JP2570194B2 - リボフラノシド誘導体 - Google Patents
リボフラノシド誘導体Info
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- JP2570194B2 JP2570194B2 JP6184519A JP18451994A JP2570194B2 JP 2570194 B2 JP2570194 B2 JP 2570194B2 JP 6184519 A JP6184519 A JP 6184519A JP 18451994 A JP18451994 A JP 18451994A JP 2570194 B2 JP2570194 B2 JP 2570194B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフッ素原子を有するリボ
フラノシド誘導体に関するものである。
フラノシド誘導体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フッ素原子を有する糖は、医薬や生化学
用薬剤などの重要な構成単位として、また糖自身がもつ
生理活性の面から近年注目されている。たとえば、含フ
ッ素糖を有するヌクレオシドは抗ウィルス剤や抗腫瘍剤
として知られている。具体的には、２−デオキシ−２，
２−ジフルオロ−リボフラノシド誘導体（特開昭59−17
5498号公報参照）や３−デオキシ−３−フルオロ -α−
Ｄ−キシロフラノシド誘導体（J.A,Wright他, Carbohyd
rate Research,18, 345-347(1971),およびY,Fouron他,
J.Org.chem., 39 ,1564-1570(1974)参照）が知られてい
る。また、３−デオキシ−３−フルオロ−Ｄ−アラビノ
ース類およびそれを用いて３’−デオキシ−３’−フル
オロウリジンを製造する方法も知られている（G.Kowoll
ik他,J.CARBOHYDRATES・NUCLEOSIDES・NUCLEOTIDES,2(3),
191-195(1975) ）。
用薬剤などの重要な構成単位として、また糖自身がもつ
生理活性の面から近年注目されている。たとえば、含フ
ッ素糖を有するヌクレオシドは抗ウィルス剤や抗腫瘍剤
として知られている。具体的には、２−デオキシ−２，
２−ジフルオロ−リボフラノシド誘導体（特開昭59−17
5498号公報参照）や３−デオキシ−３−フルオロ -α−
Ｄ−キシロフラノシド誘導体（J.A,Wright他, Carbohyd
rate Research,18, 345-347(1971),およびY,Fouron他,
J.Org.chem., 39 ,1564-1570(1974)参照）が知られてい
る。また、３−デオキシ−３−フルオロ−Ｄ−アラビノ
ース類およびそれを用いて３’−デオキシ−３’−フル
オロウリジンを製造する方法も知られている（G.Kowoll
ik他,J.CARBOHYDRATES・NUCLEOSIDES・NUCLEOTIDES,2(3),
191-195(1975) ）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】フッ素原子は水酸基に
比較して炭素原子に対する結合力が極めて大きく、不活
性で、かつ疎水性であり、しかも水酸基に近似した原子
サイズを有する。したがって、糖の水酸基をフッ素原子
に置換すると代謝括抗作用などの面で優れた効果を期待
しうる。一方、糖としては、ヌクレオシドの構成単位で
あるリボースや２−デオキシリボースが応用範囲が広
い。しかし、上記公知の含フッ素糖は、リボースや２−
デオキシリボースの水酸基の立体的位置のみにフッ素原
子が置換されていない。たとえば、２−デオキシ−２，
２−ジフルオロリボフラノシド誘導体であっては本来水
酸基の存在しなかった位置にもフッ素原子が存在し、３
−デオキシ−３−フルオロ−β−Ｄ−キシロフラノシド
誘導体（下記式 [III]参照）にあっては、リボースの水
酸基の存在する位置にフッ素原子が存在していない。
比較して炭素原子に対する結合力が極めて大きく、不活
性で、かつ疎水性であり、しかも水酸基に近似した原子
サイズを有する。したがって、糖の水酸基をフッ素原子
に置換すると代謝括抗作用などの面で優れた効果を期待
しうる。一方、糖としては、ヌクレオシドの構成単位で
あるリボースや２−デオキシリボースが応用範囲が広
い。しかし、上記公知の含フッ素糖は、リボースや２−
デオキシリボースの水酸基の立体的位置のみにフッ素原
子が置換されていない。たとえば、２−デオキシ−２，
２−ジフルオロリボフラノシド誘導体であっては本来水
酸基の存在しなかった位置にもフッ素原子が存在し、３
−デオキシ−３−フルオロ−β−Ｄ−キシロフラノシド
誘導体（下記式 [III]参照）にあっては、リボースの水
酸基の存在する位置にフッ素原子が存在していない。
【０００４】
【化２】
【０００５】さらに、３−デオキシ−３−フルオロ−Ｄ
−アラビノース類から３’−デオキシ−３’−フルオロ
ウリジンを製造する方法においては、Ｄ−アラビノース
類の２’位の水酸基とウラシルの２位の炭素原子との間
が結合した中間体を経由することが必要であること、お
よびその後に糖の２’位の水酸基の位置の転換が必要な
ことより、この方法により製造できるヌクレオシドの種
類が限定される。
−アラビノース類から３’−デオキシ−３’−フルオロ
ウリジンを製造する方法においては、Ｄ−アラビノース
類の２’位の水酸基とウラシルの２位の炭素原子との間
が結合した中間体を経由することが必要であること、お
よびその後に糖の２’位の水酸基の位置の転換が必要な
ことより、この方法により製造できるヌクレオシドの種
類が限定される。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、リボースの
３位の水酸基の立体的位置にフッ素原子を導入すべく研
究検討した結果、新規な含フッ素糖である３−デオキシ
−３−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体の製造法を
見い出すに至った。この方法で得られる含フッ素糖は含
フッ素ヌクレオシド類の合成中間体として有用であり、
それを糖部分とする含フッ素ヌクレオシド類を容易に製
造することができる。本発明はこの方法で合成すること
のできた下記新規なリボフラノシド誘導体である。
３位の水酸基の立体的位置にフッ素原子を導入すべく研
究検討した結果、新規な含フッ素糖である３−デオキシ
