JPH01102722A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に係り、特
に、優れた耐食性を有し、さらに優れた走行性を有する
磁気記録媒体およびその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体の強磁性金属薄膜の耐食性向上の目的で用
いる防錆剤として、これまでに、アミノ基を有する芳香
族カルボン酸（特開昭筒５８−１９４１３１号）、クペ
ロン類（特開昭筒５８−１９４１３８号）、ポリアミン
類（特開昭筒５９−３７４２号）などが提案されており
、実用に供されているものもある。

強磁性金属薄膜に対する腐食性環境因子とじては、湿度
、二酸化イオウ（亜硫酸）ガス、窒素酸化物ガスなどが
考えられるが、止揚の防錆剤はこれらの腐食因子に対し
て万能的な耐食効果を示すものではなく、現実の複合的
な腐食環境に対して十分な防錆効果を有するものとは言
い難い欠点があった。

また、強磁性金属薄膜表面が比較的耐食性を有する高次
の酸化物になっている場合、還元性を有する防錆剤は該
酸化物を破壊する性質があるが、従来技術においては、
このような観点からの防錆剤の選定は行われていなかっ
た。

〔発明が解決しようとする問題点〕

強磁性金属薄膜の耐食性に関して、従来技術は、上記し
たような種々の欠点を有していた。

本発明は、これらの従来技術にみられた欠点を解決し、
耐食性に優れた磁気記録媒体およびその製造方法、もし
くは、さらに、耐食性向上対策により走行性の低下がみ
られる場合、走行性を改良した磁気記録媒体およびその
製造方法を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表
面に不働態層を形成した後、該不働態層上に、ベンゾイ
ミダゾール骨格にアミノ基、ニトロ基、クロル基あるい
はメルカプト基の中の少くとも一つを置換基として有す
るベンゾイミダゾール誘導体を主成分とする防錆剤を付
着させること、もしくは、該ベンゾイミダゾール誘導体
唐土にさらにフッ素系潤滑剤層を形成させることによっ
て達成することができる。

〔作　　用〕

上記したベンゾイミダゾール骨格にアミノ基、ニトロ基
、クロル基またはメルカプト基の中の少くとも一つを置
換基として有するベンゾイミダゾール誘導体はその分子
構造中に窒素を含むいわゆるカソードインヒビターであ
り、大気中の水分あるいは腐食性ガスによる腐食反応の
うち、主に水素発生反応の進行を抑止することによって
防錆効果を示すものである。

前掲のクペロン類、ポリアミン類も、同様に、カソード
インヒビターとして働くものであるが、同一腐食条件下
で防錆効果が異なるのは、強磁性金属に対する吸着親和
力の差（弱い場合には防錆効果がなく、強すぎる場合に
は腐食が進行する）、分子構造の差（立体障害による被
覆率の相異など）によるものと考えられ、ベンゾイミダ
ゾール骨格にアミノ基、ニトロ基、クロル基あるいはメ
ルカプト基の中の少くとも一つを置換基として有するベ
ンゾイミダゾール誘導体はこれらの点で優れているため
、防錆効果が著しい。

さらに、上記ベンゾイミダゾール誘導体は金属の高次酸
化物に対する還元作用がないので、表面に不働態層を形
成した強磁性金属薄膜層上に該ベンゾイミダゾール誘導
体層を形成した場合、不働態層の存在との相乗効果によ
り、格段の耐食性向上をはかることができる。

なお、磁性層上に該ベンゾイミダゾール誘導体層を設け
た場合、磁気ヘッドとの摺動の際の摩擦係数を若干高め
る傾向がみとめられるが、この現象に対しては、該ベン
ゾイミダゾール誘導体層上にさらにフッ素系潤滑剤の層
を設けることによって、長期間にわたって、満足な走行
性を維持することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について比較例とともに説明する
。

実施例　１ 厚さ９ｔ！ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基
板上に、酸素雰囲気下で、厚さ１５００人のＣ０−Ｎ１
（組成比８Ｏ−２０）の蒸着を行い、強磁性金属薄膜層
を作成した後、酸素を主成分とする雰囲気処理により、
該金属薄膜表面にコバルト不働態膜を形成させ、さらに
、該不働態膜上に２−アミノ−ベンゾイミダゾールの０
．０５重量％メチルイソブチルケトン溶液を塗布、乾燥
して試料を作成した。

なお、上記不働態膜の形成は、強磁性金属薄膜層形成後
、別容器に入れて２０　Ｔ　ｏｒｒまで減圧した後、こ
れに１　ａｔｎ＋の酸素を封入して３日間処理すること
により行った。

実施例　２ 実施例１において、コバルト不働態層を設けなかった以
外は実施例１と同様にして試料を作成した。

実施例　３ 実施例２における２−アミノ−ベンゾイミダゾールにか
えて５−ニトロ−ベンゾイミダゾールを用いた以外は実
施例２と同様にして試料を作成した。

比較例　１ 実施例１において２−アミノ−ベンゾイミダゾール溶液
の塗布を行わない以外は実施例１と同様にして試料を作
成した。

比較例　２ 実施例２において２−アミノ−ベンゾイミダゾール溶液
の塗布を行わない以外は実施例２と同様にして試料を作
成した。

比較例　３ 実施例１における２−アミノ−ベンゾイミダゾールにか
えてクペロンを用いた以外は実施例１と同様にして試料
を作成した。

以上６種の試料について、腐食促進試験として、６０℃
９０％ＲＨの雰囲気中に１週間放置した場合の飽和磁化
の減少率と、Ｓ０□１．ＯＰＰＭ、Ｈ２Ｓ　０．５Ｐｌ
’Ｍ。

