はα配置とβ配置のいず
れであってもよい結合を示す。しかし、前記のようにＲ
１が保護されていてもよい該酸塩基類の残基を表わす場
合、それはβ配置であり、２位のフッ素はα配置が好ま
しい。Ｒ’がハロゲン原子あるいは−Ｏｘ基の場合は上
記のようにその位置はα配置とβ配置のいずれであって
もよく、また２以上の化合物の混合物においてそれらの
配置が異なっていてもよい。

前記Ｒ’が核酸塩基類の残基の場合、その核酸塩基類と
は置換基を有していてもよいプリン類およびピリミジン
類をいい、その残基とは置換基を有していてもよい９−
プリニル基および１−ピリミジニル基をいう。買換基と
しては、アミノ基、オキソ基、メチル基は勿論、他の置
換基、たとえばハロゲン原子、アルキル 基、ハロアルキル基、へロビニル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシアルキル基、アルキルアミノ基、ジアルキルア
ミン基、アシルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、シクロアルキル基、アリール基、アリールオキシ基
、アルアルキル基などであってもよい。これら置換基の
結合位置は、プリン類では２位、６位、および８位の少
なくとも１つ、ピリミジン類では２位、４位、および５
位の少なくとも１つである。具体的な置換基を有するプ
リン類としては、たとえば、アデニン、グアニン、ヒボ
キサンチン、キサンチン、６−バロブリン、２−へロプ
リン、２．６−シハロプリン、６−アルキルアミノプリ
ン、６−アシルアミノプリンなどがあり、置換基を有す
るピリミジン類としてはたとえば、ウラシル、シトシン
、チミン、５−へロウラシル、５−へロメチルウラシル
、５−ハロチミン、５−ハロメチルアミノ、５−β−ブ
ロモビニルチミンなどがある。好ましい核酸塩基類は、
２−および／または６−置換プリン並びに２．４−ある
いは２．４．５−置換ビリジンであり、特に、アデニン
、グアニン、２−ハロアデニン、Ｎ６−置換アデニン、
６−へロブリン、２．６−シハロプリン、ウラシル、シ
トシン、チミンなどが好ましい。

Ｒ２が水酸基の保護基である場合、通例の水酸基の保護
基を使用しつる。この保護基としてはたとえば、トリオ
ルガノシリル基、アルギル基、アシル基、アリール基、
アルアルキル基などがある。アリール基やアルアルキル
基の芳香族はアルキル基やアルコキシ基などの置換基を
有していてもよい。また、トリオルガノシリル基のケイ
素原子に結合する３個の有機基は同一でも互いに異なっ
ていてもよい。具体的には、例えば、トリメチルシリル
基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基
、フエニルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル
基、ベンジル基、ジメトキシトリチル基、トリチル基、
モノメトキシトリチル基などの保護基がある。また、核
酸塩基類の残基中のアミノ基や水酸基の保護基としては
、上記の水酸基の保護基やジアルキルアミノメチレン基
などがある。

本発明の式［１］で表わされるフルオロベントフラノシ
ド類は、基本的に２位と３位に水酸基を有するベントフ
ラノシド類の２位の水酸基をフッ素原子に変換しくフッ
素化反応）、３位の水酸基を脱離する（還元反応）を行
って得られる。フッ素化反応と還元反応の順は問わない
。しかし、フッ素化反応において１位に核酸塩基類の残
基が存在するとその部分のフッ素化等の副反応が生じる
おそれがあり、フッ素化反応の段階においては１位に核
酸塩基類の残基が存在しないことが好ましい。一方、還
元、反応の段階においては、１位に核酸塩基類の残基が
存在していてもよい。しかし、この場合も、核酸塩基類
の残基に水酸基や１級アミノ基などの反応し易い官能基
がフリーの状態で存在することは好ましいとはいえず、
この官能基は還元反応時保護されていることが好ましい
。このような理由により、まずフッ素化反応を行う場合
には、核酸塩基類の残基を有しない出発ベントフラノシ
ド類から２位にフッ素原子を有する対応ベントフラノシ
ド類を製造し、次いで核酸塩基類の残基を導入し、ある
いは導入することなく、還元反応を行って式［１］で表
わされるフルオロペントフラノシド類を得る。還元反応
をまず行う場合には、核酸塩基類の残基を有しない出発
ベントフラノシド類から還元反応および次いでフッ素化
反応を行って式［１］で表わされるフルオロペントフラ
ノシド類（ただし、Ｒ１は核酸塩基類の残基でないもの
）を得る。前者の還元反応前の中間生成物は下記式［Ｉ
Ｉ　］で表わされる化合物であり、後者のフッ素化反応
前の中間生成物は下記式［［ｎｌで表わされる化合物で
ある。