−３−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体の製造法を
見い出すに至った。この方法で得られる含フッ素糖は含
フッ素ヌクレオシド類の合成中間体として有用であり、
それを糖部分とする含フッ素ヌクレオシド類を容易に製
造することができる。本発明はこの方法で合成すること
のできた下記新規なリボフラノシド誘導体である。
【０００７】下記式［Ｉ］で表される３−デオキシ−３
−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体。ただし、式
［Ｉ］においてＲは水酸基、アルコキシ基、あるいはフ
ッ素原子を除くハロゲン原子を表し、Ｒ1 、Ｒ2 はそれ
ぞれ独立に水素原子あるいは保護基を表す。
−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体。ただし、式
［Ｉ］においてＲは水酸基、アルコキシ基、あるいはフ
ッ素原子を除くハロゲン原子を表し、Ｒ1 、Ｒ2 はそれ
ぞれ独立に水素原子あるいは保護基を表す。
【０００８】
【化３】
【０００９】上記式［Ｉ］で表される３−デオキシ−３
−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体はＲに対応する
部分がプリン系核酸塩基類の残基である含フッ素ヌクレ
オシド類を合成するための中間体として有用な含フッ素
リボフラノシド類である。Ｒの位置はβ位（前記式
［Ｉ］において図上方）であってもよく、α位であって
もよい。また、その位置がβ位である化合物とα位であ
る化合物の混合物となってもよい。
−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体はＲに対応する
部分がプリン系核酸塩基類の残基である含フッ素ヌクレ
オシド類を合成するための中間体として有用な含フッ素
リボフラノシド類である。Ｒの位置はβ位（前記式
［Ｉ］において図上方）であってもよく、α位であって
もよい。また、その位置がβ位である化合物とα位であ
る化合物の混合物となってもよい。
【００１０】
【００１１】Ｒがアルコキシ基あるいはフッ素原子を除
くハロゲン原子の場合、そのアルコキシ基としては、低
級アルコキシ基（炭素数４以下のものをいう）、特にメ
トキシ基、が好ましい。フッ素原子を除くハロゲン原子
は、塩素原子、臭素原子、あるいはヨウ素原子であり、
特に臭素原子が好ましい。式［Ｉ］において、Ｒ1 とＲ
2 は水素原子あるいは保護基からなり、最終的にはＲ1
とＲ2 はいずれも水素原子からなる。Ｒ1 とＲ2 が保護
基である式［Ｉ］で表される化合物は脱保護により容易
にＲ1 とＲ2 が水酸基である式［Ｉ］で表される化合物
に変換できる。しかし式［Ｉ］で表される３−デオキシ
−３−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体からさらに
誘導体を合成する場合にはＲ1 やＲ2 が保護基である化
合物を用いることができる。Ｒ1 とＲ2 が保護基である
場合、両者は互いに異なっていてもよい。
くハロゲン原子の場合、そのアルコキシ基としては、低
級アルコキシ基（炭素数４以下のものをいう）、特にメ
トキシ基、が好ましい。フッ素原子を除くハロゲン原子
は、塩素原子、臭素原子、あるいはヨウ素原子であり、
特に臭素原子が好ましい。式［Ｉ］において、Ｒ1 とＲ
2 は水素原子あるいは保護基からなり、最終的にはＲ1
とＲ2 はいずれも水素原子からなる。Ｒ1 とＲ2 が保護
基である式［Ｉ］で表される化合物は脱保護により容易
にＲ1 とＲ2 が水酸基である式［Ｉ］で表される化合物
に変換できる。しかし式［Ｉ］で表される３−デオキシ
−３−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体からさらに
誘導体を合成する場合にはＲ1 やＲ2 が保護基である化
合物を用いることができる。Ｒ1 とＲ2 が保護基である
場合、両者は互いに異なっていてもよい。
【００１２】水酸基の保護基である場合のＲ1 とＲ2 、
および後述のＲ4 とＲ5 は公知の水酸基の保護基が適当
である。たとえば、トリオルガノシリル基、アシル基、
アルアルキル基などがある。トリオルガノシリル基にお
ける有機基としてはアルキル基、アリール基、アルアル
キル基がある。アリール基やアルアルキル基の芳香核は
アルキル基やアルコキシ基などの置換基を有していても
よい。このアルキル基としては炭素数６以下、特に４以
下のアルキル基が好ましく、アリール基としてはフェニ
ル基が好ましく、アルアルキル基としてはベンジル基が
好ましい。また、ケイ素原子に結合する３個の上記有機
基は同一でも互いに異なっていてもよい。
および後述のＲ4 とＲ5 は公知の水酸基の保護基が適当
である。たとえば、トリオルガノシリル基、アシル基、
アルアルキル基などがある。トリオルガノシリル基にお
ける有機基としてはアルキル基、アリール基、アルアル
キル基がある。アリール基やアルアルキル基の芳香核は
アルキル基やアルコキシ基などの置換基を有していても
よい。このアルキル基としては炭素数６以下、特に４以
下のアルキル基が好ましく、アリール基としてはフェニ
ル基が好ましく、アルアルキル基としてはベンジル基が
好ましい。また、ケイ素原子に結合する３個の上記有機
基は同一でも互いに異なっていてもよい。
【００１３】保護基としては具体的には、たとえば、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメ
チルシリル基、フェニルジメチルシリル基、アセチル
基、ベンゾイル基、ベンジル基、トリチル基、トリス
（p-メトキシフェニル）メチル基などがある。さらに、
ある場合には、アルキル基を保護基として使用しうる。
このアルキル基としては低級アルキル基、特にメチル基
が適当である。
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメ
チルシリル基、フェニルジメチルシリル基、アセチル
基、ベンゾイル基、ベンジル基、トリチル基、トリス
（p-メトキシフェニル）メチル基などがある。さらに、
ある場合には、アルキル基を保護基として使用しうる。
このアルキル基としては低級アルキル基、特にメチル基
が適当である。
【００１４】Ｒが水酸基、アルコキシ基、あるいはフッ
素原子を除くハロゲン原子である本発明の化合物は種々
の含フッ素ヌクレオシド類の合成中間体として有用であ
る。すなわち、そのＲを種々の核酸塩基類の残基に容易
