JPH01100026A - 金属酸化物材料 - Google Patents
金属酸化物材料Info
- Publication number
- JPH01100026A JPH01100026A JP62257773A JP25777387A JPH01100026A JP H01100026 A JPH01100026 A JP H01100026A JP 62257773 A JP62257773 A JP 62257773A JP 25777387 A JP25777387 A JP 25777387A JP H01100026 A JPH01100026 A JP H01100026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vanadium
- oxide material
- present
- oxide
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 10
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 8
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 abstract 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 abstract 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 abstract 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 21
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 7
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 7
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 6
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- -1 CaVO3 Chemical class 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000012552 review Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910000999 vanadium-gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000282412 Homo Species 0.000 description 1
- 230000005668 Josephson effect Effects 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052773 Promethium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N promethium atom Chemical compound [Pm] VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N radium atom Chemical compound [Ra] HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N thulium atom Chemical compound [Tm] FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はバナジウム酸化物材料、特に超電導材料として
有用なバナジウム酸化物材料に関する。
有用なバナジウム酸化物材料に関する。
(従来の技術)
従来、バナジウム酸化物としては、vO1v203、V
O2及びV2O5等が知られており、夫々様々な使い方
がなされてきた。
O2及びV2O5等が知られており、夫々様々な使い方
がなされてきた。
例えば、化学反応におけるバナジウム酸化物の触媒とし
ての利用は、古くから知られている応用例の一つである
。
ての利用は、古くから知られている応用例の一つである
。
又、Physical Review Letters
第3巻34頁(1959年)に示されている様にVO2