ただし、Ｒ３は核酸塩基類の残基（ただし、前記官能基
を有する場合は保護基で保護されている）、ハロゲン原
子、あるいは−ＯＸ°基（Ｘ’は水酸基の保護基あるい
はアルキル基）を表わし、Ｒ５はハロゲン原子、あるい
は−ＯＸ°基（Ｘ’は上記に同じ）を表わす。またＲ４
とＲ６はいずれも水酸基の保護基を表わす。さらに、Ｙ
は水素原子あるいは後述脱離活性化基を表わし、２、は
水素原子あるいは後述活性化基を表わす。

式［ＴＩ　］で表わされる還元反応において、−ＯＹ基
が水酸基である場合は、その脱離には強い還元剤の使用
が必要となり、この場合５位の保護された水酸基や他の
基に影−髪が及ぶおそれもある。従って、−０Ｙ基とし
ては、よりマイルドな条件下で脱離しつる基であること
が好ましい。このためには、３位の水酸基を脱離基に変
えつる反応剤と反応させてＹが水素原子ではない脱離活
性化基とし、次に還元して脱離基を脱離する。これによ
って３位に水酸基の代りに水素原子が導入される。水酸
基を脱離基に変える反応剤としては、Ｎ、Ｎ’−チオカ
ルボニルジイミダゾール、フェニルクロロチオノカーボ
ナート、Ｎ、Ｎ’−ジメチルベンズアミド−ホスゲン−
硫化水素（詳しくはり、　ｔｌ、　Ｒ，ＢａｒＬｏｎ　
　他、Ｊ、　Ｃ，Ｓ。

Ｐｅｒｋｉｎ　ｌ　　（１９７５）　１５７４）などを
用いることができ、還元剤としてはトリブチルチンヒド
リド、トリフェニルチンヒドリドなどを用いることがで
きる。また、水酸基をｍ−トリフルオロメチルベンゾイ
ル化した後に光照射により１選択的に水酸基を除去する
事もできる（Ｔ、　Ｍａｔｓｕｕｒａ他、Ｊ、　Ａｍ、
　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　、　（１９８６）　１０８．
３１１５１゜−ＯＸ基の脱離工程は通常ベンゼン、トル
エンなどの不活性溶媒中で行われ、０℃から溶媒還流温
度の範囲内の反応温度が採用され、特に室温から１２０
℃程度の温度が好ましい。

前記式［ｒ［Ｉ］において、２は水酸基であってもよい
が、よりマイルドな反応条件下でフッ素化反応を行いつ
るような活性化基であることが好ましい。この式［■■
］で表わされる誘導体のフッ素化は、本発明者らの発明
（ベントフラノシドの３位のフッ素化を記載）に係る特
開昭６２−　８１３９７号記載のフッ素化と同様に行う
ことができる。即ち、上記活性化基２として、トリフル
オロメタンスルホニル基、メタンスルホニル基、ｐ−ト
ルエンスルホニル基、トリメチルシリル基等を用い、比
較的マイルドなフッ素化材を用いてフッ素化を行うこと
が好ましい。活性化基２としては、特にトリフルオロメ
タンスルホニル基などのスルホニル基が好ましい。フッ
素化剤としては、フッ化アンモニウム系フッ素化剤やア
ミノサルファーフルオリド系フッ素化剤が好ましい。前
者のフッ素化剤としてはフッ化テトラオルガノアンモニ
ウムがあり、有機基としではアルキル基やアルアルキル
基が好ましく、この４つの有機基は異っていてもよい。