に変換できる。たとえば前記公知例に記載の３’−デオ
キシ−３’−フルオロウリジンをこの合成中間体から容
易に合成できるのみならず、他のピリミジン残基の導入
も下記プリン残基の導入と同様に容易である。また、含
フッ素ヌクレオシド類は、抗ウィルス剤や抗腫瘍剤など
の生理活性物質として有用である。
素原子を除くハロゲン原子である本発明の化合物は種々
の含フッ素ヌクレオシド類の合成中間体として有用であ
る。すなわち、そのＲを種々の核酸塩基類の残基に容易
に変換できる。たとえば前記公知例に記載の３’−デオ
キシ−３’−フルオロウリジンをこの合成中間体から容
易に合成できるのみならず、他のピリミジン残基の導入
も下記プリン残基の導入と同様に容易である。また、含
フッ素ヌクレオシド類は、抗ウィルス剤や抗腫瘍剤など
の生理活性物質として有用である。
【００１５】本発明の式［Ｉ］で表される３−デオキシ
−３−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体は、次の方
法で合成することができる。すなわち、式[II]で表され
るフラノシド誘導体をフッ素化して式[I']で表されるリ
ボフラノシド類を合成することができる。この式[I']で
表されるリボフラノシド類は［Ｉ］で表される化合物の
１種である。また、式[I']で表されるリボフラノシド類
にプリン系核酸塩基類の残基を導入することにより、含
フッ素ヌクレオシド類が得られる。この場合、後述する
ようにフッ素化反応で得られた式[I']で表されるリボフ
ラノシド類とプリン系核酸塩基類残基の導入のための出
発原料である式[I']で表されるリボフラノシド類とは、
特に保護基の種類の点で異なるものであることが好まし
い。
−３−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体は、次の方
法で合成することができる。すなわち、式[II]で表され
るフラノシド誘導体をフッ素化して式[I']で表されるリ
ボフラノシド類を合成することができる。この式[I']で
表されるリボフラノシド類は［Ｉ］で表される化合物の
１種である。また、式[I']で表されるリボフラノシド類
にプリン系核酸塩基類の残基を導入することにより、含
フッ素ヌクレオシド類が得られる。この場合、後述する
ようにフッ素化反応で得られた式[I']で表されるリボフ
ラノシド類とプリン系核酸塩基類残基の導入のための出
発原料である式[I']で表されるリボフラノシド類とは、
特に保護基の種類の点で異なるものであることが好まし
い。
【００１６】
【化４】
【００１７】
【化５】
【００１８】ただし、式[I']、式[II]において、Ｒ3 は
Ｒと同じアルコキシ基あるいはフッ素原子を除くハロゲ
ン原子であり、Ｒ4 とＲ5 はいずれも水酸基の保護基で
ある。Ｙは水素原子あるいは脱離基を表す。Ｒ3 はフッ
素化反応においてはアルコキシ基であることが好まし
い。
Ｒと同じアルコキシ基あるいはフッ素原子を除くハロゲ
ン原子であり、Ｒ4 とＲ5 はいずれも水酸基の保護基で
ある。Ｙは水素原子あるいは脱離基を表す。Ｒ3 はフッ
素化反応においてはアルコキシ基であることが好まし
い。
【００１９】フッ素化反応において２位や３位の水酸基
部分がフッ素化等の影響を受けないためにはＲ4 とＲ5
はいずれも保護基である必要がある。Ｒ4 とＲ5 はそれ
ぞれ対応する保護基である場合のＲ1 とＲ2 と同じ保護
基であってもよく、他の保護基であってもよい。同様の
理由でＲ3 はアルコキシ基であることが好ましい。ま
た、その位置はβ位であることが好ましい。
部分がフッ素化等の影響を受けないためにはＲ4 とＲ5
はいずれも保護基である必要がある。Ｒ4 とＲ5 はそれ
ぞれ対応する保護基である場合のＲ1 とＲ2 と同じ保護
基であってもよく、他の保護基であってもよい。同様の
理由でＲ3 はアルコキシ基であることが好ましい。ま
た、その位置はβ位であることが好ましい。
【００２０】上記のようにＲ4 とＲ5 はいずれも水酸基
の保護基であり、両者は同一であっても異っていてもよ
い。そのうち、Ｒ5 はアルキル基やアルアルキル基が好
ましく、特にベンジル基などのアルアルキル基が好まし
い。Ｒ4 はアルキル基以外の保護基、たとえばトリアル
キルシリル基やアルアルキル基が好ましく、特にt-ブチ
ルジメチルシリル基が好ましい。
の保護基であり、両者は同一であっても異っていてもよ
い。そのうち、Ｒ5 はアルキル基やアルアルキル基が好
ましく、特にベンジル基などのアルアルキル基が好まし
い。Ｒ4 はアルキル基以外の保護基、たとえばトリアル
キルシリル基やアルアルキル基が好ましく、特にt-ブチ
ルジメチルシリル基が好ましい。
【００２１】Ｙは水素原子であってもよいが、３位に結
合した水酸基のフッ素化は必ずしも容易ではなく、好ま
しくは脱離基を導入した後フッ素化が行われている。こ
の脱離基は３位の水酸基を活性化した後フッ素化を容易
にする基であり、たとえば、メタンスルホニル基、トリ
フルオロメタンスルホニル基、p-トルエンスルホニル
基、イミダゾリルスルホニル基、アセチル基、トリメチ
ルシリル基などがある。特にトリフルオロメタンスルホ
ニル基が活性化作用が高く、好ましい脱離基として使用
される。
合した水酸基のフッ素化は必ずしも容易ではなく、好ま
しくは脱離基を導入した後フッ素化が行われている。こ
の脱離基は３位の水酸基を活性化した後フッ素化を容易
にする基であり、たとえば、メタンスルホニル基、トリ
フルオロメタンスルホニル基、p-トルエンスルホニル
基、イミダゾリルスルホニル基、アセチル基、トリメチ
ルシリル基などがある。特にトリフルオロメタンスルホ
ニル基が活性化作用が高く、好ましい脱離基として使用
される。
【００２２】出発原料である前記式[II]で表されるフラ
ノシド誘導体は立体特異的に合成される必要がある。ま
た、３位の水酸基を除く他の水酸基はフッ素化反応を受
けないように選択的に保護されていなくてはならない。
これらの理由により、式[II]で表されるフラノシド誘導
体は下記の経路で合成されることが好ましい。なお、こ
の場合のＲ3 はアルコキシ基であるとする。
ノシド誘導体は立体特異的に合成される必要がある。ま
た、３位の水酸基を除く他の水酸基はフッ素化反応を受
けないように選択的に保護されていなくてはならない。
これらの理由により、式[II]で表されるフラノシド誘導
体は下記の経路で合成されることが好ましい。なお、こ
の場合のＲ3 はアルコキシ基であるとする。
【００２３】
【化６】
