JPH01110157A - インクジェットヘッド基板の製造方法 - Google Patents

インクジェットヘッド基板の製造方法

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JPH01110157A
JPH01110157A JP26751487A JP26751487A JPH01110157A JP H01110157 A JPH01110157 A JP H01110157A JP 26751487 A JP26751487 A JP 26751487A JP 26751487 A JP26751487 A JP 26751487A JP H01110157 A JPH01110157 A JP H01110157A
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JP
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silicon dioxide
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Akihiko Miyashita
宮下 明彦
Hiroyuki Sato
博幸 佐藤
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Alps Alpine Co Ltd
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Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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    • B41J2/135Nozzles
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はインクジェットプリンタに使用されるインクジ
ェットヘッド、特に高速駆動に耐えられるよう蓄熱性を
抑えたインクジェットヘッド基板の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
一般的に、インクジエ・ノドへ・ノドは第3図〜第4図
に示される構造となっている。即ち、第3図は従来のイ
ンクジェットヘッドの要部子図面、第4図は第3図中の
T−1線に沿った断面図であり、図中1はガラスによっ
て成形された基板である。
この基板1上には第4図に示されるように五酸化タンタ
ル等による蓄熱層2がスパッタリング等によって形成さ
れ、その蓄熱層2上にチッ化タンタル等の発熱抵抗体層
3が積層形成されている。又、この発熱抵抗体層3上に
は、アルミニウム等で成形された共通電極4a、選択電
極4bによる導体層4が形成されており、この導体層4
で囲まれて露出状態とされた発熱抵抗体層3が発熱部5
となる。又、導体層4及び発熱部5にはシリコンチッ化
物等からなる保護層6が積層されている。
一方、図中7はノズル板でこのノズル板7の前記発熱層
5と対応する位置にはインクを吐出させるためのノズル
孔(オリフィス)8が形成されている。又、ノズル板7
の下面には一体的もしくは別体として、インクの擾乱を
防止するために、相互に隣接する発熱部5の間に位置す
る隔壁9・9・・・が形成され、この隔壁9・9・・・
の高さ寸法によっって基板3側とノズル板7は一定の間
隔(インク充填部分)を構成し、接着剤10を介して接
合される。又、ノズル板7にはインクを安定供給するた
めに」二方へ膨出させたインク室11が形成されている
かかる構造をしたインクジェットヘッドの動作を説明す
ると、基板1に穿設される貫通孔(図示せず)を介して
インク溜めから基板1とノズル板7間へ送り込まれたイ
ンクは毛細管現象によってその間隔内へ侵漬し、ノズル
孔B内まで満たされた状態となる。この状態で導体層4
ヘトライブ回路からの電気記録信号が印加されると、そ
の信号は発熱部5において熱エネルギーに変わり、その
発熱部5と接しているインクに気泡を発生させ、インク
の体積や圧力変動等によってインクをノズル孔8から飛
ばし、記録紙上へ印字することになる。
しかし、この上記した従来のインクジェットヘッドによ
ると、基板1をガラスで成形しているために、高速駆動
の際にその基板1に熱がたまりすぎてしまい、破壊が生
じる虞れがあること、又、ノズル板7にインク室11を
加工形成する必要があり、工程が煩雑となってしまう等
の点から、第5図〜第6図に示されるようなインクジェ
ットヘッド基板が考察される。第5図は改良された基板
の平面図、第6図は第5図中の■−■線に沿った概略断
面図で、この場合の基板1aにはガラスよりも熱伝導率
の良いアルミナを使用している。又、このアルミナの使
用によって、発熱部に必要な熱量を確保するためにガラ
スでその基板la上に印刷技術及び焼成によって部分的
なグレーズ12を形成している。そして、このグレーズ
12上に発熱部5を形成することとしている。尚、この
グレーズ12を構成したことで、隔壁9に、このグレー
ズ12の高さを加えた寸法で基板la側とノズル板7と
の間隔が得られ、特にノズル板7にインク室11を形成
する必要もなくなっている。
[発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、第5図〜第6図に示すインクジェットヘ
ッド基板にあっても基板はアルミナで成形しているが、
その上面に印刷及び焼成によってガラスのグレーズを形
成することとし、そのグレーズの高さは約45μm程度
となっている。そのために、せいぜい2・5KH2程度
までしか対応できず、それ以上の高周波数となるグレー
ズに熱がたまりすぎて駆動は無理となってしまう。
そこで、本発明は係る問題点に着目してなされたもので
、かかる問題点を解消して、駆動周波数をアップしてさ
らに高速の駆動にも対応することができるよう蓄熱を抑
えることができるインクジェットへノド基板の製造方法
