JP7846464B2 - ポジ型感光性樹脂組成物 - Google Patents

ポジ型感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JP7846464B2
JP7846464B2 JP2023538323A JP2023538323A JP7846464B2 JP 7846464 B2 JP7846464 B2 JP 7846464B2 JP 2023538323 A JP2023538323 A JP 2023538323A JP 2023538323 A JP2023538323 A JP 2023538323A JP 7846464 B2 JP7846464 B2 JP 7846464B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
positive
resin composition
photosensitive resin
type photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2023538323A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2023007972A1 (ja
JPWO2023007972A5 (ja
Inventor
翔太 今井
勲 安達
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Publication of JPWO2023007972A1 publication Critical patent/JPWO2023007972A1/ja
Publication of JPWO2023007972A5 publication Critical patent/JPWO2023007972A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7846464B2 publication Critical patent/JP7846464B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/301—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety and one oxygen in the alcohol moiety
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F222/20—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/22—Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物、当該樹脂組成物より得られる硬化膜、マイクロレンズ及びその作製方法に関するものである。
ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサなどの撮像素子、あるいは液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示素子には、性能向上のためにマイクロレンズと呼ばれる微小なレンズがしばしば用いられる。例えば、前記イメージセンサにマイクロレンズを設けることは、集光率を向上させてセンサ感度を高める効果がある。
マイクロレンズの作製方法の１つとして、エッチバック法が知られている（例えば、特許文献１）。すなわち、カラーフィルター上にマイクロレンズ用樹脂層を形成し、該樹脂層上にポジ型レジストを塗布し、該レジストの一部を露光及び現像し、必要に応じて加熱することでレンズパターンを形成し、該レンズパターンをエッチングマスクとしてエッチバックすることで、該レンズパターン形状をマイクロレンズ用樹脂層に転写してマイクロレンズを作製する。
一方、製造コスト削減の観点から、前記ポジ型レジストをそのままレンズとして利用する方法が提案されている。この場合、レジストとしての特性とマイクロレンズとしての特性を併せ持つことが必要となるため、ポジ型パターニングが可能であるのみならず、形成されるマイクロレンズが優れた透明性及び薬品耐性を有する、感光性樹脂組成物が要求される。ここで、マイクロレンズの形状は素子の設計次第で異なり、角柱、円柱、角錐台、円錐台及び球欠等の様々な形状が要求され得る。球欠形状のマイクロレンズを作製する場合は、角柱又は角錐台等のパターンを形成した後にリフロー（加熱により流動化すること。メルトフロー又はサーマルフローともいう。）させる方法が知られている。
例えば、特許文献２にはアルカリ可溶性共重合体及びキノンジアジド基含有化合物を含む感光性樹脂組成物が提案されている。該組成物を用いることで、露光及び現像により樹脂パターンを形成した後、加熱によりフェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基とを架橋させてマイクロレンズを得ることができる。
しかし近年、有機デバイスやフレキシブルデバイス等の耐熱性が低いデバイスが用いられるようになってきたことから、プロセスの低温化の要求が増えている。それに伴って、低温プロセスでも良好な性能を有するマイクロレンズを作製することが可能な、ポジ型感光性樹脂組成物が望まれている。球欠形状のマイクロレンズを作製する場合には、低温でも十分にリフローすることが求められる。特許文献２に記載の感光性樹脂組成物は、フェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基との熱硬化を採用しているが、この熱硬化反応は通常１５０℃を超える高温条件が必要であり、したがって１５０℃以下の低温プロセスには適さない。
そこで特許文献３及び特許文献４では、アルカリ可溶性重合体、キノンジアジド化合物に加え、光酸発生剤を含む感放射線性樹脂組成物が提案されている。該組成物を用いることで、露光及び現像により樹脂パターンを形成した後、再度露光することにより樹脂パターン内部で強酸を発生させ、カチオン重合を進行させることができるためプロセスの低温化が可能となる。しかし、該組成物はＰＥＤにより露光部の膜物性（感度特性やパターニング特性等）が変化する虞があった。ここで、ＰＥＤとはＰｏｓｔＥｘｐｏｓｕｒｅ Ｄｅｌａｙ（露光後遅延）の意であり、露光工程から次の工程（現像工程等）までのインターバルを指す概念である。大型装置を用いてマイクロレンズを作製する場合、ウエハの搬送等に時間を要するため、実用性の観点から通常少なくとも２時間以上のＰＥＤを許容し得るような高いＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）の材料が必要とされる。このような背景を踏まえると、特許文献３及び特許文献４に記載されているようなアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び光酸発生剤を含む感光性樹脂組成物は、低温プロセスでマイクロレンズを作製することができる点で優位性があるものの、ＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）に乏しく、またＰＥＤによる露光部の膜物性変化の原因が不明であったため、ＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）の改善及びＰＥＤによる膜物性変化の原因究明が望まれていた。
また特許文献４には、未露光部の膜物性変化を抑制する目的で、露光部で発生した酸が未露光部へ拡散することを防ぐ酸拡散制御剤が記載されている。例えば、特許文献５に記載されている化学増幅ポジ型レジストは、塩基を酸拡散制御剤として添加することができる。しかしながら前記酸拡散制御剤は、露光部の膜物性変化を防ぐものとは異なる。
特開平１－１０６６６号公報 特開２００７－３３５１８号公報 特開２００９－７５３２９号公報 特開２０２０－１０１６５９号公報 国際公開２００７／００７１７６号
本発明は上記の事情に基づいてなされたものであり、その目的は、ポジ型パターニングが可能で、１５０℃以下の低温プロセスであっても所望の形状を有するマイクロレンズを形成することができ、形成されるマイクロレンズが優れた透明性及び薬品耐性を有しつつ、ＰＥＤ［Ｐｏｓｔ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｄｅｌａｙ（露光後遅延）］による露光部の膜物性変化を抑制できるポジ型感光性樹脂組成物を提供することである。
本発明者らは、前記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、ＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）向上剤と称する添加剤を見出した。すなわち、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物において、ＰＥＤによる露光部の膜物性変化の原因が露光部におけるカチオン重合反応であることを明らかにし、露光部におけるカチオン重合の開始反応又は成長反応を阻害するような成分を添加することでＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）の向上が可能であることを突き止め、本発明を完成するに至った。
本発明の第一態様は、下記（Ａ）成分、下記（Ｂ）成分、下記（Ｃ）成分及び下記（Ｄ）成分、又は下記（Ａ´）成分、下記（Ｂ）成分、下記（Ｃ）成分、下記（Ｄ）成分及び下記（Ｅ）成分を含み、さらに溶剤を含むポジ型感光性樹脂組成物である。
（Ａ）成分：酸架橋性基を有するアルカリ可溶性樹脂
（Ａ´）成分：酸架橋性基を有さないアルカリ可溶性樹脂
（Ｂ）成分：キノンジアジド化合物
（Ｃ）成分：光酸発生剤
（Ｄ）成分：ＰＥＤ安定性向上剤
（Ｅ）成分：酸架橋性基を分子中に少なくとも２つ有する化合物
前記（Ａ）成分及び前記（Ａ´）成分は、例えばカルボキシ基を有するアルカリ可溶性樹脂である。
前記（Ａ）成分及び前記（Ａ´）成分は、例えばフェノール性ヒドロキシ基を有するアルカリ可溶性樹脂である。
前記（Ａ）成分及び前記（Ａ´）成分は、例えば下記式（１）で表される構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂である。
（式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは－Ｏ－基又は－ＮＨ－基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ａは１又は２を表し、ｂは０乃至２の整数を表す。）
前記式（１）で表される構造単位においてＸは、例えば－ＮＨ－基を表す。
前記酸架橋性基は、例えばエポキシ環又はオキセタン環を含む官能基である。
前記（Ａ）成分及び前記（Ａ´）成分のポリスチレン換算重量平均分子量は、例えば１，０００乃至１００，０００である。
前記（Ｃ）成分は、例えば非イオン性光酸発生剤である。該非イオン性光酸発生剤は、例えば下記式（２）で表される光酸発生剤である。
（式中、Ｒ３は炭素原子数１乃至１０の炭化水素基又はパーフルオロアルキル基であり、Ｒ４は炭素原子数１乃至８の直鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基、又は炭素原子数３乃至８の分岐鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基である。）
前記（Ｄ）成分は、例えば光塩基発生剤又は塩基性化合物である。
前記（Ｄ）成分は、例えばアミン類である。
前記（Ｄ）成分の含有量は、例えば前記（Ａ）成分１００質量部に対し０．１質量部乃至３質量部である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、下記（Ｆ）成分をさらに含有してもよい。
（Ｆ）成分：増感剤
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、例えばマイクロレンズ作製用である。
本発明の第二態様は、前記ポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜である。
本発明の第三態様は、前記ポジ型感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズである。
本発明の第四態様は、前記ポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗布して樹脂膜を形成する塗布工程、前記塗布工程の後に樹脂膜の少なくとも一部を露光する第一露光工程、前記第一露光工程の後に前記樹脂膜の露光部を現像液により除去して該樹脂膜の未露光部のパターンを形成する現像工程、前記現像工程の後に前記パターンをさらに露光する第二露光工程、及び前記第二露光工程の後に前記パターンを１５０℃以下の温度で加熱するポストベーク工程を含む、マイクロレンズの作製方法である。
前記現像工程の後及び前記第二露光工程の前に、前記パターンを１５０℃以下の温度で加熱するリフロー工程を含んでもよい。
前記基材は、例えばカラーフィルターが形成された基板である。
アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物において、ＰＥＤにより露光部の膜物性変化が起こる機構は次の通りである。すなわち、ポジ型パターニングのための第一の露光工程時、露光部においてキノンジアジド化合物からカルボン酸が生じるのみならず光酸発生剤由来の強酸も微量ながら生じ、次の現像工程までの間に、この強酸が起点となって酸架橋性基を有するアルカリ可溶性樹脂中又は酸架橋性基を有する化合物中に含まれるカチオン重合性基（例えば、エポキシ基、エポキシシクロアルキル基、オキセタニル基）のカチオン重合反応が進行し、結果として露光部の膜物性変化が起こる。そこで、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、前記（Ｄ）成分を添加することによって、ポジ型パターニングのための第一の露光工程時に露光部において進行するカチオン重合の開始反応又は成長反応を阻害することができ、ＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）を向上させることが可能となる。ここで、該（Ｄ）成分は、特許文献４に記載されている酸拡散制御剤と課題及び効果は異なる。