【００２４】Ｒ6 はアルキリデン基を表し、炭素数７以
下のアルキリデン基が好ましく、特にイソプロピリデン
基が好ましい。式(1) の化合物は３位と５位の水酸基が
このアルキリデン基で保護されたβ−Ｄ−キシロフラノ
シド誘導体であり、この化合物の２位の水酸基を前記Ｒ
5 、特にベンジル基、で保護して式(2) で表されるキシ
ロフラノシド誘導体とする。次にＲ6 を外して、３位と
５位の水酸基を脱保護する。この脱保護は酸触媒存在下
で容易に行いうる。
下のアルキリデン基が好ましく、特にイソプロピリデン
基が好ましい。式(1) の化合物は３位と５位の水酸基が
このアルキリデン基で保護されたβ−Ｄ−キシロフラノ
シド誘導体であり、この化合物の２位の水酸基を前記Ｒ
5 、特にベンジル基、で保護して式(2) で表されるキシ
ロフラノシド誘導体とする。次にＲ6 を外して、３位と
５位の水酸基を脱保護する。この脱保護は酸触媒存在下
で容易に行いうる。
【００２５】酸触媒としては硫酸や塩酸などの無機酸や
酢酸などの有機酸を使用しうるが、酢酸を用いるのが簡
便である。このとき、Ｒ5 は脱離してはならず、したが
って前記のような保護基が採用される。得られた式(3)
で表される化合物の５位の水酸基を選択的に保護基Ｒ
4 、特にt-ブチルジメチルシリル基で保護することによ
り、式(4) で表される化合物が得られる。
酢酸などの有機酸を使用しうるが、酢酸を用いるのが簡
便である。このとき、Ｒ5 は脱離してはならず、したが
って前記のような保護基が採用される。得られた式(3)
で表される化合物の５位の水酸基を選択的に保護基Ｒ
4 、特にt-ブチルジメチルシリル基で保護することによ
り、式(4) で表される化合物が得られる。
【００２６】次に、３位の水酸基に脱離基Ｙ’を導入し
て目的とする式(5) で表される化合物を得る。これら式
(4) および(5) で表される化合物は前記式[II]で表され
る化合物の１種である。このような反応経路を採用する
理由は、２位と３位の水酸基の反応性が近似しているた
め、２位の水酸基のみに保護基を導入する必要があるこ
と、および３位の水酸基の立体位置を保持させる必要が
あることによる。
て目的とする式(5) で表される化合物を得る。これら式
(4) および(5) で表される化合物は前記式[II]で表され
る化合物の１種である。このような反応経路を採用する
理由は、２位と３位の水酸基の反応性が近似しているた
め、２位の水酸基のみに保護基を導入する必要があるこ
と、および３位の水酸基の立体位置を保持させる必要が
あることによる。
【００２７】式[II]で表されるフラノシド誘導体をフッ
素化して３位にフッ素原子を導入する反応は、フッ素化
剤を用いて行われる。フッ素化により式[I']で表される
リボフラノシド類が得られる。この反応時下記のように
式[II]で表される化合物におけるＲ4 とＲ5 の一部〜全
部が脱保護され、水素原子であってもよい対応するＲ1
とＲ2 になる。
素化して３位にフッ素原子を導入する反応は、フッ素化
剤を用いて行われる。フッ素化により式[I']で表される
リボフラノシド類が得られる。この反応時下記のように
式[II]で表される化合物におけるＲ4 とＲ5 の一部〜全
部が脱保護され、水素原子であってもよい対応するＲ1
とＲ2 になる。
【００２８】フッ素化剤としては、公知のフッ素化剤を
使用しうるが、特にフッ素化テトラアルキル（あるいは
アルアルキル）アンモニウムが適当である。アルキル基
としては低級アルキル基、アルアルキル基としてはベン
ジル基が適当であり、４個のアルキル基やアルアルキル
基は異っていてもよく、アルキル基とアルアルキル基の
両者からなっていてもよい。好ましくは、フッ素化テト
ラブチルアンモニウムが使用される。これらフッ素化剤
は通常テトラビドロフランなどの不活性溶媒に溶解して
使用される。フッ素化反応は通常不活性溶媒中数十度以
下の温度で行われ、特に約 0℃〜室温下で行われること
が好ましい。
使用しうるが、特にフッ素化テトラアルキル（あるいは
アルアルキル）アンモニウムが適当である。アルキル基
としては低級アルキル基、アルアルキル基としてはベン
ジル基が適当であり、４個のアルキル基やアルアルキル
基は異っていてもよく、アルキル基とアルアルキル基の
両者からなっていてもよい。好ましくは、フッ素化テト
ラブチルアンモニウムが使用される。これらフッ素化剤
は通常テトラビドロフランなどの不活性溶媒に溶解して
使用される。フッ素化反応は通常不活性溶媒中数十度以
下の温度で行われ、特に約 0℃〜室温下で行われること
が好ましい。
【００２９】前記式[II]で表されるフラノシド誘導体を
フッ素化することにより、フッ素原子がＯＹ基の立体的
に反対の側に結合し、ＯＹが脱離する。通常、このフッ
素化と同時に、５位の水酸基の保護基が外れ、Ｒ1 が水
素原子である式[I']で表される３−デオキシ−３−フル
オロ−Ｄ−リボフラノシド類が得られる。その後必要に
より２位の保護基Ｒ2 を脱保護することができる。
フッ素化することにより、フッ素原子がＯＹ基の立体的
に反対の側に結合し、ＯＹが脱離する。通常、このフッ
素化と同時に、５位の水酸基の保護基が外れ、Ｒ1 が水
素原子である式[I']で表される３−デオキシ−３−フル
オロ−Ｄ−リボフラノシド類が得られる。その後必要に
より２位の保護基Ｒ2 を脱保護することができる。
【００３０】式[I']で表される３−デオキシ−３−フル
オロ−Ｄ−リボフラノシド類にプリン系核酸塩基類残基
の導入を行うことにより、前記式［Ｉ］におけるＲがプ
リン系核酸塩基類残基に置換された（ただし、プリン系
核酸塩基類残基の位置はβ位）化合物、すなわち含フッ
素ヌクレオシド類が得られる。この反応を行う際、２位
と５位の水酸基は通常保護されている必要がある。した
がって、前記フッ素化反応で得られた式[I']で表される
化合物の２位や５位の水酸基が保護されていない場合に
は、その保護をまず行う。上記のようにフッ素化反応で
は通常は５位の水酸基が保護されていない化合物が生成
するためこの５位の水酸基の保護を行う。また、前述の
ように２位の水酸基の保護基が脱保護しにくい保護基
（たとえば、ベンジル基）である場合にはこの段階で脱
保護しやすい保護基に変換しておくことが好ましい。す
なわち、５位が水酸基である状態で２位の水酸基の脱保
護を行い、次いで２位と５位の水酸基を保護することが
好ましい。
オロ−Ｄ−リボフラノシド類にプリン系核酸塩基類残基
の導入を行うことにより、前記式［Ｉ］におけるＲがプ
リン系核酸塩基類残基に置換された（ただし、プリン系