特に好ましくはフッ化テトラブチルアンモニウムが用い
られる。後者のフッ素化剤としては、ジエチルアミノサ
ルファールオリド、モノホリノサルファートリフルオリ
ドなどがある。これらフッ素化剤は、通常テトラヒドロ
フランなどの不活性溶媒中で使用される。フッ素化反応
は通常不活性溶媒中数十度以下の温度で行われ、特に約
り℃〜室温下で行われることが好ましい。

このフッ素化により、−〇ｚ基が脱離するとともに３位
にフッ素原子が導入される。フッ素原子は通常−ＯＺ基
の存在する面側とは反対の面側に導入され、る。即ち、
−〇Ｚ基がβ配置の場合は導入されたフッ素原子はβ配
置となり、−〇Ｚ基がβ配置の場合には導入されたフッ
素原子はβ配置となる。

上記還元反応とフッ素化反応は、また式［Ｉ＋　］で表
わされる化合物や式［１１１１で表わされる化合物の製
造に適用できる。即ち、上記フッ素化反応により２位に
水酸基を有する出発ベントフラノシド類をフッ素化して
式［１１］で表わされる化合物を製造することができ、
上記還元反応により３位に水酸基を有する出発ベントフ
ラノシド頚を還元して、式［Ｉ１１］で表わされる化合
物を製造することができる。

Ｒ′やＲ３が核酸塩基類の残基でない場合にそれを核酸
塩基類の残基に変える方法、およびＲ６を核酸塩基類の
残基に変える方法としては公知の方法を採用することが
できる。たとえば、それがハロゲン原子であるフラノシ
ルハライドを原料とする場合は、メルクリ法、シアン化
水銀法、ｌ１ｉｌｂ’ｅｒｔ−Ｊｏｈｎｓｏｎ法、Ｒｏ
ｂｉｎｓ法（Ｊ、　Ａｍ。

Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、１０６　、６３７９（１９８４）
）を用いることができ、ＸやＸｏがアシル基である１０
−アシル化糖を原料とする場合は溶融法、シリル化塩基
−ルイス酸法などが用いられる。

本発明のフルオロベントフラノシド類の製法は上記方法
に限られるものではない。しかし、好ましくは、式［１
１１で表わされる化合物より製造され、特にＲ″が核酸
塩基類の残基である式［１１］で表わされる化合物より
製造される。このＲ３が核酸塩基類の残基である式［１
１］で表わされる（Ｒ’が水素原子であるものを含む）
２−デオキシ−２−フルオロペントフラノシド誘導体の
ド部は公知である。例えば、２−デオキシ−２１フルオ
ロリボフラノシルアデニン（Ｍ、　Ｉｋｅｈａｒａ他、
Ｊ、Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅｓ、Ｎｕｃｌｅｏｓｉｄ
ｅｓ　Ｎｕｃｌｏｔｉｄｅｓ。

２．１３１（１９８１）、Ｒ，Ｒａｎｇａｎａｔｈａｎ
　　、　　ＴｅｊｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ、　、　（
１９７７）　１２９１）　、　２’−デオキシ−２−フ
ルオロアラビノフラノシド（Ｊ、　Ｊ、　Ｆｏｘ他、Ｊ
、０．ｒｇ。