本発明によれば、ポジ型パターニングが可能で、１５０℃以下の低温プロセスであっても所望の形状を有するマイクロレンズを形成することができ、形成されるマイクロレンズが優れた透明性及び薬品耐性を有しつつ、ＰＥＤによる露光部の膜物性変化を抑制できるポジ型感光性樹脂組成物を提供することができる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物について、より詳細に説明する。
［（Ａ）成分／（Ａ´）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ａ）成分又は（Ａ´）成分は、アルカリ現像液に可溶な樹脂であって、特許文献５に記載されているような、化学増幅ポジ型レジスト等に用いられるアルカリ不溶性樹脂とは明確に区別される。（Ａ）成分又は（Ａ´）成分はアルカリ現像液に可溶な樹脂であれば特に限定されず、例えば、ポリシロキサン樹脂、ノボラック樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、メタクリル酸樹脂、メタクリル酸エステルなどのアクリル系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、及び環状オレフィン系樹脂等が挙げられる。これらのアルカリ可溶性樹脂に含まれるアルカリ可溶性基は、通常、酸解離定数ｐＫａ（多価酸の場合は最も低い値）が１３以下の官能基であり、現像マージンの観点から酸解離定数ｐＫａが好ましくは０乃至１３、より好ましくは４乃至１２の官能基を用いることができる。具体例としては、シラノール基、フルオロアルコール基、マレイミド基、カルボキシ基、及びフェノール性ヒドロキシ基等が挙げられる。これらのアルカリ可溶性基は、アルカリ可溶性樹脂中に１種のみでも、２種以上含んでいてもよい。
また、（Ａ）成分は、その部分構造に酸架橋性基を有する。ここで、酸架橋性基は、酸性条件において、それ自身と又は他の官能基と共有結合を形成し得る官能基であれば特に限定されず、例えば、Ｎ－メチロール基、Ｎ－メトキシメチル基、Ｎ－ビニル基、スチリル基、ビニルエーテル基、エポキシ基、エポキシシクロアルキル基、オキセタニル基、テトラヒドロフラニル基、及びテトラヒドロピラニル基等が挙げられる。低温硬化性の観点から特にカチオン重合性基が酸架橋性基として好ましく、その中でも特にエポキシ環を含む官能基であるエポキシ基及びエポキシシクロアルキル基、並びにオキセタン環を含む官能基であるオキセタニル基が好ましい。これらの酸架橋性基は、（Ａ）成分中に１種のみでも、２種以上含んでいてもよい。（Ａ）成分がその部分構造に酸架橋性基を有することで、薬品耐性をよりいっそう向上させることができる。一方、（Ａ´）成分は、その部分構造に酸架橋性基を有さない。
（Ａ）成分又は（Ａ´）成分は、アルカリ可溶性基又はアルカリ可溶性基前駆体を少なくとも一つ有するモノマー及び必要に応じてその他のモノマーの重合反応（付加重合、開環重合、縮合重合、付加縮合、重付加）によって合成できる。また、任意で前記重合反応に続いて高分子反応を行ってもよい。これら重合反応及び高分子反応としては各種公知の方法を採用することができる。（Ａ）成分又は（Ａ´）成分のアルカリ可溶性樹脂は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
前記アルカリ可溶性樹脂の中でも特に、ラジカル重合性モノマーを共重合することによって得られる共重合体が好ましい。該共重合体の重合成分として用いられるアルカリ可溶性基含有ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、以下に示すモノマーが挙げられる。
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、無水マレイン酸、無水フマル酸、無水シトラコン酸、無水メサコン酸、無水イタコン酸、ビニル安息香酸、ｏ－カルボキシフェニル（メタ）アクリレート、ｍ－カルボキシフェニル（メタ）アクリレート、ｐ－カルボキシフェニル（メタ）アクリレート、ｏ－カルボキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ｍ－カルボキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ｐ－カルボキシフェニル（メタ）アクリルアミド、コハク酸モノ［２－（メタ）アクリロイルオキシエチル］、フタル酸モノ［２－（メタ）アクリロイルオキシエチル］、ω－カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、５－カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、及び５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン無水物等のカルボキシ基又はカルボン酸無水物基を含有するモノマー；
ｏ－ヒドロキシスチレン、ｍ－ヒドロキシスチレン、ｐ－ヒドロキシスチレン、α－メチル－ｏ－ヒドロキシスチレン、α－メチル－ｍ－ヒドロキシスチレン、α－メチル－ｐ－ヒドロキシスチレン、２－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシフェネチル（メタ）アクリレート、３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、３，５－ジメチル－４－ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェネチル（メタ）アクリレート、Ｎ－（２－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（４－ヒドロキシベンジル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（４－ヒドロキシフェネチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシベンジル）（メタ）アクリルアミド、及びＮ－（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェネチル）（メタ）アクリルアミド等のフェノール性ヒドロキシ基含有モノマー。
なお、本発明では、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸とメタクリル酸の両方をいう。
フェノール性ヒドロキシ基含有モノマーとしては、耐熱性等の観点から特に前記式（１）で表される構造単位を形成するモノマーが好ましく、その中でも特に（メタ）アクリルアミドが好ましい。これらのモノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
（Ａ）成分の場合、前記アルカリ可溶性基含有ラジカル重合性モノマーに加え、酸架橋性基含有ラジカル重合性モノマーを重合成分として含む。一方、（Ａ´）成分の場合、酸架橋性基含有ラジカル重合性モノマーを重合成分として含まない。酸架橋性基含有ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、以下に示すモノマーが挙げられる。
グリシジル（メタ）アクリレート、α－エチルグリシジルアクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、α－エチル－６，７－エポキシヘプチルアクリレート、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、イソプロペニルグリシジルエーテル、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンモノオキシド等のエポキシ環を含む官能基含有モノマー；
３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－２－メチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－３－エチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－２－フェニルオキセタン、３－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－２－エチルオキセタン、３－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－３－エチルオキセタン、３－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－２－フェニルオキセタン、２－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－３－メチルオキセタン、２－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－４－エチルオキセタン、２－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－３－フェニルオキセタン、２－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、２－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－３－エチルオキセタン、２－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－４－エチルオキセタン、２－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－３－フェニルオキセタン等のオキセタン環を含む官能基含有モノマー。
これらの酸架橋性基含有ラジカル重合性モノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
また、（Ａ）成分又は（Ａ´）成分は必要に応じてその他のラジカル重合性モノマーを重合成分としてもよく、その他のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、以下に示すモノマーが挙げられる。
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１－アダマンチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ｏ－メトキシフェニル（メタ）アクリレート、ｍ－メトキシフェニル（メタ）アクリレート、ｐ－メトキシフェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、スチレン、α－メチルスチレン、ｏ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、ｏ－メトキシスチレン、ｍ－メトキシスチレン、ｐ－メトキシスチレン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、１－ビニルナフタレン、２－ビニルナフタレン、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－エチルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－ナフチルマレイミド、１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル。
これらのその他のラジカル重合性モノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
（Ａ）成分又は（Ａ´）成分の分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）等によって算出されるポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷとして１，０００乃至１００，０００、好ましくは２，０００乃至５０，０００、より好ましくは５，０００乃至３０，０００である。上記範囲内とすることで、薬品耐性を損なうことなく現像後に良好なパターンを形成することができる。
球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製する場合、（Ａ）成分又は（Ａ´）成分のガラス転移温度は、７０℃乃至１５０℃である。上記範囲内とすることで、１５０℃以下の低温プロセスにおいても良好なリフロー性を有し、所望の球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することができる。
［（Ｂ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ｂ）成分は、１，２－キノンジアジド基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ヒドロキシ基含有化合物と、１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。具体的には、前記ヒドロキシ基含有化合物のヒドロキシ基のうち、１０モル％乃至１００モル％、好ましくは２０モル％乃至９５モル％が、前記１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドでエステル化された化合物を用いることができる。前記縮合反応は、各種公知の方法を採用することができる。
前記ヒドロキシ基含有化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン等のジヒドロキシベンゾフェノン類；
２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン及び２，４，６－トリヒドロキシベンゾフェノン等のトリヒドロキシベンゾフェノン類；
２，４，２’，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’－テトラヒドロキシ－４’－メチルベンゾフェノン、及び２，３，４，４’－テトラヒドロキシ－３’－メトキシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシベンゾフェノン類；
２，３，４，２’，４’－ペンタヒドロキシベンゾフェノン及び２，３，４，２’，６’－ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のペンタヒドロキシベンゾフェノン類；
２，４，６，３’，４’，５’－ヘキサヒドロキシベンゾフェノン及び３，４，５，３’，４’，５’－ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のヘキサヒドロキシベンゾフェノン類；