核酸塩基類残基の位置はβ位）化合物、すなわち含フッ
素ヌクレオシド類が得られる。この反応を行う際、２位
と５位の水酸基は通常保護されている必要がある。した
がって、前記フッ素化反応で得られた式[I']で表される
化合物の２位や５位の水酸基が保護されていない場合に
は、その保護をまず行う。上記のようにフッ素化反応で
は通常は５位の水酸基が保護されていない化合物が生成
するためこの５位の水酸基の保護を行う。また、前述の
ように２位の水酸基の保護基が脱保護しにくい保護基
（たとえば、ベンジル基）である場合にはこの段階で脱
保護しやすい保護基に変換しておくことが好ましい。す
なわち、５位が水酸基である状態で２位の水酸基の脱保
護を行い、次いで２位と５位の水酸基を保護することが
好ましい。
【００３１】具体的には、たとえば前記式(5) で表され
る化合物のフッ素化により下記式(6) で表される化合物
を得て、次に、２位の水酸基を脱保護し、下記式(7) の
ジオールとする。２位の水酸基の保護基Ｒ5 の脱離は水
素添加などによって行われる。たとえば、Ｒ5 がベンジ
ル基の場合、パラジウム黒などを触媒として水素添加に
より脱離される。その後２位と５位の水酸基を再び保護
する。この保護基としては、アセチル基やベンゾイル基
などのアシル基を採用しうる。
る化合物のフッ素化により下記式(6) で表される化合物
を得て、次に、２位の水酸基を脱保護し、下記式(7) の
ジオールとする。２位の水酸基の保護基Ｒ5 の脱離は水
素添加などによって行われる。たとえば、Ｒ5 がベンジ
ル基の場合、パラジウム黒などを触媒として水素添加に
より脱離される。その後２位と５位の水酸基を再び保護
する。この保護基としては、アセチル基やベンゾイル基
などのアシル基を採用しうる。
【００３２】
【化７】
【００３３】核酸塩基類の残基の導入は種々の方法で行
いうる。たとえば、前記Wrightの文献に記載の方法など
を採用しうる。この方法は、１位の水酸基やその誘導基
を臭素原子に置換し、この水素原子を核酸塩基類の残基
に置換する方法である。具体的には、上記式(7) で表さ
れる化合物の２個の水酸基を保護し、これを臭化水素−
酢酸溶液でそのＲ3 を臭素原子に変換し、次いでこのブ
ロミドと６−ベンズアミノプリンなどの反応性プリン誘
導体とをシアン化第２水銀存在下ニトロメタン中で反応
させて臭素原子をプリン残基に置換する。最後に保護基
を外すことにより、含フッ素ヌクレオシド類が得られ
る。なお、この核酸塩基類の残基の導入はピリミジン系
核酸塩基類の残基の導入についても同様に行うことがで
きる。
いうる。たとえば、前記Wrightの文献に記載の方法など
を採用しうる。この方法は、１位の水酸基やその誘導基
を臭素原子に置換し、この水素原子を核酸塩基類の残基
に置換する方法である。具体的には、上記式(7) で表さ
れる化合物の２個の水酸基を保護し、これを臭化水素−
酢酸溶液でそのＲ3 を臭素原子に変換し、次いでこのブ
ロミドと６−ベンズアミノプリンなどの反応性プリン誘
導体とをシアン化第２水銀存在下ニトロメタン中で反応
させて臭素原子をプリン残基に置換する。最後に保護基
を外すことにより、含フッ素ヌクレオシド類が得られ
る。なお、この核酸塩基類の残基の導入はピリミジン系
核酸塩基類の残基の導入についても同様に行うことがで
きる。
【００３４】以下、本発明を実施例等により具体的に説
明するが、本発明はこれら実施例に限られるものではな
い。なお、合成例は、前記式[II]で表される化合物の合
成例であり、実施例１は式[II]で表される化合物のフッ
素化とその生成物である式[I']で表される化合物（より
具体的には前記式(6) で表される化合物）の例である。
また、参考例１〜３は前記式(6) で表される本発明の化
合物から含フッ素ヌクレオシド類を合成する例であり、
本発明のこの化合物を合成中間体として含フッ素ヌクレ
オシド類を容易に合成できることを示す。
明するが、本発明はこれら実施例に限られるものではな
い。なお、合成例は、前記式[II]で表される化合物の合
成例であり、実施例１は式[II]で表される化合物のフッ
素化とその生成物である式[I']で表される化合物（より
具体的には前記式(6) で表される化合物）の例である。
また、参考例１〜３は前記式(6) で表される本発明の化
合物から含フッ素ヌクレオシド類を合成する例であり、
本発明のこの化合物を合成中間体として含フッ素ヌクレ
オシド類を容易に合成できることを示す。
【００３５】
［合成例１］メチル 2-O-ベンジル-3,5-O- イソプロピ
リデン−β−D-キシロフラノシド［式(2) において、Ｒ
3 がメトキシ基、Ｒ5 がベンジル基、Ｒ6 がイソプロピ
リデン基である化合物］の合成。
リデン−β−D-キシロフラノシド［式(2) において、Ｒ
3 がメトキシ基、Ｒ5 がベンジル基、Ｒ6 がイソプロピ
リデン基である化合物］の合成。
【００３６】メチル 3,5-O-イソプロピリデン−β−D-
キシロフラノシド 12.6g(61.6mmol)と、酸化銀(15.0g)
の N,N- ジメチルホルムアミド懸濁液にベンジルブロミ
ド(21.1g) を加え、室温で36時間撹拌した。反応液を濾
過し、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。カラ
ムクロマトグラフ精製して、ベンジルエーテル12.6g(収
率69％）を得た。
キシロフラノシド 12.6g(61.6mmol)と、酸化銀(15.0g)
の N,N- ジメチルホルムアミド懸濁液にベンジルブロミ
ド(21.1g) を加え、室温で36時間撹拌した。反応液を濾
過し、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。カラ
ムクロマトグラフ精製して、ベンジルエーテル12.6g(収
率69％）を得た。
【００３７】1H-NMR(CDCl3):δ 1.38(s,6H),3.41(s,3
H),3.8-4.5(m,5H),4.59(s,2H),4.98(s,1H),7.32(s,5H)
。
H),3.8-4.5(m,5H),4.59(s,2H),4.98(s,1H),7.32(s,5H)
。
【００３８】［合成例２］メチル 2-O-ベンジル−β−
D-キシロフラノシド［式(3) において、Ｒ3 がメトキシ
基、Ｒ5 がベンジル基である化合物］の合成。
D-キシロフラノシド［式(3) において、Ｒ3 がメトキシ
基、Ｒ5 がベンジル基である化合物］の合成。
【００３９】メチル 2-O-ベンジル−3,5-O-イソプロピ