の特定温度における電気抵抗の急変を利用する例がある
。この例ではVO2は室温では半導体であるが、温度が
65乃至70℃を越えて上昇する時にその電気抵抗が急
激に低下する。これを改良してv208組成にホウ素、
ケイ素及び燐からなる群から選ばれた一つの元素とマグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、ランタン及び
鉛からなる群から選ばれた一つの元素とを含ませた例が
、Japanese JourIIalof Appl
ied Physics第4巻28頁(1965年)や
Japanese JourIIal of Appl
ied Physics第8巻1008頁(1969年
)等に記載されている。
第3巻34頁(1959年)に示されている様にVO2
の特定温度における電気抵抗の急変を利用する例がある
。この例ではVO2は室温では半導体であるが、温度が
65乃至70℃を越えて上昇する時にその電気抵抗が急
激に低下する。これを改良してv208組成にホウ素、
ケイ素及び燐からなる群から選ばれた一つの元素とマグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、ランタン及び
鉛からなる群から選ばれた一つの元素とを含ませた例が
、Japanese JourIIalof Appl
ied Physics第4巻28頁(1965年)や
Japanese JourIIal of Appl
ied Physics第8巻1008頁(1969年
)等に記載されている。
これらの化合物はサーミスターの一種で、Cr1tic
al Temperature Re5istor((
:TR)と呼ばれている。これらの化合物の転移温度は
60乃至80℃付近にあり、冷熱サイクル動作に対する
繰返し安定性が良い。
al Temperature Re5istor((
:TR)と呼ばれている。これらの化合物の転移温度は
60乃至80℃付近にあり、冷熱サイクル動作に対する
繰返し安定性が良い。
v20.の場合には、室温で既に10−9ΩC11のオ
ーダーの抵抗と金属的性質を示し、168に以下の温度
に冷却すると急に電気抵抗が7桁以上も上昇することが
知られている。
ーダーの抵抗と金属的性質を示し、168に以下の温度
に冷却すると急に電気抵抗が7桁以上も上昇することが
知られている。
又、バナジウムを部分的に他の元素、例えば、クロム等
に置きかえると、上記の様な金属−半導体転移の転移温
度を高温側へ移動させることができる。
に置きかえると、上記の様な金属−半導体転移の転移温
度を高温側へ移動させることができる。
室温で金属的な電導を示すバナジウム酸化物を主体とす
る化合物の例としては、vOやv203等の他、CaV
O,、5rVO3,1,a+−、,5rXVO,、(x
≧0.23)等が知られており、これらの化合物は電極
その他特定用途に使われる。これらの化合物はいわゆる
ペロブスカイト型酸化物として知られており、金属イオ
ンを6個の酸素が取り囲んで作る八面体構造をその特徴
として持つ。純粋なり203は六方晶系であるが、やは
り上記の酸素八面体構造を多少歪んだ形ではあるが含ん
でいる。
る化合物の例としては、vOやv203等の他、CaV
O,、5rVO3,1,a+−、,5rXVO,、(x
≧0.23)等が知られており、これらの化合物は電極
その他特定用途に使われる。これらの化合物はいわゆる
ペロブスカイト型酸化物として知られており、金属イオ
ンを6個の酸素が取り囲んで作る八面体構造をその特徴
として持つ。純粋なり203は六方晶系であるが、やは
り上記の酸素八面体構造を多少歪んだ形ではあるが含ん
でいる。
金属−半導体(非金属)転移を利用した他の例としては
、上記転移による光学反射率又は透過率の変化を利用し
た光記録媒体への応用等も検討されている。又、上記金
属−非金属転移にはヒステリシスがあるため、これを利
用したメモリへの応用も考えられたことがある。
、上記転移による光学反射率又は透過率の変化を利用し
た光記録媒体への応用等も検討されている。又、上記金
属−非金属転移にはヒステリシスがあるため、これを利
用したメモリへの応用も考えられたことがある。
以上の様にバナジウム酸化物はバナジウムが多種の価数
を取れる事、室温で金属的な電気抵抗を示す用に作られ
る事及び金属−非金属転移を示す事等種々の特徴ある性
質を持つため、触媒等の化学用途だけでなく、CTRを
利用した温度検知素子(例えば、火災報知器用素子)或
いは発振回路、スイッチング素子、メモリー素子、光記