２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，３，３－トリス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、ビス（２，４－ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ－ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１－トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４－トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２－ビス（２，３，４－トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３－トリス（２，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－３－フェニルプロパン、４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、ビス（２，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－２－ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’－テトラメチル－１，１’－スピロビインデン－５，６，７，５’，６’，７’－ヘキサノール、及び２，２，４－トリメチル－７，２’，４’－トリヒドロキシフラバン等の（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類；
フェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ガリック酸メチル、ガリック酸エチル、２－メチル－２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４－（４－ヒドロキシフェニル）－７－ヒドロキシクロマン、１－［１－（３－｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－４，６－ジヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル］－３－（１－（３－｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－４，６－ジヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル）ベンゼン、及び４，６－ビス｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－１，３－ジヒドロキシベンゼン等のその他化合物。
これらの化合物の中でも、２，３，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，１－トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）エタン、及び４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノールが好ましい。
前記１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましく、１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－４－スルホン酸クロリド及び１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホン酸クロリドがより好ましく、１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホン酸クロリドがさらに好ましい。
（Ｂ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、５質量部乃至１００質量部、好ましくは１０質量部乃至６０質量部、より好ましくは１５質量部乃至４０質量部である。（Ｂ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、感度を著しく低下させることなく露光部と未露光部との間のアルカリ現像液に対する溶解度差を大きくすることができ、比較的低露光量でポジ型パタ－ニングが可能となる。
［（Ｃ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ｃ）成分は、露光により酸解離定数ｐＫａが４以下の酸を生じ得る化合物であれば特に限定されず、イオン性光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤が挙げられる。
イオン性光酸発生剤としては、例えば、以下に示す商品及び化合物を用いることができる。
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－０５６、同ＳＰ－１７１（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＣＰＩ（登録商標）－１００Ｂ（４０）、同－１００Ｐ、同－１０１Ａ、同－１１０Ａ、同－１１０Ｂ、同－１１０Ｐ、同－２００Ｋ、同－２１０Ｓ、同－３００、同－３１０Ｂ、同－３１０ＦＧ、同－４００、同－４１０Ｂ、同－４１０Ｓ、ＶＣ－１ＦＧ、ＥＳ－１Ｂ（以上、サンアプロ（株）製）、ＴＰＳ－ＴＦ、ＴＰＳ－ＣＳ、ＴＰＳ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＴＰＳ－１０２、ＴＰＳ－１０３、ＴＰＳ－１０５、ＴＰＳ－１０６、ＴＰＳ－１０９、ＴＰＳ－２００、ＴＰＳ－３００、ＴＰＳ－１０００、ＨＤＳ－１０９、ＭＤＳ－１０３、ＭＤＳ－１０５、ＭＤＳ－１０９、ＭＤＳ－２０５、ＭＤＳ－２０９、ＢＤＳ－１０９、ＭＮＰＳ－１０９、ＤＴＳ－１０２、ＤＴＳ－１０３、ＤＴＳ－１０５、ＤＴＳ－２００、ＮＤＳ－１０３、ＮＤＳ－１０５、ＮＤＳ－１５５、及びＮＤＳ－１６５（以上、みどり化学（株）製）等のアリールスルホニウム塩類；
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－１４０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＩＫ－１、ＩＫ－１ＰＣ（８０）、ＩＫ－１ＦＧ、（以上、サンアプロ（株）製）、ＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＤＰＩ－１０５、ＤＰＩ－１０６、ＤＰＩ－１０９、ＤＰＩ－２０１、ＢＩ－１０５、ＭＰＩ－１０５、ＭＰＩ－１０６、ＭＰＩ－１０９、ＢＢＩ－１０２、ＢＢＩ－１０３、ＢＢＩ－１０５、ＢＢＩ－１０６、ＢＢＩ－１０９、ＢＢＩ－１１０、ＢＢＩ－２００、ＢＢＩ－２０１、ＢＢＩ－３００、及びＢＢＩ－３０１（以上、みどり化学（株）製）等のアリールヨードニウム塩類。
非イオン性光酸発生剤としては、例えば、以下に示す商品及び化合物を用いることができる。
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－０８２、同ＳＰ－６０６（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＡ－ＣＳ１、ＮＰ－ＴＭ２、ＮＰ－ＳＥ１０（以上、サンアプロ（株）製）、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＰＩ－１０６、ＮＤＩ－１０１、ＮＤＩ－１０５、ＮＤＩ－１０６、ＮＤＩ－１０９、ＮＤＩ－１００１、ＮＤＩ－１００４、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＮＡＩ－１０９、ＮＡＩ－１００２、ＮＡＩ－１００３、及びＮＡＩ－１００４（以上、みどり化学（株）製）等のＮ－スルホニルオキシイミド類；
ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＰＡＩ－０１、ＰＡＩ－１０１、ＰＡＩ－１０６、ＰＡＩ－１００１、ＰＡＩ－１００２、ＰＡＩ－１００３、及びＰＡＩ－１００４（以上、みどり化学（株）製）等のオキシムスルホネート類；
ＴＡＺ－１００、ＴＡＺ－１０１、ＴＡＺ－１０２、ＴＡＺ－１０３、ＴＡＺ－１０４、ＴＡＺ－１０７、ＴＡＺ－１０８、ＴＡＺ－１０９、ＴＡＺ－１１０、ＴＡＺ－１１３、ＴＡＺ－１１４、ＴＡＺ－１１８、ＴＡＺ－１２２、ＴＡＺ－１２３、ＴＡＺ－２０３、及びＴＡＺ－２０４（以上、みどり化学（株）製）等のトリアジン類。
これらのイオン性光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤の中でも、保存安定性や感度の観点から非イオン性光酸発生剤が好ましく、Ｎ－スルホニルオキシイミド類がより好ましく、前記式（２）で表される化合物がさらに好ましい。前記式（２）で表される化合物の具体例としては、下記式（２－１）乃至下記式（２－２８）で表される化合物が挙げられる。
（Ｃ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１質量部乃至１０質量部、好ましくは０．５質量部乃至５質量部である。（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、透明性を損なうことなく薬品耐性を向上させることができる。
［（Ｄ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ｄ）成分は、露光部におけるカチオン重合の開始反応又は成長反応を阻害することができる化合物であれば特に限定されず、例えば、光塩基発生剤及び塩基性化合物（アミン類、第４級アンモニウム類、無機塩基類）等が挙げられる。
前記光塩基発生剤としては、露光により塩基を生じ得る化合物であれば特に限定されず、例えば、以下に示す商品を用いることができる。
ＷＰＢＧ－０１８、同－０２７、同－１４０、同－１６５、同－２６６、同－３００、同－３４５（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、ＮＢＣ－１０１及びＡＮＣ－１０１（以上、みどり化学（株）製）。
前記塩基性化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
エチルアミン、ｎ－プロピルアミン、イソプロピルアミン、シクロプロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、イソブチルアミン、シクロブチルアミン、ｎ－ペンチルアミン、イソぺンチルアミン、シクロペンチルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ｎ－へプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、ｎ－ノニルアミン、ｎ－デシルアミン、ｎ－ウンデシルアミン、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－トリデシルアミン、オレイルアミン、２－エチルへキシルアミン、アニリン、ベンジルアミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、３－エトキシプロピルアミン、３－イソプロポキシプロピルアミン、３－ブトキシプロピルアミン、１－アミノ－２－プロパノール及びエチレンジアミン等の第１級アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ－ｎ－ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ－ｎ－ペンチルアミン、ジシクロペンチルアミン、ジ－ｎ－ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジフェニルアミン、ジベンジルアミン、ジ－ｎ－ヘプチルアミン、ジ－ｎ－オクチルアミン、ジ－ｎ－ノニルアミン、ジ－ｎ－デシルアミン、ジ－ｎ－ウンデシルアミン、ジ－ｎ－ドデシルアミン、ジ－ｎ－トリデシルアミン、Ｎ－メチル－ｎ－ブチルアミン、Ｎ－メチルシクロヘキシルアミン、Ｎ－エチルメチルアミン、Ｎ－エチル－ｎ－プロピルアミン、Ｎ－エチルイソプロピルアミン、Ｎ－エチル－ｎ－ブチルアミン、Ｎ－エチルシクロヘキシルアミン、Ｎ－エチル－ｎ－ヘプチルアミン、Ｎ－イソプロピルシクロヘキシルアミン、Ｎ－フェニルベンジルアミン、Ｎ－（２－メトキシエチル）イソプロピルアミン、２－（メチルアミノ）エタノール、２－（エチルアミノ）エタノール、２－（ｎ－プロピルアミノ）エタノール、２－（イソプロピルアミノ）エタノール、２－（ｎ－ブチルアミノ）エタノール、２－（イソブチルアミノ）エタノール、ジエタノールアミン及びジブタノールアミン等の第２級アミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－プロピルアミン、トリアリルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ－ｎ－ペンチルアミン、トリ－ｎ－ヘキシルアミン、トリフェニルアミン、トリ－ｎ－ヘプチルアミン、トリ－ｎ－オクチルアミン、トリ－ｎ－ノニルアミン、トリ－ｎ－デシルアミン、トリ－ｎ－ウンデシルアミン、Ｎ－メチルジフェニルアミン、Ｎ－メチルジシクロヘキシルアミン、Ｎ－メチルジデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルブチルアミン、Ｎ－エチルジ－ｎ－プロピルアミン、Ｎ－エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｎ－プロパノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチルエタノールアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、Ｎ－ブチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリ－ｎ－プロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、テトラメチルエチレンジアミン及びテトラエチルエチレンジアミン等の第３級アミン、ピロリジン、メチルピロリジン、ピペリジン、メチルピペリジン、ピペラジン、キヌクリジン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、ピリジン及びイミダゾ－ル等の複素環式アミン等のアミン類；