Ｃｈｅｍ、、３４．２６３２（１９６９）、Ｊ、Ｊ、Ｆ
ａｘ他、　Ｊ、　Ｍｅｄ。

Ｃｈｅｍ、　、　２７．９　ｌ　（１９８４）　、　Ｃ
，ｔｌ、’Ｔａｎｎ他、　　、Ｊ、Ｏｒｇ。

Ｃｈｃｍ、、５０，３６４４（１９８５］）、　２−デ
オキシ−２−フルオロリボフラノシルチミンｆＪ、　Ｊ
、　Ｆａｘ他、　Ｊ、　ＯｒｇＣｈｅｍ、　、　２９．
５５８　（１９６４）　）などがある。本発明のフルオ
ロベントフラノシド頚はこれらの公知の化合物を出発原
料として、その３゛位の水酸基を前記還元反応で水素原
子に変換して製造することができる。

以下、本発明を実施例や参考例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

実施例！ ５−０−ｔ、−ブチルジメチルシリル−２°−デオキシ
−２−フルオロウリジン１．８６ｇ　（５，２ｍｍｏ　
ｌ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）溶液に０℃で４−ジメ
チルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）　１．８９ｇ（１５，
４ｍｍｏｌ）を加え、次いでフェニルクロロチオノカー
ボーナート１．４４ｍ１　ｆｔ０．４ｍｍｏｌ）を加え
、室温で２時間攪拌した。反応液に飽和重曹水（２０ｍ
ｌ）を加え、激しく攪拌した後、有機層を分離し合せた
有機層を飽和食塩水（２０ｍｌｌで洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開系：クロロホルム／メタノール＝２０／＋１で精製し
、５’−０−Ｌ−ブチルジメチルシリル−２゛−デオキ
シ−３゛−０−フェニルオキシチオカルボニル−２°−
フルオロウリジンを得た。これをすぐさまベンゼン（２
０ｍｌ）に溶解し、トリブチルスズヒドリド（４，５ｍ
１）　　α、ａ−アゾイソブチロニトリル（Ａｌ［ｌＮ
ｌ　（ｌｏｍｇ）を加え、３０分間加熱還流した。

ベンゼンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開系：クロロホルム／メタノール＝３０
／１１　で精製し、表掲化合物（１，３６ｇ、　３．９
５ｍｍｏｌ、収率７６．１％）を得た。

’ＩＩ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、ｌ　：δ０．　ｌ　ｌ　（
ｓ、　６１１１　、０．９２　（ｓ、　９１１）　。

１、８０−２．６９　（ｍ、　２１１）　、　３．８０
　（ｄｄ、　Ｊ＝　１２．９１１ｚ。

２、６’ｌｌｚ、　１ｌＩｌ　、　４．２９　（ｄｄ、
　Ｊ＝　１２．９１１ｚ、　２．６１１ｚ、　！ＩＩ）
　。

４．４３−５．６０（ｍ、２１１）、５．６６（ｄ、、
Ｉ＝　８．ＩＩＩｚ、１ｌｌｌ。

６．０３（ｄ、Ｊ＝１５．８１１ｚ、ｌ１ｌ）。

８、０７　（ｄ、　Ｊ・８．１ｌｌｚ、　ＩＨＩ　。

”Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、ＣＣ１，Ｆ　　基準）：　
　δ−ＩｆｌＯ，ｌ　（ｍ）。

５−ｏ−ｔブチルジメチルシリル−２°、３°−ジデオ
キシ−２−フルオロウリジン＋１．３６Ｌ　３．９６ｍ
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１５ｍｌｌ溶液にテト
ラブチルアンモニウムの１Ｍテトラヒドロフラン溶液（
７，９２ｍ１．７．９２ｍｍａｌｌを加え、室温で２時
間攪拌した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー（展開系：クロロホルム／メタノール＝
　２０／＋１で精製し、表掲化合物（７６０ｍｇ、　３
．３２ｍｍｏ１．収率８３．７％）を得た。

’ＩＩ−ＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ）　：δ２．０４−２．６
７　（ｍ、　２ｔｌｌ　。