録媒体等への応用が数多く提案され、又、実用化されて
きた。
を取れる事、室温で金属的な電気抵抗を示す用に作られ
る事及び金属−非金属転移を示す事等種々の特徴ある性
質を持つため、触媒等の化学用途だけでなく、CTRを
利用した温度検知素子(例えば、火災報知器用素子)或
いは発振回路、スイッチング素子、メモリー素子、光記
録媒体等への応用が数多く提案され、又、実用化されて
きた。
他の重要な応用分野として超電導材料としての分野が考
えられる。超電導転移は金属−非金属転移以上に大きな
、実際上篇限大の比率の電気抵抗低下を引き起こすだけ
でなく、電流を流す際の電力損失が全く無くなる事、完
全反磁性が得られるジョセフソン効果の様な非線形な効
果が利用できる等、応用範囲が広く、しかも他の効果で
は全く代用できない効果が得られるので実用上非常に重
要である。
えられる。超電導転移は金属−非金属転移以上に大きな
、実際上篇限大の比率の電気抵抗低下を引き起こすだけ
でなく、電流を流す際の電力損失が全く無くなる事、完
全反磁性が得られるジョセフソン効果の様な非線形な効
果が利用できる等、応用範囲が広く、しかも他の効果で
は全く代用できない効果が得られるので実用上非常に重
要である。
(発明が解決しようとしている問題点)しかしながら、
バナジウム酸化物においては温度を下げて行くと、金属
−非金属転移が起きて非金属化する等基本的な問題があ
るため、従来はこのままでは電気電導の特徴ある形態で
ある超電導を引き起こすということは期待できなかった
。
バナジウム酸化物においては温度を下げて行くと、金属
−非金属転移が起きて非金属化する等基本的な問題があ
るため、従来はこのままでは電気電導の特徴ある形態で
ある超電導を引き起こすということは期待できなかった
。
実際、v203又はバナジウムの一部を他の金属で置換
したCaVO3,CaV2O5,BaVO3等や更にこ
れにランタンを導入したしa□、 33CaVO,、L
a2C:a8V6026等の化合物も、これらの材料の
存在自体は知られているが、従来は超電導体として使用
された例は知られていない。
したCaVO3,CaV2O5,BaVO3等や更にこ
れにランタンを導入したしa□、 33CaVO,、L
a2C:a8V6026等の化合物も、これらの材料の
存在自体は知られているが、従来は超電導体として使用
された例は知られていない。
極少ない例外としては、例えば、JourIIal o
fSo口d 5tate Chemistry第3巻2
43頁(1971年)に示されている5rVO3である
が、その超電導転移温度(Tc)は、1.5に程度であ
り、この温度は化合物ではない金属バナジウムのTc5
.43によりもはるかに低いだけでなく、M流動ヘリウ
ムを使わなければ超電導状態が得られないというやっか
いな問題を泡えている。又、1.5にという温度は超流
動による液体ヘリウムの取扱いの煩わしさだけでなく、
液体ヘリウムの減圧冷却等の簡単な方法で冷却できる限
界に近いという点でも極めて不都合であった。
fSo口d 5tate Chemistry第3巻2
43頁(1971年)に示されている5rVO3である
が、その超電導転移温度(Tc)は、1.5に程度であ
り、この温度は化合物ではない金属バナジウムのTc5
.43によりもはるかに低いだけでなく、M流動ヘリウ
ムを使わなければ超電導状態が得られないというやっか
いな問題を泡えている。又、1.5にという温度は超流
動による液体ヘリウムの取扱いの煩わしさだけでなく、
液体ヘリウムの減圧冷却等の簡単な方法で冷却できる限
界に近いという点でも極めて不都合であった。
又、酸化物ではないがバナジウム化合物の超電導体とし
てV、Gaが知られている。この化合物はTcが高く超
電導臨界磁界も大きいというメリットはあるものの、非
常に加工が困難で、コイル等に使用する場合には、テー
プ状のバナジウムにガリウムを熱拡散させるという非常
に面倒な方法を取らねばならない。この方法は通常バナ
ジウムの下地テープを約700℃に加熱した溶融ガリウ
ム中に浸して、テープ表面にガリウムを多く含む化合物
層を形成し、次にこれを約700℃で10乃至30時間
加熱することによって達成される。
てV、Gaが知られている。この化合物はTcが高く超
電導臨界磁界も大きいというメリットはあるものの、非
常に加工が困難で、コイル等に使用する場合には、テー
プ状のバナジウムにガリウムを熱拡散させるという非常
に面倒な方法を取らねばならない。この方法は通常バナ