水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム及び水酸化テトラブチルアンモニウム等の第４級アンモニウム類；
アンモニア、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム及びリン酸カリウム等の無機塩基類。
溶解性の観点から、これらの光塩基発生剤及び塩基性化合物の中でも特にアミン類が好ましい。（Ｄ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．０１質量部乃至１０質量部、好ましくは０．０５質量部乃至５質量部、より好ましくは０．１質量部乃至３質量部である。（Ｄ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、ＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）と薬品耐性を両立させることができる。
なお、一般に（Ｂ）成分のキノンジアジド化合物は、アミン類等の塩基性化合物と混合すると、相互作用により変色する性質があるが、本発明のポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜及び本発明のポジ型感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズの透明性を著しく損なうことは無い。
［（Ｅ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物が、（Ａ´）成分を含む場合、（Ｅ）成分を必須成分として含み、（Ａ）成分を含む場合、（Ｅ）成分を任意成分として含む。該（Ｅ）成分は、前記酸架橋性基を分子中に少なくとも２つ有する化合物であれば特に限定されず、例えば、以下に示す商品及び化合物を用いることができる。
ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８３０、同８３０－Ｓ、同８３５、同８４０、同８４０－Ｓ、同８５０、同８５０－Ｓ、同８５０－ＬＣ、同ＨＰ－８２０（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＤＥＮＡＣＯＬ（登録商標）ＥＸ－２０１、同ＥＸ－２１１、同ＥＸ－２１２、同ＥＸ－２５２、同ＥＸ－８１０、同ＥＸ－８１１、同ＥＸ－８２１、同ＥＸ－８３０、同ＥＸ－８３２、同ＥＸ－８４１、同ＥＸ－８５０、同ＥＸ－８５１、同ＥＸ－８６１、同ＥＸ－９２０、同ＥＸ－９３１、同ＥＸ－９９１Ｌ、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１、同ＥＸ－３２１Ｌ、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６１４Ｂ、同ＥＸ－６２２（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ｊＥＲ（登録商標）１５２、同６３０、同８２５、同８２７、同８２８、同８２８ＥＬ、同８２８ＵＳ、同８２８ＸＡ（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＴＥＴＲＡＤ（登録商標）－Ｃ、同－Ｘ（以上、三菱ガス化学（株）製）、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０８１、エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（以上、（株）ダイセル製）、エポトート（登録商標）ＹＤ－１１５、同ＹＤ－１１５ＣＡ、同ＹＤ－１２７、同ＹＤ－１２８、同ＹＤ－１２８Ｇ、同ＹＤ－１２８Ｓ、同ＹＤ－１２８ＣＡ、同ＹＤ－８１２５、同ＹＤ－８２５ＧＳ、同ＹＤＦ－１７０、同ＹＤＦ－１７０Ｎ、同ＹＤＦ－８１７０Ｃ、同ＹＤＦ－８７０ＧＳ、同ＺＸ－１０５９、同ＹＨ－４０４、同ＹＨ－４３４、同ＹＨ－４３４Ｌ、同ＹＨ－５１３、同ＹＨ－５２３、同ＳＴ－３０００（以上、日鉄ケミカル＆マテリアル（株）製）、アデカレジン（登録商標）ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４１００Ｇ、同ＥＰ－４１００Ｅ、同ＥＰ－４１００ＴＸ、同ＥＰ－４３００Ｅ、同ＥＰ－４４００、同ＥＰ－４５２０Ｓ、同ＥＰ－４５３０、同ＥＰ－４９０１、同ＥＰ－４９０１Ｅ、同ＥＰ－４０００、同ＥＰ－４００５、同ＥＰ－７００１、同ＥＰ－４０８０Ｅ、同ＥＰＵ－６、同ＥＰＵ－７Ｎ、同ＥＰＵ－１１Ｆ、同ＥＰＵ－１５Ｆ、同ＥＰＵ－１３９５、同ＥＰＵ－７３Ｂ、同ＥＰＵ－１７、同ＥＰＵ－１７Ｔ－６、同ＥＰＲ－１４１５－１、同ＥＰＲ－２０００、同ＥＰＲ－２００７、アデカグリシロール（登録商標）ＥＤ－５０３、同ＥＤ－５０３Ｇ、同ＥＤ－５０６、同ＥＤ－５２３Ｔ、同ＥＤ－５０５（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミエポキシ（登録商標）ＥＬＭ－４３４、同ＥＬＭ－４３４Ｌ、同ＥＬＭ－４３４ＶＬ、同ＥＬＭ－１００、同ＥＬＭ－１００Ｈ（以上、住友化学（株）製）、エポライトＭ－１２３０、同４０Ｅ，同１００Ｅ、同２００Ｅ、同４００Ｅ、同７０Ｐ、同２００Ｐ、同４００Ｐ、同１５００ＮＰ、同１６００、同８０ＭＦ、同４０００、同３００２（Ｎ）（以上、共栄社化学（株）製）及びエポカリック（登録商標）ＴＨＩ－ＤＥ（ＥＮＥＯＳ（株）製）等の多官能エポキシ樹脂；
ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＯＸＢＰ、同ＯＸＩＰＡ（以上、宇部興産（株）製）、アロンオキセタン（登録商標）ＯＸＴ－１２１及び同ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製）等の多官能オキセタン樹脂。
（Ｅ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物が（Ｅ）成分を含む場合、（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分又は（Ａ´）成分１００質量部に対して、５質量部乃至１００質量部、好ましくは１０質量部乃至５０質量部である。（Ｅ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、薬品耐性を向上させることができる。
［（Ｆ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に任意成分として含まれる（Ｆ）成分は、照射された光のエネルギーを他の物質に渡すことができる物質であれば特に限定されず、例えば、ｐ－トルキノン、１－フェニル－１，２－プロパンジオン、フェナントレン、アントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジプロピルオキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジオクタノイルオキシアントラセン、３，７－ジメトキシアントラセン、ピレン、ペリレン、キサントン、チオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、及び２－イソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
（Ｆ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物が（Ｆ）成分を含む場合、（Ｆ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．０１質量部乃至５質量部、好ましくは０．０５質量部乃至３質量部、より好ましくは０．１質量部乃至１質量部である。（Ｆ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、透明性を損なうことなく（Ｃ）成分の光酸発生剤に対して効果的に増感作用を発現し、薬品耐性を向上させることができる。
［溶剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる溶剤は、（Ａ）成分乃至（Ｄ）成分、又は（Ａ´）成分乃至（Ｅ）成分、並びに必要に応じて添加される任意成分を溶解するものであれば特に限定されず、例えば、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、エステル類、アミド類、及びニトリル類等の全ての有機溶媒を使用することができる。
前記炭化水素類としては、例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、ｎ－ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ｎ－ヘプタン、ベンゼン、トルエン、о－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン及びメシチレン等が挙げられる。
前記ハロゲン化炭化水素類としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ハイドロフルオロカーボン及びパーフルオロカーボン等が挙げられる。
前記エーテル類としては、例えば、ジエチルエーテル、ジ－ｎ－プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ－ｎ－ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジ－ｎ－ペンチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジ－ｎ－ヘキシルエーテル、メチル－ｎ－プロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、エチル－ｎ－プロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、ｎ－ブチルメチルエーテル、イソブチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、ｎ－ブチルエチルエーテル、イソブチルエチルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルエチルエーテル、メチル－ｎ－ペンチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｎ－ヘキシルメチルエーテル、シクロヘキシルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３－ジオキサン、１，４－ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル及びトリプロピレングリコールジブチルエーテル等が挙げられる。
前記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、３－ペンタノール、２－メチル－１－ブタノール、３－メチル－２－ブタノール、ネオペンチルアルコール、シクロペンタノール、メチルシクロペンタノール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、３－ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、１－ヘプタノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、４－ヘプタノール、１－オクタノール、２－オクタノール、３－オクタノール、４－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル及びトリプロピレングリコールモノブチルエーテル等の１価アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，３－プロパンジオール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，２－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，４－ペンタンジオール、１，３－ペンタンジオール、１，２－ペンタンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール及び１，２－ヘキサンジオール等の２価アルコール、並びにグリセリン等の３価アルコール等が挙げられる。
前記アルデヒド類としては、例えば、エタナール、プロパナール、２－メチル－１－プロパナール、ブタナール、３－メチルブタナール、ペンタナール及びベンズアルデヒド等が挙げられる。
前記ケトン類としては、例えば、アセトン、２－ブタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、シクロペンタノン、２，４－ペンタンジオン、４－メチル－２－ペンタノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、シクロヘキサノン及び２－ヘプタノン等が挙げられる。
前記エステル類としては、例えば、メチルホルマート、エチルホルマート、ｎ－プロピルホルマート、イソプロピルホルマート、ｎ－ブチルホルマート、イソブチルホルマート、ｔｅｒｔ－ブチルホルマート、ｎ－ペンチルホルマート、イソペンチルホルマート、メチルアセタート、エチルアセタート、ｎ－プロピルアセタート、イソプロピルアセタート、ｎ－ブチルアセタート、イソブチルアセタート、ｔｅｒｔ－ブチルアセタート、ｎ－ペンチルアセタート、イソペンチルアセタート、シクロペンチルアセタート、ｎ－へキシルアセタート、イソへキシルアセタート、シクロヘキシルアセタート、ｎ－ヘプチルアセタート、イソヘプチルアセタート、ｎ－オクチルアセタート、イソオクチルアセタート、ベンジルアセタート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、トリエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセタート、プロピレングリコールジアセタート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセタート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルアセタート、メチルプロピオナート、エチルプロピオナート、ｎ－プロピルプロピオナート、イソプロピルプロピオナート、ｎ－ブチルプロピオナート、イソブチルプロピオナート、ｔｅｒｔ－ブチルプロピオナート、メチルブチラート、エチルブチラート、ｎ－プロピルブチラート、イソプロピルブチラート、ｎ－ブチルブチラート、イソブチルブチラート、ｔｅｒｔ－ブチルブチラート、メチルイソブチラート、エチルイソブチラート、ｎ－プロピルイソブチラート、イソプロピルイソブチラート、ｎ－ブチルイソブチラート、イソブチルイソブチラート、ｔｅｒｔ－ブチルイソブチラート、メチルラクタート、エチルラクタート、ｎ－プロピルラクタート、イソプロピルラクタート、ｎ－ブチルラクタート、イソブチルラクタート、ｔｅｒｔ－ブチルラクタート、メチルアセトアセタート、エチルアセトアセタート、ｎ－プロピルアセトアセタート、イソプロピルアセトアセタート、ｎ－ブチルアセトアセタート、イソブチルアセトアセタート、ｔｅｒｔ－ブチルアセトアセタート、ジメチルマロナート、ジエチルマロナート、トリアセチン、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、γ－カプロラクトン、δ－バレロラクトン、δ－カプロラクトン及びε－カプロラクトン等が挙げられる。