Ｎｏ２１．０ＰＰＭ、　３５℃、７５％ＲＨ（７）雰囲
気中ニ１００時間放置した後の金属磁性薄膜中の硫黄含
有率（Ｍ子％）の測定を行い、耐食性の比較を行った。

結果を第１表に示す。

第　　　１　　表 第１表の結果から、磁性層上にベンゾイミダゾール誘導
体層を設けた試料（実施例１，２．３）が、磁性層上に
ベンゾイミダゾール誘導体層を設けなかった試料あるい
はベンゾイミダゾール誘導体のかわりにクペロン層を設
けた試料（比較例１．２．３）と比較して、飽和磁化減
少率、硫黄含有率の双方において優れ、よい耐食性を示
すこと、特に、磁性層上に不働態層を形成し、該不働態
層上にさらにベンゾイミダゾール誘導体層を設けた試料
（実施例１）が最も良い耐食性を示すことが知られる。

実施例　４ 実施例１の２−アミノ−ベンゾイミダゾールのかわりに
２−メルカプト−ベンゾイミダゾールを用いた以外実施
例１と同様にして、強磁性金属薄膜層表面不働態膜上に
２−メルカプト−ベンゾイミダゾール層を設けた後、該
２−メルカプト−ベンゾイミダゾール層上に、さらに、
フッ素糸潤滑剤フオンブリンＺＤＯＬ　（日本モンテジ
ソン社製）０．１重量％フレオン溶液を塗布して試料を
作成した。

実施例　５ 実施例４におけるフォンブリンＺＤＯＬをフォンブリン
Ｚ２５（日本モンテジソン社製）にかえた以外は実施例
４と同様にして試料を作成した。

実施例　６ 実施例４におけるフォンブリンＺＤＯＬをフォンブリン
ＡＭ２００１　（日本モンテジソン社爬）にかえた以外
は実施例４と同様にして試料を作成した。

比較例　４ 実施例４において２−メルカプト−ベンゾイミダゾール
層を設けなかった以外は実施例４と同様にして試料を作
成した。

比較例　５ 実施例４において２−メルカプト−ベンゾイミダゾール
層の形成とフォンブリンＺＤＯＬの塗工の順序を逆にし
た以外は実施例４と同様にして試料を作成した。

以上５種の試料について、腐食促進試験として、前記と
同一条件において飽和磁化減少率と硫黄含有率の測定を
行い、さらに、走行性の評価として、各試料を幅８ｍｍ
のテープとし、＃２０００の研摩剤で研摩した直径４−
のＳＵＳ製ピンに巻き角９０″で接触させ、重錘２０ｇ
の荷重をかけ、１０００往復の摩擦を行った後の静止摩
擦係数の測定を行った。

結果を第２表に示す。

第　　　２　　　表 第２表の結果から、コバルト不働態層を形成した磁性層
表面に２−メルカプト−ベンゾイミダゾール層を設け、
該２−メルカプト−ベンゾイミダゾール層上に、さらに
、フッ素系潤滑剤層を設けた試料（実施例４．５，６）
が、比較例４．５に比べて、耐食性、走行性の双方とも
優れた性能を示すものであることが知られる。

なお、玉揚実施例において、ベンゾイミダゾール誘導体
層の形成およびフッ素系潤滑剤層の形成において、それ
ぞれの下地層上に直接塗工を行った場合にも、また、基
板裏面に塗工し、巻取り時に各下地層上に転写させた場
合にも、全く同様の結果が得られ、塗工方法による特性
上の差違は全く認められなかった。

〔発明の効果〕

以上述べてきたように、非磁性基板上に強磁性金属薄膜
層を設けてなる磁気記録媒体において、該金属薄膜層の
表面に不働態層を形成し、該不働態層上に、ベンゾイミ
ダゾール骨格にアミノ基、ニトロ基、クロル基またはメ
ルカプト基の中の少くとも一つを置換基として有するベ
ンゾイミダゾール誘導体を主成分とする防錆剤を付着さ
せること、もしくは、該防錆剤上にさらにフッ素系潤滑
剤層を設けることによって、従来技術の有していた欠点
を解決し、耐食性、走行性の双方について格段に優れた
磁気記録媒体を得ることができ、また、その製造方法を
確立することができた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に強磁性金属薄膜層を設けてなる磁気
   記録媒体において、該金属薄膜層の表面に不働態層を形
   成した後、該不働態層表面に、ベンゾイミダゾール骨格
   にアミノ基、ニトロ基、クロル基またはメルカプト基の
   中の少くとも一つを置換基として有するベンゾイミダゾ
   ール誘導体を主成分とする防錆剤を付着させたこと、も
   しくは、該防錆剤層上にさらにフッ素系潤滑剤層を設け
   たことを特徴とする磁気記録媒体。 ２、非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表面に不働
   態層を形成した後、該不働態層上に、直接塗工によるか
   あるいは基板裏面に塗工した塗布面からの転写によって
   、ベンゾイミダゾール骨格にアミノ基、ニトロ基、クロ
   ル基あるいはメルカプト基の中の少くとも一つを置換基
   として有するベンゾイミダゾール誘導体を付着させるこ
   と、もしくは、該ベンゾイミダゾール誘導体付着面上に
   、さらに、直接塗工によるかあるいは基体裏面に塗工し
   た塗布面からの転写によって、フッ素系潤滑剤層を形成
   させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。