ジウムの下地テープを約700℃に加熱した溶融ガリウ
ム中に浸して、テープ表面にガリウムを多く含む化合物
層を形成し、次にこれを約700℃で10乃至30時間
加熱することによって達成される。
普通、このプロセスは酸化を避ける為に真空中で行う等
の工夫を要する。又、ガリウムは高価であるため大量の
ガリウムを必要とするV3Gaは原料の点でも高価であ
るという不都合があった。
の工夫を要する。又、ガリウムは高価であるため大量の
ガリウムを必要とするV3Gaは原料の点でも高価であ
るという不都合があった。
従フて、本発明の目的は、新しいバナジウム酸化物材料
を提供することにある。
を提供することにある。
本発明の他の目的は、液体へり゛ラムで容易に冷却でき
る超電導材料として有用な新規なバナジウム酸化物材料
を提供することにある。
る超電導材料として有用な新規なバナジウム酸化物材料
を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、原料が安く、しかも容易に製
造可能な超電導性バナジウム酸化物材料を提供すること
にある。
造可能な超電導性バナジウム酸化物材料を提供すること
にある。
本発明の更に他の目的は、人体に有害な物質を含まず、
人間が安全に使用できる超電導材料として有用なバナジ
ウム酸化物材料を提供することにある。
人間が安全に使用できる超電導材料として有用なバナジ
ウム酸化物材料を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、空気中で使用しても特性劣化
が少なく安定して使える超電導性バナジウム酸化物材料
を提供することにある。
が少なく安定して使える超電導性バナジウム酸化物材料
を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
上記目的は以下の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、バナジウム(V)を含む金属酸化
物において、バナジウムと酸素(0)の他に二種の原子
又は原子団A及びBを含み、Aがランタノイドとイツト
リウム(Y)から成る群より選ばれた原子又は原子団で
あり、且つBが周期律表第11a族の元素から成る群よ
り選ばれた原子又は原子団である事を特徴とする金属酸
化物材料である。
物において、バナジウムと酸素(0)の他に二種の原子
又は原子団A及びBを含み、Aがランタノイドとイツト
リウム(Y)から成る群より選ばれた原子又は原子団で
あり、且つBが周期律表第11a族の元素から成る群よ
り選ばれた原子又は原子団である事を特徴とする金属酸
化物材料である。
(作 用)
バナジウムを含む金属酸化物中に特定の組合せの二種の
原子又は原子団を導入することによって、本発明の目的
を達成するバナジウム金属酸化物材料が提供される。
原子又は原子団を導入することによって、本発明の目的
を達成するバナジウム金属酸化物材料が提供される。
(好ましい実施態様)
本発明においてバナジウム酸化物に導入する原子又は原
子団であるAのランタノイドとは、ランタン(La)、
セリウム(Ce)、プラセオジム(P「)、ネオジム(
Nd)、プロメチウム(P+s)、サマリウム(Ss)
、ユロビウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビ
ニウム(Td)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム
(Ho)、エルビウム(E「)、ツリウム(Tm)、イ
ッテルビウム(Yb)及びルテチウム(Lu)の15の
元素から成る化学的性質が互いによく似た群を指し、上
記Aはこれらのランタノイド及びイツトリウムから成る
群より選ばれた原子又は原子団であり、一方の原子又は
原子団であるBは周期律表第Ba族の元素、すなわち、
ベリリウム(Be)、マグネシウム(Mg)、カルシウ
ム((:a) 、ストロンチウム(Sr)、バリウム(
Ba)及びラジウム(Ra)等の元素から成る群より選
ばれた原子又は原子団である。
子団であるAのランタノイドとは、ランタン(La)、
セリウム(Ce)、プラセオジム(P「)、ネオジム(
Nd)、プロメチウム(P+s)、サマリウム(Ss)
、ユロビウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビ
ニウム(Td)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム
(Ho)、エルビウム(E「)、ツリウム(Tm)、イ
ッテルビウム(Yb)及びルテチウム(Lu)の15の
元素から成る化学的性質が互いによく似た群を指し、上
記Aはこれらのランタノイド及びイツトリウムから成る
群より選ばれた原子又は原子団であり、一方の原子又は
原子団であるBは周期律表第Ba族の元素、すなわち、
ベリリウム(Be)、マグネシウム(Mg)、カルシウ
ム((:a) 、ストロンチウム(Sr)、バリウム(
Ba)及びラジウム(Ra)等の元素から成る群より選
ばれた原子又は原子団である。
本発明において、特に本発明の目的に適合するバナジウ
ム酸化物材料は、その組成式が(A、By)VO3−、
で表わされ、且つ0,03≦x≦0.650.6≦y≦
1.4.0≦Z≦0.5である材料である。
ム酸化物材料は、その組成式が(A、By)VO3−、
で表わされ、且つ0,03≦x≦0.650.6≦y≦
1.4.0≦Z≦0.5である材料である。
更に好適な材料は上記組成において、Aがランタンであ
り、Bがカルシウム及びストロンチウムから成る群から
選ばれた原子又は原子団である材料である。
り、Bがカルシウム及びストロンチウムから成る群から
選ばれた原子又は原子団である材料である。
上記本発明の酸化物材料を作成する方法としては、いわ
ゆるセラミックス材料で一般に使われている様な原料粉
末からの加熱による反応及び焼結法がいずれも本発明に
おいて使用可能である。
ゆるセラミックス材料で一般に使われている様な原料粉
末からの加熱による反応及び焼結法がいずれも本発明に
おいて使用可能である。
この様な方法の例唸、Material Re5ear
chBulletin第5earchBulletin
、 5olidState Co+wmunica
tion 第 17巻27 頁 (1975年) 、
Zejtschrift fiir Physik
B第64巻189頁(1986年) 、 Physic
al Review Letters第58巻第9号9
08頁(1987年)等に示されており、これらの方法
は現在では定性的には極めて一般的な方法として知られ
ている。
chBulletin第5earchBulletin
、 5olidState Co+wmunica
tion 第 17巻27 頁 (1975年) 、
Zejtschrift fiir Physik
B第64巻189頁(1986年) 、 Physic
al Review Letters第58巻第9号9
08頁(1987年)等に示されており、これらの方法
は現在では定性的には極めて一般的な方法として知られ
ている。
又、原料粉末を高温で溶融してから単結晶成長させる方
法も本発明において有用である。更に原料を含むターゲ
ットを用いた高周波スパッタリングやマグネトロンスパ
ッタリング等のスパッタリング法、電子ビーム蒸着、そ
の他の真空蒸着法或いはクラスターイオンビーム法や原
料にガス材を使うCVD法又はプラズマCVD法等を使
って支持体上に本発明の材料を薄膜状に形成してもよい
。この様な場合には気体の酸素を装置内に送り込んで装
置内で酸化させることが効果的な場合が多い。より具体
的な製造条件の例は後記実施例において説明する。
法も本発明において有用である。更に原料を含むターゲ
ットを用いた高周波スパッタリングやマグネトロンスパ
ッタリング等のスパッタリング法、電子ビーム蒸着、そ
の他の真空蒸着法或いはクラスターイオンビーム法や原
料にガス材を使うCVD法又はプラズマCVD法等を使
って支持体上に本発明の材料を薄膜状に形成してもよい
。この様な場合には気体の酸素を装置内に送り込んで装
置内で酸化させることが効果的な場合が多い。より具体
的な製造条件の例は後記実施例において説明する。
この様にして得られた酸化バナジウムを主体とする本発
明の酸化物材料は、金属−非金属転移を示さず、室温で
は10−4乃至10−1Ωcm程度の電気抵抗を持ち、
これまで知られていた酸化バナジウム化合物と違って数
KからIOK前後の温度で超電導状態を示す。
明の酸化物材料は、金属−非金属転移を示さず、室温で
は10−4乃至10−1Ωcm程度の電気抵抗を持ち、
これまで知られていた酸化バナジウム化合物と違って数
KからIOK前後の温度で超電導状態を示す。
前記組成式において、x、y及び2の夫々が前記の範囲
内で好適な超電導状態が得られるが、これより他では好
適な超電導状態にはならない。特に酸化物材料中でその
酸素量は重要であり、2が零すなわち完全に酸化した状
態では超電導状態を示す材料にはならない。このZの数