前記アミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド、Ｎ－メチルピロリドン及びＮ－エチルピロリドン等が挙げられる。
前記ニトリル類としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル及びブチロニトリル等が挙げられる。
これらの溶剤は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
これらの溶剤の中でも、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗布して形成される硬化膜のレベリング性の向上の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、２－ヘプタノン、エチルラクタート、ｎ－ブチルラクタート、シクロペンタノン及びシクロヘキサノンが好ましい。
［界面活性剤、その他添加剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、塗布性を向上させる目的で、任意で界面活性剤を含有することもできる。界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、及びソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート、及びポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ－１７１、同Ｆ－１７３、同Ｒ－３０、同Ｒ－４０、同Ｒ－４０－ＬＭ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（ＡＧＣ（株）製）、ＦＴＸ－２０６Ｄ、ＦＴＸ－２１２Ｄ、ＦＴＸ－２１８、ＦＴＸ－２２０Ｄ、ＦＴＸ－２３０Ｄ、ＦＴＸ－２４０Ｄ、ＦＴＸ－２１２Ｐ、ＦＴＸ－２２０Ｐ、ＦＴＸ－２２８Ｐ、ＦＴＸ－２４０Ｇ等のフタージェントシリーズ（（株）ネオス製）等のフッ素系界面活性剤、及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）を挙げることができる。これらの界面活性剤は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、該ポジ型感光性樹脂組成物中の溶剤を除く全固形分１００質量部に対し、０．００１質量部乃至３質量部、好ましくは０．００５質量部乃至１質量部であり、より好ましくは０．０１質量部乃至０．５質量部である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて硬化助剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、密着助剤等の添加剤を含むことができる。
［ポジ型感光性樹脂組成物の調製方法］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の調製方法は特に限定されないが、例えば、（Ａ）成分乃至（Ｄ）成分、又は（Ａ´）成分乃至（Ｅ）成分、及び任意でその他の成分を溶剤に溶解し、均一な溶液とする方法が挙げられる。また、必要に応じて、該溶液を孔径０．１μｍ乃至１０μｍのフィルターを用いてろ過してもよい。
［マイクロレンズの作製方法］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いたマイクロレンズの作製例について説明する。
＜塗布工程＞
基材（例えば、半導体基板、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板、シリコンウエハー及びこれらの表面に各種金属膜又はカラーフィルター等の素子が形成された基板）上に、スピナー又はコーター等の適当な塗布方法により本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布し、好ましくはオーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いてプリベークを行って溶剤を除去することにより樹脂膜を形成する。プリベーク条件は、ベーク温度６０℃乃至１３０℃、ベーク時間２０秒間乃至３０分間の範囲から適宜選択される。形成される樹脂膜の膜厚としては、０．１μｍ乃至１０μｍ、好ましくは０．２μｍ乃至５μｍである。
＜第一露光工程＞
前記塗布工程の後、形成された樹脂膜の少なくとも一部に、所定のマスクを介して露光する。露光する光線としては、例えば、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー及びＡｒＦエキシマレーザーを使用することができる。露光量は、２０ｍＪ／ｃｍ２乃至２０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲から適宜選択される。
＜現像工程＞
前記第一露光工程の後、樹脂膜の露光部を現像液により除去し、該樹脂膜の未露光部のパターンを形成する。現像方法は特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法及びスプレー法が挙げられる。現像条件は、現像温度５℃乃至５０℃、現像時間１０秒乃至３００秒の範囲から適宜選択される。使用する現像液としては、露光部を除去することができる限り特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＨ）等のアルカリ水溶液が挙げられる。また、アルカリ水溶液に界面活性剤や有機溶媒を適当量添加したものを現像液として使用してもよい。これらの現像液は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
現像後、現像液を洗い流すためにリンス液でリンスしてもよい。現像又はリンスの後、残存した現像液又はリンス液を除去するために、スピナー又はコーター等のスピン可能な装置で回転させることにより、あるいは圧縮空気や圧縮窒素を吹きかけることにより乾燥させることができる。
＜リフロー工程＞
球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製する場合は、前記現像工程の後に形成されたパターンを、後述する第二露光工程の前に、オーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いて加熱するリフロー工程を含んでもよい。リフロー条件は、ベーク温度８０℃乃至１５０℃、ベーク時間１分間乃至９０分間の範囲から適宜選択される。ここで、リフロー温度をＴＲ［℃］、アルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度をＴｇ［℃］としたとき、好ましくは下記式（３）且つ下記式（４）、より好ましくは下記式（３）且つ下記式（５）、さらに好ましくは下記式（３）且つ下記式（６）を満たす。なお、リフロー温度ＴＲがアルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度Ｔｇ以下であっても、（Ｔｇ－１０）≦ＴＲを満たす場合、前記パターンはリフローする場合がある。
式（３）：８０≦ＴＲ≦１５０
式（４）：（Ｔｇ－１０）≦ＴＲ≦（Ｔｇ＋６０）
式（５）：Ｔｇ≦ＴＲ≦（Ｔｇ＋５０）
式（６）：（Ｔｇ＋１０）≦ＴＲ≦（Ｔｇ＋４０）
上記関係式を満たすことで、前記パターンが良好なリフロー性を示し、且つ過剰なリフローにより隣接するパターン同士が融合することを防ぎ、所望の球欠形状又は半球形状のマイクロレンズが得られる。なお、リフロー工程を省略しても球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することはできるが、リフロー工程を含むことによって、より低温で球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することが可能となる。
＜第二露光工程＞
前記現像工程の後、又は前記リフロー工程の後、前記パターンをさらに露光する。露光する光線としては、例えば、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー及びＡｒＦエキシマレーザーを使用することができる。露光量は、１００ｍＪ／ｃｍ２乃至５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲から適宜選択される。
＜ポストベーク工程＞
前記第二露光工程の後、前記パターンをオーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いて加熱する。ポストベーク条件は、ベーク温度８０℃乃至１５０℃、ベーク時間１分間乃至９０分間の範囲から適宜選択される。
前記パターンをリフローさせずに角柱、円柱、角錐台又は円錐台等のマイクロレンズを作製してもよい。その場合は、ポストベーク温度をＴＰ［℃］、アルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度をＴｇ［℃］としたとき、好ましくは下記式（７）且つ下記式（８）、より好ましくは下記式（７）且つ下記式（９）、さらに好ましくは下記式（７）且つ下記式（１０）を満たす。
式（７）：８０≦ＴＰ≦１５０
式（８）：ＴＰ≦Ｔｇ
式（９）：ＴＰ≦（Ｔｇ－１０）
式（１０）：ＴＰ≦（Ｔｇ－２０）
上記関係式を満たすことで、前記パターンがリフローすることを防ぎ、所望の角柱、円柱、角錐台又は円錐台状のマイクロレンズが得られる。
球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製する際、リフロー工程を含まない場合、ポストベーク温度をＴＰ［℃］、アルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度をＴｇ［℃］としたとき、好ましくは前記式（７）且つ下記式（１１）、より好ましくは前記式（７）且つ下記式（１２）、さらに好ましくは前記式（７）且つ下記式（１３）を満たす。
式（１１）：Ｔｇ≦ＴＰ≦（Ｔｇ＋７０）
式（１２）：（Ｔｇ＋１０）≦ＴＰ≦（Ｔｇ＋６０）
式（１３）：（Ｔｇ＋２０）≦ＴＰ≦（Ｔｇ＋５０）
上記関係式を満たすことで、リフロー工程を実施せずとも前記パターンが良好なリフロー性を示し、且つ過剰なリフローにより隣接するパターン同士が融合することを防ぎ、所望の球欠形状又は半球形状のマイクロレンズが得られる。
球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製する際、リフロー工程を含む場合、ポストベーク温度をＴＰ［℃］、リフロー温度をＴＲ［℃］としたとき、好ましくは前記式（３）及び前記式（７）且つ下記式（１４）、より好ましくは前記式（３）及び前記式（７）且つ下記式（１５）、さらに好ましくは前記式（３）及び前記式（７）且つ下記式（１６）を満たす。
式（１４）：ＴＰ≦（ＴＲ＋４０）
式（１５）：ＴＰ≦（ＴＲ＋３０）
式（１６）：ＴＰ≦（ＴＲ＋２０）
上記関係式を満たすことで、球欠形状又は半球形状のマイクロレンズの形状を制御しやすくなる。
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
アルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷの測定に用いた装置及び条件は以下の通りである。
装置：日本分光（株）製ＧＰＣシステム
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＫＦ－８０４Ｌ及びＫＦ－８０３Ｌ
カラムオーブン：４０℃
流量：１ｍＬ／分
溶離液：テトラヒドロフラン
試料濃度：１０ｍｇ／ｍＬ
試料注入量：２０μＬ
標準物質：単分散ポリスチレン
検出器：示差屈折計
実施例及び比較例で用いた化合物は以下の通りである。
＜（Ｂ）成分＞
Ｂ－１：４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール１モルと１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホン酸クロリド１．５モルとの縮合物
＜（Ｃ）成分＞
Ｃ－１：アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－６０６（（株）ＡＤＥＫＡ製）
Ｃ－２：ＣＰＩ－１１０Ｐ（サンアプロ（株）製）
＜（Ｄ）成分＞
Ｄ－１：トリペンチルアミン（東京化成工業（株）製）
Ｄ－２：Ｎ－エチルジイソプロピルアミン（東京化成工業（株）製）
Ｄ－３：水酸化カリウム（純正化学（株）製）
Ｄ－４：水酸化テトラメチルアンモニウム（（東京化成工業（株）製）
Ｄ－５：ＷＰＢＧ－０１８（富士フイルム和光純薬（株）製）
＜（Ｅ）成分＞
Ｅ－１：エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（（株）ダイセル製）
＜（Ｆ）成分＞
Ｆ－１：２－イソプロピルチオキサントン（東京化成工業（株）製）
＜界面活性剤＞
Ｒ－４０：メガファック（登録商標）Ｒ－４０（ＤＩＣ（株）製）
［（Ａ）成分の合成］