リデン−β−D-キシロフラノシド 30.1g(0.10mol) を酢
酸(60ml)−水(24ml)溶液に溶解し、50℃の湯浴上で１時
間反応させた。湯浴を50℃に保ったままで低沸点物を溜
出させた。カラムマトグラフで精製し、ジオール20.9g
(収率80％）を得た。 Rf 0.40(ベンゼン−酢酸エチル＝１：１）。
リデン−β−D-キシロフラノシド 30.1g(0.10mol) を酢
酸(60ml)−水(24ml)溶液に溶解し、50℃の湯浴上で１時
間反応させた。湯浴を50℃に保ったままで低沸点物を溜
出させた。カラムマトグラフで精製し、ジオール20.9g
(収率80％）を得た。 Rf 0.40(ベンゼン−酢酸エチル＝１：１）。
【００４０】［合成例３］メチル 2-O-ベンジル−5-O-
t-ブチルジメチル−β−D-キシロフラノシド［式(4) に
おいて、Ｒ3 がメトキシ基、Ｒ4 がt-ブチルジメチルシ
リル基、Ｒ5 がベンジル基である化合物］の合成。
t-ブチルジメチル−β−D-キシロフラノシド［式(4) に
おいて、Ｒ3 がメトキシ基、Ｒ4 がt-ブチルジメチルシ
リル基、Ｒ5 がベンジル基である化合物］の合成。
【００４１】合成例２で得られたジオール20.9g(82mmo
l) を、N,N-ジメチルホルムアミド(80ml)に溶解し、イ
ミダゾール(16.8g) を加えた。この溶液に、t-ブチルジ
メチルクロロシラン12.4g のN,N-ジメチルホルムアミド
(60ml)溶液を０℃で30分かけて滴下した。３時間撹拌の
後常法に従い後処理した。カラムクロマトグラフ精製し
て、シリルエーテル30.2g(収率 100％）を得た。
l) を、N,N-ジメチルホルムアミド(80ml)に溶解し、イ
ミダゾール(16.8g) を加えた。この溶液に、t-ブチルジ
メチルクロロシラン12.4g のN,N-ジメチルホルムアミド
(60ml)溶液を０℃で30分かけて滴下した。３時間撹拌の
後常法に従い後処理した。カラムクロマトグラフ精製し
て、シリルエーテル30.2g(収率 100％）を得た。
【００４２】1H-NMR(CDCl3):δ 0.10(s,6H),0.91(s,9
H),3.37(s,3H),3.9-4.1(m,3H),4.2-4.4(m,3H),4.61(s,2
H),4.93(s,1H),7.32(s,5H)。
H),3.37(s,3H),3.9-4.1(m,3H),4.2-4.4(m,3H),4.61(s,2
H),4.93(s,1H),7.32(s,5H)。
【００４３】［実施例１］メチル 2-O-ベンジル-3- デ
オキシ-3- フルオロ−β−Ｄ−リボフラノシド［式(6)
において、Ｒ3 がメトキシ基、Ｒ5 がベンジル基である
化合物］の合成。
オキシ-3- フルオロ−β−Ｄ−リボフラノシド［式(6)
において、Ｒ3 がメトキシ基、Ｒ5 がベンジル基である
化合物］の合成。
【００４４】前記合成例３で合成したメチル 2-O-ベン
ジル-5-O-t- ブチルジメチルシリル−β−D-キシロフラ
ノシド13.0g(35.0mmol) のジクロロメタン(80ml)溶液に
2,6-ルチジン11.4g を加え０℃に冷却した。ここへ無水
トリフルオロメタンスルホン酸(20.0g) を15分かけて滴
下し、さらに30分反応させた。氷を加えて後処理し、シ
ョートカラムクロマトグラフで粗生成物を16.8g1を取り
出した。
ジル-5-O-t- ブチルジメチルシリル−β−D-キシロフラ
ノシド13.0g(35.0mmol) のジクロロメタン(80ml)溶液に
2,6-ルチジン11.4g を加え０℃に冷却した。ここへ無水
トリフルオロメタンスルホン酸(20.0g) を15分かけて滴
下し、さらに30分反応させた。氷を加えて後処理し、シ
ョートカラムクロマトグラフで粗生成物を16.8g1を取り
出した。
【００４５】この粗生成物をテトラヒドロフラン(60ml)
に溶解し、フッ素化テトラブチルアンモニウムのテトラ
ヒドロフラン溶液(f=1.0)92ml を０℃で20分かけて滴下
した。０℃で24時間、室温で３時間撹拌の後、テトラヒ
ドロフランを溜去し、飽和硫酸アンモニウム水溶液で処
理した。カラムクロマトグラフ精製し、標記のフッ素化
体を5.4g得た。
に溶解し、フッ素化テトラブチルアンモニウムのテトラ
ヒドロフラン溶液(f=1.0)92ml を０℃で20分かけて滴下
した。０℃で24時間、室温で３時間撹拌の後、テトラヒ
ドロフランを溜去し、飽和硫酸アンモニウム水溶液で処
理した。カラムクロマトグラフ精製し、標記のフッ素化
体を5.4g得た。
【００４６】19F-NMR(CDCl3):(CCl3F 基準) -207.1(dd
d,j=53.7,22.0,13.4Hz)。1 H-NMR(CDCl3):δ 3.47(s,3H),4.0-4.2(m,2H),4.55(s,2
H),4.6-5.2(m,5H),7.33(s,5H) 。 IR(CHCl3) 3300cm-1。
d,j=53.7,22.0,13.4Hz)。1 H-NMR(CDCl3):δ 3.47(s,3H),4.0-4.2(m,2H),4.55(s,2
H),4.6-5.2(m,5H),7.33(s,5H) 。 IR(CHCl3) 3300cm-1。
【００４７】［参考例１］ 9-(3- デオキシ-3- フルオロ−β−D-リボフラノシル）
アデニン［式［Ｉ］において、Ｒがβ位の結合したアデ
ニン残基であり、Ｒ1 とＲ2 が水素原子である化合物］
の合成。
アデニン［式［Ｉ］において、Ｒがβ位の結合したアデ
ニン残基であり、Ｒ1 とＲ2 が水素原子である化合物］
の合成。
【００４８】実施例１で合成したベンジルエーテル5.4g
(21.1mmol)をエタノール70mlに溶解し、５％−パラジウ
ム黒5.5g存在下、室温、常圧で水素添加した。10時間後
セライト545 を通し濾過して濃縮した。
(21.1mmol)をエタノール70mlに溶解し、５％−パラジウ
ム黒5.5g存在下、室温、常圧で水素添加した。10時間後
セライト545 を通し濾過して濃縮した。
【００４９】粗生成物をピリジン35mlに溶解し、ベンゾ
イルクロリド6.1gを加え室温で36時間反応させた。ビリ
ジン留去後、カラムクロマトグラフ精製し、メチル 2,
5-ジ-O- ベンゾイル-3- フルオロ−β−D-リボフラノシ
ドを2.2g得た。このジベンゾイル体は式(7) の化合物
(Ｒ3 はメトキシ基）の２位と５位の水酸基をベンゾイ
ル基で保護した化合物である。19 F-NMR(CDCl3):(CCl3F 基準) -211.6(ddd,j=53.2,18.