値は本発明の材料の作成条件、特に反応雰囲気の制御に
より、ある程度までコントロール可能である。特に還元
雰囲気下での反応焼成が効果的である。
内で好適な超電導状態が得られるが、これより他では好
適な超電導状態にはならない。特に酸化物材料中でその
酸素量は重要であり、2が零すなわち完全に酸化した状
態では超電導状態を示す材料にはならない。このZの数
値は本発明の材料の作成条件、特に反応雰囲気の制御に
より、ある程度までコントロール可能である。特に還元
雰囲気下での反応焼成が効果的である。
又、本発明で使用する原料はすべて安価なものであり、
原料コストは低く本発明の材料は安価に提供可能である
。例えば、本発明の材料はYBa2Cu30y−zで代
表される一連の化合物に比べてもむしろ安価に提供でき
る。又、上記の化合物に比べて本発明の材料は空気中に
おいて比較的安定で劣化が少なく、湿度による劣化も比
較的少ない。作成に際してはV3Ga等の場合の様な真
空中での加熱は不要で、大気圧下の還元雰囲気中で加熱
焼結して作ることができる。又、人体に特に有害な成分
を含んでいないので安心して使用できる。
原料コストは低く本発明の材料は安価に提供可能である
。例えば、本発明の材料はYBa2Cu30y−zで代
表される一連の化合物に比べてもむしろ安価に提供でき
る。又、上記の化合物に比べて本発明の材料は空気中に
おいて比較的安定で劣化が少なく、湿度による劣化も比
較的少ない。作成に際してはV3Ga等の場合の様な真
空中での加熱は不要で、大気圧下の還元雰囲気中で加熱
焼結して作ることができる。又、人体に特に有害な成分
を含んでいないので安心して使用できる。
モしてTcは液体ヘリウム温度(4,2K)よりも高い
ので比較的手軽に超電導材料として使用することができ
る。
ので比較的手軽に超電導材料として使用することができ
る。
(実施例)
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
実施例1乃至5及び比較例1乃至5
原料としてCaCO5、La2O3及びV、O6を用い
、これらを下記第1表に示した組成比に秤量して乾式混
合した。これらの混合物を夫々φ10■l、厚みl龍の
ベレット状に加圧形成し、成形物を夫々アルミナホード
の上で900℃で反応及び焼結させ、本発明及び比較例
のバナジウム酸化物材料を調製した。
、これらを下記第1表に示した組成比に秤量して乾式混
合した。これらの混合物を夫々φ10■l、厚みl龍の
ベレット状に加圧形成し、成形物を夫々アルミナホード
の上で900℃で反応及び焼結させ、本発明及び比較例
のバナジウム酸化物材料を調製した。
上記調製時の各成分の反応雰囲気は比較例1及び5の場
合は酸素(02) 100%とし、比較例2、実施例1
.2.3及び比較例3の場合には夫々アルゴン(^r)
80%及び水素(H2) 20%とし、比較例4、実施
例4.5の場合には夫々水素100%、水素50%及び
アルゴン50%、アルゴン100%とし、圧力は大気圧
とした。尚、水素は雰囲気を還元性にするために使用し
た。
合は酸素(02) 100%とし、比較例2、実施例1
.2.3及び比較例3の場合には夫々アルゴン(^r)
80%及び水素(H2) 20%とし、比較例4、実施
例4.5の場合には夫々水素100%、水素50%及び
アルゴン50%、アルゴン100%とし、圧力は大気圧
とした。尚、水素は雰囲気を還元性にするために使用し
た。
この様に作成した夫々の酸化物を3Kから50にの温度
範囲で超電導性を測定した。その結果を下記第1表に示
した。
範囲で超電導性を測定した。その結果を下記第1表に示
した。
第1表より明らかな様に、本発明の酸化物材料は超電導
性を示しているが、これに対して比較例の酸化物材料は
測定温度範囲内では超電導性は示さなかった。
性を示しているが、これに対して比較例の酸化物材料は
測定温度範囲内では超電導性は示さなかった。
U コー
一處−光1至及比上 Tc
区赳 い 釦 L 」 昼り災施倒
1 0.03 0.6 1 2.9
52 0.2 0.8 + 2.9
93 0.4 0.8 1 2.
9 64 0.6 +、4 1 2
.95 55 0.2 0.8 1 2
.6 8ル秋夕 1 0 1.0 1 32
0.0+ 0.8 1 2.9
3 0.6 +、5 1
2.94 0.2 0.8
1 2.45 0.2
0.8 1 3.0Tcの欄のmmは、
4に以上では超電導転移を起こさなかったことを示す。
52 0.2 0.8 + 2.9
93 0.4 0.8 1 2.