＜合成例１＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル９０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して７０℃に保持した。次に、モノマーとしてメタクリル酸２０ｇ、メチルメタクリレート４０ｇ及びスチレン４０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル５．０ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０５ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。該溶液を、３Ｌのヘキサン中に撹拌しながら注ぎ入れ、沈殿物を回収し、減圧乾燥機を用いて乾燥させることで共重合体の粉末を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１４，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ´－１とした。
＜合成例２＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル９０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して７０℃に保持した。次に、モノマーとしてアクリル酸１０ｇ、４－ヒドロキシブチルアクリレート３０ｇ及びスチレン６０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．５ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０５ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１８，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ´－２とした。
＜合成例３＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル９０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８０℃に保持した。次に、モノマーとして４－ヒドロキシフェニルメタクリレート５２ｇ、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート２０ｇ及びブチルメタクリレート２８ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．９ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０５ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１７，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－３とした。
＜合成例４＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル８８ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して７５℃に保持した。次に、モノマーとして４－ヒドロキシフェニルメタクリレート５０ｇ及び３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート５０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル２．６ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０３ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは３２，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－４とした。
＜合成例５＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル８９ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８０℃に保持した。次に、モノマーとして４－ヒドロキシフェニルメタクリレート４２ｇ及び３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート５８ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．４ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０４ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１４，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－５とした。
＜合成例６＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル９０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８０℃に保持した。次に、モノマーとして４－ヒドロキシフェニルメタクリレート４０ｇ及び３－（メタクリロイルオキシメチル）－３－エチルオキセタン６０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．５ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０５ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１１，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－６とした。
＜合成例７＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８０℃に保持した。次に、モノマーとしてＮ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド４０ｇ及び３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート６０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．４ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１９４ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１１，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－７とした。
＜合成例８＞
フラスコに撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８７℃に保持した。次に、モノマーとしてＮ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド３０ｇ、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート６０ｇ及び２－ヒドロキシエチルメタクリレート１０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．５ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１９４ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－８とした。
＜合成例９＞
Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドを２５ｇ、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを１５ｇ、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを４．６ｇ使用する以外は合成例８と同様の方法で、共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－９とした。
＜合成例１０＞
Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドを２０ｇ、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを２０ｇ、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを４．７ｇ使用する以外は合成例８と同様の方法で、共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。該共重合体をアルカリ可溶性樹脂Ａ－１０とした。
［ポジ型感光性樹脂組成物の調製］
＜実施例１＞
（Ａ´）成分として合成例１で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ´－１を２１．０ｇ、（Ｂ）成分としてＢ－１を６．３ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．３ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３９．９ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを３９．９ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
＜実施例２＞
（Ａ´）成分として合成例２で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ´－２を６０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を１０．５ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３．８ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを３５．１ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度３２質量％）を得た。
＜実施例３＞
（Ａ）成分として合成例３で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－３を６０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを１４．０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２２．７ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度３０質量％）を得た。
＜実施例４＞
（Ａ）成分として合成例４で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－４を６０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を６．３ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２２．１ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２６．２ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２８質量％）を得た。
＜実施例５＞
（Ａ）成分として合成例５で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－５を６０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを１４．０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２２．７ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度３０質量％）を得た。
＜実施例６＞
（Ａ）成分として合成例６で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－６を６０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．４ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．２ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを１４．４ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２２．９ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度３０質量％）を得た。
＜実施例７＞
（Ａ）成分として合成例７で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－７を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを９．４ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２５．０ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２８質量％）を得た。
＜実施例８＞
（Ａ）成分として合成例８で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－８を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．６ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．８ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
＜実施例９＞
（Ａ）成分として合成例８で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－８を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－２を０．３ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．８ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．９ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