を提供することを目的としている。
(問題点を解決するための手段〕 この目的を達成するために、本発明に係るインクジェッ
トヘッド基板の製造方法は、シリコンで成形された基板
表面にエツチングで突部を形成した後、その突部を形成
されたシリコン基板の表面を熱処理して二酸化硅素膜を
形成し、その二酸化硅素膜上にスパッタリングあるいは
蒸着によって蓄熱層を形成し、その蓄熱層上で、かつ、
前記突部上に発熱部を形成することを特徴としている。
〔作用〕
上記したように、シリコン基板にエツチングで突部を形
成することで、その突部はシリコン基板と一体のものと
なり放熱効果が良くなり、高速駆動の障害となる蓄熱が
おさえらる。又、その突部を形成したシリコン基板表面
に二酸化硅素膜を形成することで基板表面は十分に強化
され、後から形成される蓄熱層と載せるための表面粗度
も得られる。又、シリコンは熱伝導率が良いが、発熱部
に必要な熱量(温度上昇)はその二酸化硅素膜上に形成
される蓄熱層で確保することができる。
〔実施例〕
次に、本発明の実施の一例を第1図乃至第2図を参照し
て詳細に説明する。
第1図は本発明により得られたインクジェットヘッド基
板の縦断面図、第2図は同じくノズル板を接合してイン
クシエンドヘッドを構成した場合の縦断面図である。図
において20はシリコン、特に結晶方位(1,0,O)
のシリコン基板であリ、このシリコン基板20の表面に
は異方性のエツチングによって前記した第5図に示すグ
レーズと同態様に突部21を一体形成する。この突部2
1を形成したシリコン基板20は続いて表面に熱処理に
よって二酸化硅素膜22を形成し、このシリコン基板2
0の表面を強化する。この表面に二酸化硅素膜22を形
成した突部21を一体的に形成したシリコン基板20の
表面にはスッパタリングまたは蒸着によって二酸化硅素
、チッ化硅素、五酸化タンタル等を堆積させて蓄熱層2
3を形成する。この蓄熱層23上には従来と同様に発熱
抵抗体層24を積層させ、その発熱抵抗体層24にアル
ミニウム等による導体層25を形成し、その導体層25
で囲まれて露出状態とされた発熱抵抗体層24が発熱部
26となる。又、この発熱部26と導体層25上には保
護層(オーバーコート)27が積層形成される。
又、第2図として示すように、上記のように構成された
インクジェットヘッド基板にはノズル板2日が端部で接
着剤を介して接合されてインクジェットヘッドとなるが
、このノズル板28には、前記発熱部26と対応する位
置にノ宝ズル孔(オリフィス)28aが設けられている
。又、29はノズル板28の下方に一体もしくは別体と
して形成された隔壁で、この隔壁29は隣接する発熱部
26の間に位置されてインクの擾乱を防止するが、この
隔壁29に突部21を加えた寸法でシリコン基板20側
とノズル板28との間隔(インク充填部分)が形成され
るので、突部21の存在が従来のインク室11と同等の
役割りを果たす。
尚、本実施例は基板20として結晶方位のシリコンを用
い、異方性エツチングで突部21を形成したが、特に係
る特性を有するシリコンに限られることはなく、通常の
エツチングでも可能なことは勿論である。
〔発明の効果〕
上述したように、本発明によると、熱伝導率のヨイシリ
コンで基板を形成し、その基板にエツチングによって一
体的な突部を形成することとしているので、高周波によ
る高速駆動にも十分耐え得る放熱性が得られる。又、前
記突部を形成したシリコン基板の表面に二酸化硅素膜を
形成することで十分な強度が得られ、又、突部上に形成
される発熱部に必要な熱量(温度上昇)はスパッタリン
グまたは蒸着によって堆積される導膜状の高熱層で確保
される。さらに、突部によって得られる間隔の広がりが
インク室としての役割りを果たすためにノズル板には格
別にインク室を膨出形成する必要性がなく、フラットな
板状のもので済む。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明によって得られるインクジェットヘッド
基板の要部縦断面図、第2図は同ノズル板を接合してイ
ンクジェットヘッドとした状態の要部縦断面図、第3図
は一般的なインクジェットヘッドの要部平面図、第4図
は同第3図中のI−■線に沿った断面図、第5図は改良
したインクジェット蟲4ツド基板の平面図、第6図は同
第5図中のII −II線に沿った概略断面図である。 20・・・シリコン基板  21・・・突部22・・・
二酸化硅素膜  23・・・蓄熱層24・・・発熱抵抗
体層  25・・・導体層26・・・発熱部     
27・・・保護層28・・・ノズル板   28a・・
・ノズル孔29・・・隔壁

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  シリコンで成形され基板表面にエッチングで突部を形
    成した後、その突部が形成されたシリコン基板の表面を
    熱処理して二酸化硅素膜を形成し、その二酸化硅素膜上
    にスッパタリングあるいは蒸着によって蓄熱層を形成し
    、その蓄熱層上で、かつ前記突部上に発熱部を形成する
    ことを特徴とするインクジェットヘッド基板の製造方法
JP26751487A 1987-10-22 1987-10-22 インクジェットヘッド基板の製造方法 Pending JPH01110157A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002011885A (ja) * 2000-06-29 2002-01-15 Kyocera Corp インクジェットヘッド
US8172370B2 (en) * 2008-12-30 2012-05-08 Lexmark International, Inc. Planar heater stack and method for making planar heater stack

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