9 64 0.6 +、4 1 2
.95 55 0.2 0.8 1 2
.6 8ル秋夕 1 0 1.0 1 32
0.0+ 0.8 1 2.9
3 0.6 +、5 1
2.94 0.2 0.8
1 2.45 0.2
0.8 1 3.0Tcの欄のmmは、
4に以上では超電導転移を起こさなかったことを示す。
実施例2
電子ビーム蒸着装置により支持体上に本発明の材料から
なる薄膜を形成する場合には、先ず3セツトのるつぼと
電子線源を蒸着装置内に配置し、3個のるつぼにカルシ
ウム、ランタン及びバナジウムを入れる。基板として酸
化マグネシウム(hlgo)を用い、真空チャンバー内
を2X10−’Torrまで引いてから、基板加熱ヒー
ターにより基板を600℃に加熱する。次に真空チャン
バー内に酸素(02)をI SCCMの流量で導入しな
がら蒸着を開始する。一般に良く知られている方法に従
い、各るつぼから飛ぶカルシウム、ランタン及びバナジ
ウムの蒸発速度をモニターして、電子ビームにフィード
バックをかけ、膜中のランタン:カルシウム:バナジウ
ムの比が0.2:0.8: 1となる様に制御する。こ
の時酸素はバナジウムに対して1乃至2程度の少ない量
だけが取り込まれる。
なる薄膜を形成する場合には、先ず3セツトのるつぼと
電子線源を蒸着装置内に配置し、3個のるつぼにカルシ
ウム、ランタン及びバナジウムを入れる。基板として酸
化マグネシウム(hlgo)を用い、真空チャンバー内
を2X10−’Torrまで引いてから、基板加熱ヒー
ターにより基板を600℃に加熱する。次に真空チャン
バー内に酸素(02)をI SCCMの流量で導入しな
がら蒸着を開始する。一般に良く知られている方法に従
い、各るつぼから飛ぶカルシウム、ランタン及びバナジ
ウムの蒸発速度をモニターして、電子ビームにフィード
バックをかけ、膜中のランタン:カルシウム:バナジウ
ムの比が0.2:0.8: 1となる様に制御する。こ
の時酸素はバナジウムに対して1乃至2程度の少ない量
だけが取り込まれる。
厚み5,000人程変色蒸着が済んだ後、基板温度を充
分下げてから大気中に取り出し、900℃にて数時間乃
至10時間程度大気中でアニールを行う。こうして得ら
れた薄膜状の本発明の酸化物材料は多結晶で6にで超電
導状態を示した。
分下げてから大気中に取り出し、900℃にて数時間乃
至10時間程度大気中でアニールを行う。こうして得ら
れた薄膜状の本発明の酸化物材料は多結晶で6にで超電
導状態を示した。
実施例3
原料として5rCO,、La2o、及びv、o、を用い
、実施例1と同様の方法で反応及び焼結させ、Lao、
、 Sro、 、vo2. 、の組成での焼結体状の
本発明のバナジウム酸化物材料を作成した。焼結の際の
還元雰囲気は実施例1と同様にアルゴン80%及び水素
20%の混合気であり、圧力は大気圧とした。こうして
作成したLao、 2 Sr。、vo、、 9の組成式
の本発明の金属酸化物材料は5に以下で超電導状態にな
った。これは5rVO+について知られているTc=1
.5によりも高く、液体ヘリウムで容易に冷却できる温
度である。
、実施例1と同様の方法で反応及び焼結させ、Lao、
、 Sro、 、vo2. 、の組成での焼結体状の
本発明のバナジウム酸化物材料を作成した。焼結の際の
還元雰囲気は実施例1と同様にアルゴン80%及び水素
20%の混合気であり、圧力は大気圧とした。こうして
作成したLao、 2 Sr。、vo、、 9の組成式
の本発明の金属酸化物材料は5に以下で超電導状態にな
った。これは5rVO+について知られているTc=1
.5によりも高く、液体ヘリウムで容易に冷却できる温
度である。
(効 果)
以上説明したように本発明により以下の効果が得られる
。
。
(1)液体ヘリウム温度以上で超電導を示す新規なバナ
ジウム酸化物材料が得られる。
ジウム酸化物材料が得られる。
(2)安価な材料で超電導性を有するバナジウム酸化物
材料が得られる。
材料が得られる。
(3)空気中で安定で且つ人体に無害な超電導性バナジ
ウム酸化物材料が得られる。
ウム酸化物材料が得られる。
特許出願人 キャノン株式会社
代理人 弁理士 吉 1)勝 広 斥ljl’;”’
l”−
l”−
Claims (3)
- (1)バナジウムを含む金属酸化物において、バナジウ
ムと酸素の他に二種の原子又は原子団A及びBを含み、
Aがランタノイドとイットリウムから成る群より選ばれ
た原子又は原子団であり、且つBが周期律表第IIa族
の元素から成る群より選ばれた原子又は原子団である事
を特徴とする金属酸化物材料。 - (2)組成式が(A_xB_y)VO_3_−_zで表
わされ、0.03≦x≦0.6、0.6≦y≦1.4及
び0≦z≦0.5である特許請求の範囲第(1)項に記
載の金属酸化物材料。 - (3)Aがランタンであり、Bがカルシウムとストロン
チウムから成る群から選ばれた原子である特許請求の範