＜実施例１０＞
（Ａ）成分として合成例９で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－９を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．６ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．８ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
＜実施例１１＞
（Ａ）成分として合成例１０で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－１０を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３０．２ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを７９．２ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
＜実施例１２＞
（Ｄ）成分としてＤ－１の代わりにＤ－２を０．４ｇ使用する以外は実施例１１と同様の手順でポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
＜実施例１３＞
（Ｄ）成分としてＤ－１の代わりにＤ－３を０．０２ｇ使用する以外は実施例１１と同様の手順でポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
＜実施例１４＞
（Ｄ）成分としてＤ－１の代わりにＤ－４を０．０４ｇ（実際は１０質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を０．４ｇ）使用する以外は実施例１１と同様の手順でポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
＜実施例１５＞
（Ｄ）成分としてＤ－１の代わりにＤ－５を０．２ｇ使用する以外は実施例１１と同様の手順でポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
＜実施例１６＞
（Ａ）成分として合成例１０で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－１０を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２５．１ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを７４．１ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１５質量％）を得た。
＜実施例１７＞
（Ａ）成分として合成例１０で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ－１０を８４．０ｇ（固形分として２５．２ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を５．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を０．１ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を７．６ｇ、（Ｆ）成分としてＦ－１を０．０５ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３６．２ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを９５．０ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
＜比較例１＞
（Ｄ）成分を配合しない以外は実施例１と同様の手順でポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
＜比較例２＞
（Ｄ）成分を配合しない以外は実施例１１と同様の手順でポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
＜比較例３＞
（Ｃ）成分を配合しない以外は実施例１１と同様の手順でポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
実施例１乃至実施例１７並びに比較例１乃至比較例３のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる各成分、及び（Ａ）成分又は（Ａ´）成分１００質量部に対する（Ｂ）成分乃至（Ｆ）成分の含有量を、表１に表す。
［レンズ形状評価］
実施例１乃至実施例１７並びに比較例１乃至比較例３で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜に対して、ｉ線ステッパー（ＮＳＲ－２２０５ｉ１２Ｄ、ＮＡ＝０．６３、（株）ニコン製）を用い、所定のマスクを介して表２に記載の露光量で第一露光を行った。ここで、該マスクとしては、膜厚４μｍの樹脂膜（実施例１乃至実施例１０並びに比較例１）については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターン／４μｍスペースを形成するマスクを、膜厚１μｍの樹脂膜（実施例１１乃至実施例１７並びに比較例２及び比較例３）については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターン／１μｍスペースを形成するマスクを用いた。その後、露光してから１０分以内に２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いて現像を行い、膜厚４μｍの樹脂膜については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターンを、膜厚１μｍの樹脂膜については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターンを形成した。続いて、前記正方形ドットパターンに対し、ホットプレート上で表２に記載のリフロー温度にて５分間ベークを行った。但し、表２においてリフロー温度を“無し”と表示した実施例及び比較例については、前記正方形ドットパターンに対しリフロー温度でベークをしなかった。さらに、前記ｉ線ステッパーを用い、前記正方形ドットパターン全面に対して５００ｍＪ／ｃｍ２にて第二の露光をした後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、マイクロレンズを作製した。作製したマイクロレンズの形状が、四角柱又は四角錐台であるものを“□”、球欠形状又は半球形状であるものを“〇”と評価した。評価結果を表２に示す。
［薬品耐性評価］
実施例１乃至実施例１７並びに比較例１乃至比較例３で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜の全面に対して、前記ｉ線ステッパーを用いて５００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、硬化膜を形成した。硬化膜が形成されたシリコンウエハーを、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、シクロヘキサノン及び２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液それぞれに、２３℃にて５分間浸漬した。浸漬前及び浸漬後の前記硬化膜の膜厚測定を行い、浸漬前後での膜厚変化を算出した。前記浸漬に使用した溶剤のうち、一つでも浸漬前の膜厚に対して１０％以上の膜厚増減がある場合は薬品耐性“×”、全ての溶剤について膜厚増減が１０％未満である場合は薬品耐性“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
［透明性評価］
実施例１乃至実施例１７並びに比較例１乃至比較例３で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれ石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜の全面に対して、前記ｉ線ステッパーを用いて５００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、硬化膜を形成した。硬化膜が形成された石英基板を、紫外可視分光光度計ＵＶ－２５５０（（株）島津製作所製）を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。波長４００ｎｍにおける透過率が９０％未満である場合は透明性“×”、９０％以上である場合は透明性“○”とした。評価結果を表２に示す。
［ＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）評価］
実施例１乃至実施例１７並びに比較例１乃至比較例３で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜に対して、前記ｉ線ステッパーを用い、所定のマスクを介して表２に記載の露光量で第一露光を行った。ここで、該マスクとしては、膜厚４μｍの樹脂膜（実施例１乃至実施例１０並びに比較例１）については４μｍ×４μｍ正方形ドットパターン／４μｍスペースを形成するマスクを、膜厚１μｍの樹脂膜（実施例１１乃至実施例１７並びに比較例２及び比較例３）については１μｍ×１μｍ正方形ドットパターン／１μｍスペースを形成するマスクを用いた。その後、前記第一露光から１０分以内に２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いて現像を行い、膜厚４μｍの樹脂膜については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターンを、膜厚１μｍの樹脂膜については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターンを形成した（条件１）。
一方、実施例１乃至実施例１７並びに比較例１乃至比較例３で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記第一露光から次の現像までの間に、２３℃にて２時間のインターバルを空ける以外は上記条件１と同じ手順により、膜厚４μｍの樹脂膜については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターンを、膜厚１μｍの樹脂膜については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターンを、シリコンウエハー上に形成した（条件２）。条件１ではポジ型パターニングが可能であるにも関わらず、条件２では露光部が現像液に十分に溶解せずポジ型パターニングが不可能である場合はＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）“×”、条件１及び条件２のどちらでもポジ型パターニングが可能である場合はＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）“〇”とした。評価結果を表２に示す。
表２の結果から、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いることで、１５０℃以下の低温プロセスであっても所望の形状を有するマイクロレンズを形成することができ、それらマイクロレンズは高薬品耐性、高透明性、及び高ＰＥＤ安定性（ＰＥＤ耐性）を有することが示された。

Claims (19)

  1. 下記（Ａ）成分、下記（Ｂ）成分、下記（Ｃ）成分及び下記（Ｄ）成分、又は下記（Ａ´）成分、下記（Ｂ）成分、下記（Ｃ）成分、下記（Ｄ）成分及び下記（Ｅ）成分を含み、さらに溶剤を含むポジ型感光性樹脂組成物。
    （Ａ）成分：酸架橋性基を有するアルカリ可溶性樹脂
    （Ａ´）成分：酸架橋性基を有さないアルカリ可溶性樹脂
    （Ｂ）成分：キノンジアジド化合物
    （Ｃ）成分：光酸発生剤
    （Ｄ）成分：露光部におけるカチオン重合の開始反応又は成長反応を阻害することができるＰＥＤ安定性向上剤
    （Ｅ）成分：酸架橋性基を分子中に少なくとも２つ有する化合物
  2. 前記（Ａ）成分及び前記（Ａ´）成分はカルボキシ基を有するアルカリ可溶性樹脂である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  3. 前記（Ａ）成分及び前記（Ａ´）成分はフェノール性ヒドロキシ基を有するアルカリ可溶性樹脂である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  4. 前記（Ａ）成分及び前記（Ａ´）成分は下記式（１）で表される構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂である、請求項３に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
    （式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは－Ｏ－基又は－ＮＨ－基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ａは１又は２を表し、ｂは０乃至２の整数を表す。）
  5. 前記式（１）で表される構造単位においてＸは－ＮＨ－基を表す、請求項４に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  6. 前記酸架橋性基がエポキシ環又はオキセタン環を含む官能基である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
  7. 前記（Ａ）成分及び（Ａ´）成分のポリスチレン換算重量平均分子量が１，０００乃至１００，０００である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  8. 前記（Ｃ）成分は非イオン性光酸発生剤である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  9. 前記非イオン性光酸発生剤は下記式（２）で表される光酸発生剤である、請求項８に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