３、８６　（ｄｄ、　Ｊ・１２．９１１ｚ、２．６１１
ｚ、ｌ１ｌ）。

４、２１　（ｄｄ　、　Ｊ＝　１２．９１１ｚ、　２．
６１１７．、１１１１　。

４、５０−５．３６　［ｍ、　２Ｈ１、５，６６（ｄ、
Ｊ・８．　ｌ１ｌｚ、　Ｉ　ｆｔ１　。

６．１９　（ｄ、Ｊ・ｌ　８．０１ｌｚ、　ｌ　Ｉｌｌ
　。

８、０９　（ｄ、　Ｊ・８．　Ｉｔｌｚ、　ＩＩＩ）”
Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ、ＣＣ１１Ｆ基へ畦）：δ−１
７７、ｌ　（ｍｉ　。

■　２°、３−ジデオキシ−２−フルオロウリジンガ皇
遮 ２°、３−ジデオキシ−２−フルオロウリジン（７００
ｎ＋ｇ、　３．０８ｍｍｏｌ）をピリジン（１０ｍｌ）
に溶解しｊ！１（氷酢酸［０，４４ｍ１，４．６５ｍｍ
ｏｌ）を加え、室温で攪拌した。２時間後、反応液を塩
化メチレン（２０ｍＬ）で希釈し、飽和重曹水（２０ｍ
ｌ）で洗浄した。有機層を分離後、水層を塩化メチレン
（ＩＯｍｌｘ２）で抽出した。有機層を合せ、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得ら
れた残渣をアセトニトリルｆｌＯｍｌ）に溶解し、水冷
下、トリエチルアミン（１，３ｍｌ、　９．３ｍｍｏｌ
）を加え、さらに２−メシチレンスルホニルクロリドｆ
２．０３ｇ、　９．３ｍｍｏ　ｌ）を加え、室温で２時
間攪拌した。溶媒を真空ポンプを用いて減圧留去し、残
漬にアンモニア飽和メタノール（ＩＯｍｌｌを加え、室
温で１４時間攪拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣を
陰イオン交換樹脂（ＣＧ１２０）で稍製し、表掲化合物
（５０３ｇ、　２．２２ｍｍｏ！、収率７２．２％）を
得た。

’ＩＩ−ＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ）　：δ１．９９−２．６
９　（ｍ、　２Ｈ）　。

３．９０（ｄｄ、Ｊ１２．９１１ｚ、３．　ｌＨｚ、　
１Ｉｌｌ。

４、２３　（ｄｄ、　Ｊ＝１２．９１１ｚ、　３．１１
１７．、１＋１１　。

４、５０−５．８０　ｉｎ、　２１１）　、　６．０５
　（ｄ、　Ｊ＝７．５１１ｚ、　ＩＩＩ）　。

６、１５（ｄ、Ｊ１７．　ｌ１ｌｚ、　ｆｉｌｌ。

８、３１　ｆｄ、　Ｊ＝７．５１１７．、１ｌＩｌ　。

”　Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ、ＣＣ１，Ｆ基準）：δ−
１７７，３（ｍ）。

実施例２ ５−０−ｊ−ブチルジメチルシリル−２−フルオロチミ
ジンｌ０３ｍｇ　（０，２７５ｍｍａｌｌ　　と４−ジ
メチルアミノピリジンｆＤＭＡＰ）　１０８　ｍｇｆｏ
、　８２５ｍｍａｌｌ　を塩化メチレン２ｍｌに溶解し
、水冷下フェニルクロロチオノカーボナートロ、０７６
ｍ１　（０，５５ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて１時間
攪拌後、飽和重曹水２０ｍ１を加え、クロロホルム（２
０ｍｌ　ｘ　３　）にて抽出した。飽和食塩水２０ｍ１
による洗浄、無水硫酸マグネシウムによる乾燥後、減圧
濃縮し、粗生成物１５０　ｍｇを得た。シリカゲルカラ
ム精製の後に、目的の表掲化合物１１３　ｍｇ（８０９
６）得た。

”Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，ＣＦＣｌ、基準）ニー２０
１．ｌｐｐｍ（ｄｄ、Ｊ＝　　４６．８１１ｚｌ。

’ＩＩ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，ｌ　： δＯ，ｌＮｓ、６１１）、０．９１　（ｓ、９１１１．
１．９（ｓ、３１１）。

３、７−４．３　（ｍ、　３１１１　、４．９　（ｄｄ
ｄ、　Ｊ＝４６．９．３１１ｚ、　１ｌｉ）　。

６、０　（ｄ、　Ｊ＝’１ｌｌｚ、　１ｉｔ）　、　６
．４−６．７　（ｍ、　１ＩＩｌ　。

６、８−７．７　（ｍ、　５１１）　、　７．２　（ｂ
ｓ、　ＩＩり　。

５−ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−０−フェニル
オキシチオカルボニル−２°−フルオロチミジン１１０
ｍｇ（０，２１５ｍｍｏｌ）とａ、ａ−アゾイソブチロ
ニトリル（ＡＩＩ３Ｎｌ　ｌＱｍｇをトルエン３ｍｌに
溶解し、トリブチルスズヒドリド０．２９ｍ１　（１，
０８ｍｍｏｌ）を加えた。９０℃にて３０分間攪拌した
後、反応液を減圧濃縮した。シリカゲルカラム精製の後
に、目的の表掲化合物を７５　ｍｇ（９７％）得た。

”　Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、ＣＦＣｌ、基県）ニー１
８’１．’ｌｐｐｍ（ｄｍ、Ｊ□　４９１１ｚ）’ＩＩ
−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）　： δ　０１口８　（ｓ、　６１１）　、０．９　（ｓ、９
１１）、１．２−２．７　（ｍ、２Ｈ）。

２．０（ｓ、３１１）、３．２−４．１（ｍ、３１１）
、４．５（ｄｍ、Ｊ□４Ｑｌｌｚ。

１１１）、５．７（ｄｄ、Ｊ＝９．３１１ｚ、ｌｌｌ１
．７．２（ｂｓ、１１１１３−デオキシ−２゛−フルオ
ロチミジンの今１５−０（−ブチルジメチルシリル−３
−デオキシ−２°−フルオロチミジン７４．３ｍｇ（０
，２０８ｍｍａｌｌ　をテトラ、ヒドロフラン（ＴＩＩ
Ｆ）　　２ｍｌに溶解し、テトラブチルアンモニウムフ
ルオリド（１モルＴＩＩＦ溶液）　０．３１ｍ１　（０
，３１０ｍｍａｌｌ　を加えた。室温にて１時間攪拌し
た後、反応液を減圧濃縮した。シリカゲルカラム精製の
後に、目的の表掲化合物を４０　ｍｇ　（７’１％）得
た。

”　Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ、：ｃＤｃ１３基県）・
−１８５，ｌ　（ｄｍ、　Ｊ・５３１１ｚｌ　。

’ＩＩ−ＮＭＲ（ＣＤ３０Ｄ）　： ６１．１３−３．０（ｍ、２１１１．２．０（ｄ、Ｊ＝
ｌｌｌｚ、３１１）。

３．６−４．４（ｍ、３１１）、４．５−５．４（ｍ、
１ｔｌ）。

５、８　（ｄｄ、　Ｊ＝９．３１１ｚ、　ｌｌｌ１　、
　？、　８　（ｄ、　Ｊ＝ｌＩｌｚ、　１ｉｔ）　。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式［ I ］で表わされる２，３−ジデオキシ２
   −フルオロペントフラノシド類。 ▲数式、化学式、表等があります▼−−−［ I ］ Ｒ＾１：保護基を有していてもよい核酸塩基類の残基、
   ハロゲン原子、あるいは−ＯＸ 基（ただし、Ｘは水素原子、水酸基の保護基、あるいは
   アルキル基）