囲第(2)項に記載の金属酸化物材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62257773A JPH01100026A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 金属酸化物材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62257773A JPH01100026A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 金属酸化物材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01100026A true JPH01100026A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=17310901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62257773A Pending JPH01100026A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 金属酸化物材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01100026A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01308803A (ja) * | 1988-06-08 | 1989-12-13 | Mitsubishi Electric Corp | 酸化物超電導体の製造方法 |
JP2017206406A (ja) * | 2016-05-18 | 2017-11-24 | 株式会社村田製作所 | 導電性磁器組成物、導電部材、及びセラミック電子部品 |
-
1987
- 1987-10-13 JP JP62257773A patent/JPH01100026A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01308803A (ja) * | 1988-06-08 | 1989-12-13 | Mitsubishi Electric Corp | 酸化物超電導体の製造方法 |
JP2017206406A (ja) * | 2016-05-18 | 2017-11-24 | 株式会社村田製作所 | 導電性磁器組成物、導電部材、及びセラミック電子部品 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH029719A (ja) | 超伝導物質 | |
JPH04500198A (ja) | オゾンを用いた超電導セラミック酸化物の調製 | |
JP2711253B2 (ja) | 超伝導膜及びその形成方法 | |
JPH01100026A (ja) | 金属酸化物材料 | |
JPH01252538A (ja) | 金属酸化物材料 | |
JPH0286014A (ja) | 複合酸化物超電導薄膜と、その成膜方法 | |
JP2950422B2 (ja) | 金属酸化物材料 | |
JPH0825742B2 (ja) | 超電導材料の作製方法 | |
US5354733A (en) | Copper oxide superconductor containing carbonate radicals | |
JP2597656B2 (ja) | 高臨界温度を有する超電導材料及びその製造方法 | |
US5371066A (en) | Method for oxidizing precursor compounds of superconducting oxides | |
JPH0292809A (ja) | 酸化物超電導体薄膜の製造方法 | |
JP2523013B2 (ja) | 酸化物超電導薄膜の製造法 | |
JP2593917B2 (ja) | 高臨界温度を有する超電導材料及びその製造方法 | |
JP2817869B2 (ja) | 炭酸基を含む銅酸化物超伝導体およびその製造方法 | |
JP2683689B2 (ja) | 酸化物超伝導薄膜作製方法 | |
JPH03126623A (ja) | 金属酸化物材料 | |
JPS63274027A (ja) | 超電導材料の製造方法 | |
JPS63295465A (ja) | 超伝導材料組成物 | |
JPH01264114A (ja) | 複合酸化物超電導体薄膜の作製方法 | |
JPS63291815A (ja) | 超電導体の製造方法 | |
JPH04317408A (ja) | 酸化物超伝導材料 | |
JPH03265521A (ja) | 超伝導複合酸化物 | |
JPS63295466A (ja) | 超伝導材料組成物 | |
JPS63256566A (ja) | 超伝導性材料 |