1,4.9Hz) 。
イルクロリド6.1gを加え室温で36時間反応させた。ビリ
ジン留去後、カラムクロマトグラフ精製し、メチル 2,
5-ジ-O- ベンゾイル-3- フルオロ−β−D-リボフラノシ
ドを2.2g得た。このジベンゾイル体は式(7) の化合物
(Ｒ3 はメトキシ基）の２位と５位の水酸基をベンゾイ
ル基で保護した化合物である。19 F-NMR(CDCl3):(CCl3F 基準) -211.6(ddd,j=53.2,18.
1,4.9Hz) 。
【００５０】このジベンゾイル体2.2g(5.9mmol) を酢酸
(15ml)−無水酢酸(0.4ml) に溶解した。ここに30％臭化
水素−酢酸溶液を加えて室温で３時間撹拌した。酢酸、
無水、酢酸などを完全に溜去後、ニトロメタン(10ml)に
溶解し、アデニンモノベンゾエート1.3gのニトロメタン
溶液(80ml)に加え、さらにシアン化第２水銀２g を加
え、１時間加熱還流した。ニトロメタンを溜去後、30％
ヨウ化カリウム水溶液と水で洗浄し濃縮した。ショート
カラムクロマトグラフで粗分離し、次の反応に用いた。
(15ml)−無水酢酸(0.4ml) に溶解した。ここに30％臭化
水素−酢酸溶液を加えて室温で３時間撹拌した。酢酸、
無水、酢酸などを完全に溜去後、ニトロメタン(10ml)に
溶解し、アデニンモノベンゾエート1.3gのニトロメタン
溶液(80ml)に加え、さらにシアン化第２水銀２g を加
え、１時間加熱還流した。ニトロメタンを溜去後、30％
ヨウ化カリウム水溶液と水で洗浄し濃縮した。ショート
カラムクロマトグラフで粗分離し、次の反応に用いた。
【００５１】トリベンゾイル体 1.29gをメタノール(38m
l)に溶解し、ここに1Mナトリウムメトキシド−メタノー
ル溶液を加え、１時間加熱還流した。メタノールを溜去
後、水(40ml)を加え、2N酢酸水溶液で中和した。水層を
クロロホルムで抽出し、有機物を除去した後、濃縮し
た。99.5％エタノールから再結晶し、最終生成物である
標記のフルオロアデノシン0.60g を得た。
l)に溶解し、ここに1Mナトリウムメトキシド−メタノー
ル溶液を加え、１時間加熱還流した。メタノールを溜去
後、水(40ml)を加え、2N酢酸水溶液で中和した。水層を
クロロホルムで抽出し、有機物を除去した後、濃縮し
た。99.5％エタノールから再結晶し、最終生成物である
標記のフルオロアデノシン0.60g を得た。
【００５２】19F-NMR(CD3SOCD3):(CCl3F基準) -197.8(d
t,=54.4,27.1Hz) 。1 H-NMR(CD3SOCD3): δ 3.6-3.7(m,2H),4.29(dt,J=27.6,
3.7Hz,1H),4.8-5.0(m,1H),5.09(dd,J=54.4,4.2Hz,1H),
5.69(dd,J=7.3,4.9Hz,1H),5.89(d,J=6.3Hz,1H),5.93(d,
J=8.1Hz,1H),7.39(s,2H),8.13(s,1H),8.36(s,1H) 。13 C-NMR(CD3SOCD3):δ 61.1(d,J=12.2Hz,C-5),72.0(d,J
=15.9Hz,C-2),83.9(d,J=22.0Hz,C-4),86.9(C-1),93.1
(d,J=181.8Hz,C-3),119.4(C-5),140.1(C-8),149.1(C-
4),152.4(C-2),156.2(C-6)。 IR(KBr 錠剤) 3300,1650 cm-1。 融点 205.6 ℃。
t,=54.4,27.1Hz) 。1 H-NMR(CD3SOCD3): δ 3.6-3.7(m,2H),4.29(dt,J=27.6,
3.7Hz,1H),4.8-5.0(m,1H),5.09(dd,J=54.4,4.2Hz,1H),
5.69(dd,J=7.3,4.9Hz,1H),5.89(d,J=6.3Hz,1H),5.93(d,
J=8.1Hz,1H),7.39(s,2H),8.13(s,1H),8.36(s,1H) 。13 C-NMR(CD3SOCD3):δ 61.1(d,J=12.2Hz,C-5),72.0(d,J
=15.9Hz,C-2),83.9(d,J=22.0Hz,C-4),86.9(C-1),93.1
(d,J=181.8Hz,C-3),119.4(C-5),140.1(C-8),149.1(C-
4),152.4(C-2),156.2(C-6)。 IR(KBr 錠剤) 3300,1650 cm-1。 融点 205.6 ℃。
【００５３】［参考例２］ 1-(3- デオキシ-3- フルオロ−β-D- リボフラノシル）
ウラシル［式［Ｉ］において、Ｒがβ位に結合したウラ
シル残基であり、Ｒ1 とＲ2 が水素原子である化合物］
の合成。
ウラシル［式［Ｉ］において、Ｒがβ位に結合したウラ
シル残基であり、Ｒ1 とＲ2 が水素原子である化合物］
の合成。
【００５４】参考例１と同様にジベンゾイル体を合成
し、この0.40g (1.1mmol) を酢酸(1.8ml)-無水酢酸(0.0
8ml)に溶解した。ここに30％臭化水素−酢酸溶液(5.8m
l) を加え室温で３時間撹拌した。酢酸、無水酢酸など
を完全に溜去後、ニトロメタン(5ml) に溶解し、ウラシ
ル(0.11g)、シアン化第２水銀(0.27g) を加え、５時間加
熱還流した。次いでショートカラムクロマトグラフ精製
し、ウラシル化体0.1gを得た。
し、この0.40g (1.1mmol) を酢酸(1.8ml)-無水酢酸(0.0
8ml)に溶解した。ここに30％臭化水素−酢酸溶液(5.8m
l) を加え室温で３時間撹拌した。酢酸、無水酢酸など
を完全に溜去後、ニトロメタン(5ml) に溶解し、ウラシ
ル(0.11g)、シアン化第２水銀(0.27g) を加え、５時間加
熱還流した。次いでショートカラムクロマトグラフ精製
し、ウラシル化体0.1gを得た。
【００５５】19F-NMR(CDCl3):(CCl3F 基準) -210.37(dd
d,j=54.20,25.39,16.00Hz)。 上で得られた生成物をメタノール(3ml) に溶解し、1Mナ
トリウムメトキシド−メタノール溶液(0.49ml)を加え、
１時間加熱還流した。実施例２と同様に後処理し最終生
成物である標記の化合物（非常に吸湿性) を得た(0.04
g) 。
d,j=54.20,25.39,16.00Hz)。 上で得られた生成物をメタノール(3ml) に溶解し、1Mナ
トリウムメトキシド−メタノール溶液(0.49ml)を加え、
１時間加熱還流した。実施例２と同様に後処理し最終生
成物である標記の化合物（非常に吸湿性) を得た(0.04
g) 。
【００５６】19F-NMR(CD3COCD3):(CCl3F基準）-220.2(d
dd,J=54.68,27.34,27.17Hz) 。1 H-NMR(CD3COCD3): δ 3.6-3.8(m,2H,H-5'),4.25(dt,J=
2.8,27.3Hz,1H,H-4'),4.2-4.8(m,3H),5.02(dd,J=4.0,5
4.7Hz,1H,H-3'),5.64(d,J=8.1Hz,1H),6.02(d,J=7.9Hz,1
H),7.85(s,1H),7.94 s,1H) 。 IR(KBr錠剤) 3400,1700,1650 cm-1。 融点 205.6 ℃。