    （式中、Ｒ３は炭素原子数１乃至１０の炭化水素基又はパーフルオロアルキル基であり、Ｒ４は炭素原子数１乃至８の直鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基、又は炭素原子数３乃至８の分岐鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基である。）
  10. 前記（Ｄ）成分は光塩基発生剤又は塩基性化合物である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  11. 前記（Ｄ）成分はアミン類である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  12. 前記（Ｄ）成分の含有量は前記（Ａ）成分１００質量部に対し０．２質量部乃至３質量部である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  13. 下記（Ｆ）成分をさらに含有する、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
    （Ｆ）成分：増感剤
  14. マイクロレンズ作製用である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
  15. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜。
  16. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズ。
  17. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗布して樹脂膜を形成する塗布工程、前記塗布工程の後に樹脂膜の少なくとも一部を露光する第一露光工程、前記第一露光工程の後に前記樹脂膜の露光部を現像液により除去して該樹脂膜の未露光部のパターンを形成する現像工程、前記現像工程の後に前記パターンをさらに露光する第二露光工程、及び前記第二露光工程の後に前記パターンを１５０℃以下の温度で加熱するポストベーク工程を含む、マイクロレンズの作製方法。
  18. 前記現像工程の後及び前記第二露光工程の前に、前記パターンを１５０℃以下の温度で加熱するリフロー工程を含む、請求項１７に記載のマイクロレンズの作製方法。
  19. 前記基材は、カラーフィルターが形成された基板である、請求項１７に記載のマイクロレンズの作製方法。
JP2023538323A 2021-07-28 2022-06-14 ポジ型感光性樹脂組成物 Active JP7846464B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021123289 2021-07-28
JP2021123289 2021-07-28
PCT/JP2022/023848 WO2023007972A1 (ja) 2021-07-28 2022-06-14 ポジ型感光性樹脂組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2023007972A1 JPWO2023007972A1 (ja) 2023-02-02
JPWO2023007972A5 JPWO2023007972A5 (ja) 2025-04-16
JP7846464B2 true JP7846464B2 (ja) 2026-04-15

Family

ID=85086662

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023538323A Active JP7846464B2 (ja) 2021-07-28 2022-06-14 ポジ型感光性樹脂組成物

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7846464B2 (ja)
KR (1) KR20240036559A (ja)
CN (1) CN117677901A (ja)
TW (1) TW202309655A (ja)
WO (1) WO2023007972A1 (ja)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006045523A (ja) 2004-06-28 2006-02-16 Canon Inc 光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物、これを用いた微細構造体、および該微細構造体の製造方法
JP2007065488A (ja) 2005-09-01 2007-03-15 Jsr Corp 絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物および絶縁膜の製造方法
JP2007128015A (ja) 2005-10-06 2007-05-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2007178459A (ja) 2005-12-26 2007-07-12 Fujifilm Corp パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2011138116A (ja) 2009-12-04 2011-07-14 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜並びにそれらの形成方法
JP2017223993A (ja) 2014-05-21 2017-12-21 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物及び回路パターンの形成方法
JP2018097084A (ja) 2016-12-09 2018-06-21 東京応化工業株式会社 基材上に平坦化膜又はマイクロレンズを形成するために用いられるエネルギー感受性組成物、硬化体の製造方法、硬化体、マイクロレンズの製造方法、及びｃｍｏｓイメージセンサ
JP2020042190A (ja) 2018-09-11 2020-03-19 太陽インキ製造株式会社 めっきレジスト用感光性樹脂組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2776810B2 (ja) 1987-07-03 1998-07-16 ソニー株式会社 固体撮像装置の製造方法
US7135401B2 (en) 2004-05-06 2006-11-14 Micron Technology, Inc. Methods of forming electrical connections for semiconductor constructions
JP4644857B2 (ja) 2005-07-22 2011-03-09 昭和電工株式会社 感光性樹脂組成物
JP5003376B2 (ja) 2007-09-20 2012-08-15 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP6303549B2 (ja) * 2013-02-19 2018-04-04 Jsr株式会社 ネガ型感放射線性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子
JP7450333B2 (ja) 2018-12-21 2024-03-15 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、及びマイクロレンズの形成方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006045523A (ja) 2004-06-28 2006-02-16 Canon Inc 光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物、これを用いた微細構造体、および該微細構造体の製造方法
JP2007065488A (ja) 2005-09-01 2007-03-15 Jsr Corp 絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物および絶縁膜の製造方法
JP2007128015A (ja) 2005-10-06 2007-05-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2007178459A (ja) 2005-12-26 2007-07-12 Fujifilm Corp パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2011138116A (ja) 2009-12-04 2011-07-14 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜並びにそれらの形成方法
JP2017223993A (ja) 2014-05-21 2017-12-21 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物及び回路パターンの形成方法
JP2018097084A (ja) 2016-12-09 2018-06-21 東京応化工業株式会社 基材上に平坦化膜又はマイクロレンズを形成するために用いられるエネルギー感受性組成物、硬化体の製造方法、硬化体、マイクロレンズの製造方法、及びｃｍｏｓイメージセンサ
JP2020042190A (ja) 2018-09-11 2020-03-19 太陽インキ製造株式会社 めっきレジスト用感光性樹脂組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2023007972A1 (ja) 2023-02-02
CN117677901A (zh) 2024-03-08
KR20240036559A (ko) 2024-03-20
WO2023007972A1 (ja) 2023-02-02
TW202309655A (zh) 2023-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4644857B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP7614582B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機ｅｌ素子隔壁
JP7173248B2 (ja) ポリマーおよびその製造方法
TWI820137B (zh) 附圖案膜之基板之製造方法
TWI803587B (zh) 感放射線性組合物、硬化膜及顯示元件
KR102396504B1 (ko) 기재 상에 평탄화막 또는 마이크로 렌즈를 형성하기 위해 사용되는 에너지 감수성 조성물, 경화체의 제조 방법, 경화체, 마이크로 렌즈의 제조 방법, 및 cmos 이미지 센서
JP2025164793A (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、これを用いた硬化物、有機ｅｌ素子隔壁、有機ｅｌ素子絶縁膜、及び有機ｅｌ素子、並びに、硬化物の製造方法
WO2012105288A1 (ja) マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物
KR20130107210A (ko) 감방사선성 조성물
JP7846464B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
JP6258866B2 (ja) 感光性樹脂組成物及び樹脂膜
JP7701678B2 (ja) 特定の共重合体を含むポジ型感光性樹脂組成物
JP4713262B2 (ja) 感光性の樹脂組成物
JPH0798502A (ja) ポジ型熱硬化感光材料
KR102954941B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 및 유기 el 소자 격벽
JP7818943B2 (ja) 感光性樹脂組成物、及び有機ｅｌ素子隔壁
JP7732797B2 (ja) 感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその製造方法、並びに表示素子
JP7828754B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機ｅｌ素子隔壁
JP7639536B2 (ja) 感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその製造方法、並びに表示素子
JP2014189726A (ja) レンズ形成用感光性樹脂組成物
KR101180541B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물
WO2023140248A1 (ja) レンズの製造方法、レンズ製造用感放射線性組成物、レンズ、撮像素子、撮像装置、表示素子及び表示装置
JPH07120925A (ja) マイクロレンズ形成用感光材料
KR20250049187A (ko) 포지티브형 감광성 수지 조성물, 유기 el 소자 격벽, 유기 el 소자 절연막, 및 유기 el 소자
CN117480451A (zh) 正型感光性树脂组合物及有机el元件隔壁

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250408

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20250408

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20251224

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20260209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20260304

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20260317

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7846464

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150