dd,J=54.68,27.34,27.17Hz) 。1 H-NMR(CD3COCD3): δ 3.6-3.8(m,2H,H-5'),4.25(dt,J=
2.8,27.3Hz,1H,H-4'),4.2-4.8(m,3H),5.02(dd,J=4.0,5
4.7Hz,1H,H-3'),5.64(d,J=8.1Hz,1H),6.02(d,J=7.9Hz,1
H),7.85(s,1H),7.94 s,1H) 。 IR(KBr錠剤) 3400,1700,1650 cm-1。 融点 205.6 ℃。
【００５７】［参考例３］ 1-(3- デオキシ-3- フルオロ−β-D- リボフラノシル）
-5- フルオロウラシル［式［Ｉ］において、Ｒがβ位に
結合した5-フルオロウラシル残基であり、Ｒ1とＲ2 が
水素原子である化合物］の合成。
-5- フルオロウラシル［式［Ｉ］において、Ｒがβ位に
結合した5-フルオロウラシル残基であり、Ｒ1とＲ2 が
水素原子である化合物］の合成。
【００５８】参考例１と同様にジベンゾイル体を合成
し、この 0.60g(1.6mmol) を酢酸(2.8ml)-無水酢酸(0.1
28ml) に溶解した。ここに30％臭化水素−酢酸溶液(8.6
ml) を加え室温で３時間撹拌した。酢酸、無水酢酸など
を完全に溜去後、トルエン(20ml)に溶解し、5-フルオロ
ウラシル水銀(0.62g) のトルエン懸濁液に加えて１時間
加熱還流した。次いでショートカラムクロマトグラフ精
製しウラシル化体0.1gを得た。19 F-NMR(CDCl3):(CCl3F 基準) -161.3(s),-210.4(ddd,j
=59.57,43.94,18.07Hz) 。
し、この 0.60g(1.6mmol) を酢酸(2.8ml)-無水酢酸(0.1
28ml) に溶解した。ここに30％臭化水素−酢酸溶液(8.6
ml) を加え室温で３時間撹拌した。酢酸、無水酢酸など
を完全に溜去後、トルエン(20ml)に溶解し、5-フルオロ
ウラシル水銀(0.62g) のトルエン懸濁液に加えて１時間
加熱還流した。次いでショートカラムクロマトグラフ精
製しウラシル化体0.1gを得た。19 F-NMR(CDCl3):(CCl3F 基準) -161.3(s),-210.4(ddd,j
=59.57,43.94,18.07Hz) 。
【００５９】上で得られた生成物をメタノール(4ml) に
溶解し、1Mナトリウムメトキシド−メタノール溶液(0.3
4ml)を加え、１時間加熱還流した。実施例２と同様に後
処理し最終生成物である標記の化合物（非常に吸湿性)
を得た(0.02g) 。
溶解し、1Mナトリウムメトキシド−メタノール溶液(0.3
4ml)を加え、１時間加熱還流した。実施例２と同様に後
処理し最終生成物である標記の化合物（非常に吸湿性)
を得た(0.02g) 。
【００６０】19F-NMR(CD3COCD3):(CCl3F基準) -173.05
(s),-209.77(ddd,J=54.40,21.48,12.08Hz) 。1 H-NMR (CD3COCD3):δ 3.58(d,J=5.4Hz,2H),3.5-5.1(m,
5H),4.9(dt,J=54.7,4.7Hz,1H),7.62(s,1H),7.70(s,1H)
。 IR(KBr錠剤) 3400,1700,1650 cm-1。
(s),-209.77(ddd,J=54.40,21.48,12.08Hz) 。1 H-NMR (CD3COCD3):δ 3.58(d,J=5.4Hz,2H),3.5-5.1(m,
5H),4.9(dt,J=54.7,4.7Hz,1H),7.62(s,1H),7.70(s,1H)
。 IR(KBr錠剤) 3400,1700,1650 cm-1。
【００６１】
【発明の効果】Ｒが水酸基、アルコキシ基、あるいはフ
ッ素原子を除くハロゲン原子である本発明の化合物は種
々の含フッ素ヌクレオシド類の合成中間体として有用で
ある。すなわち、そのＲを種々の核酸塩基類の残基に容
易に変換することができる。また、得られる含フッ素ヌ
クレオシド類は、抗ウィルス剤や抗腫瘍剤などの生理活
性物質として有用であると考えられる。
ッ素原子を除くハロゲン原子である本発明の化合物は種
々の含フッ素ヌクレオシド類の合成中間体として有用で
ある。すなわち、そのＲを種々の核酸塩基類の残基に容
易に変換することができる。また、得られる含フッ素ヌ
クレオシド類は、抗ウィルス剤や抗腫瘍剤などの生理活
性物質として有用であると考えられる。
Claims (1)
- 【請求項１】下記式［Ｉ］で表される３−デオキシ−３
−フルオロ−Ｄ−リボフラノシド誘導体。ただし、式
［Ｉ］においてＲは水酸基、アルコキシ基、あるいはフ
ッ素原子を除くハロゲン原子を表し、Ｒ1 、Ｒ2 は水素
原子あるいは保護基を表す。 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6184519A JP2570194B2 (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | リボフラノシド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6184519A JP2570194B2 (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | リボフラノシド誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60220186A Division JPH0780897B2 (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | リボフラノシド誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07145188A JPH07145188A (ja) | 1995-06-06 |
| JP2570194B2 true JP2570194B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=16154624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6184519A Expired - Lifetime JP2570194B2 (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | リボフラノシド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2570194B2 (ja) |
-
1994
- 1994-08-05 JP JP6184519A patent/JP2570194B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| CAN J PHYSIOL PHARMACOL=1980 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07145188A (ja) | 1995-06-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960820 |