JP7647781B2 - 静電チャック及びその製造方法 - Google Patents

静電チャック及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7647781B2
JP7647781B2 JP2023025981A JP2023025981A JP7647781B2 JP 7647781 B2 JP7647781 B2 JP 7647781B2 JP 2023025981 A JP2023025981 A JP 2023025981A JP 2023025981 A JP2023025981 A JP 2023025981A JP 7647781 B2 JP7647781 B2 JP 7647781B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base plate
gas
dielectric substrate
opening
openings
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2023025981A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2024119227A (ja
Inventor
俊哉 宮崎
純 白石
大 籾山
郁夫 板倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
Priority to JP2023025981A priority Critical patent/JP7647781B2/ja
Priority to TW113102416A priority patent/TW202435361A/zh
Priority to KR1020240021538A priority patent/KR102863238B1/ko
Priority to US18/443,418 priority patent/US20240279810A1/en
Publication of JP2024119227A publication Critical patent/JP2024119227A/ja
Priority to JP2025032724A priority patent/JP2025074229A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7647781B2 publication Critical patent/JP7647781B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
JP2023025981A 2023-02-22 2023-02-22 静電チャック及びその製造方法 Active JP7647781B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023025981A JP7647781B2 (ja) 2023-02-22 2023-02-22 静電チャック及びその製造方法
TW113102416A TW202435361A (zh) 2023-02-22 2024-01-22 靜電吸盤及其製造方法
KR1020240021538A KR102863238B1 (ko) 2023-02-22 2024-02-15 정전 척 및 그 제조 방법
US18/443,418 US20240279810A1 (en) 2023-02-22 2024-02-16 Electrostatic chuck and method of manufacturing the same
JP2025032724A JP2025074229A (ja) 2023-02-22 2025-03-03 静電チャック及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023025981A JP7647781B2 (ja) 2023-02-22 2023-02-22 静電チャック及びその製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2025032724A Division JP2025074229A (ja) 2023-02-22 2025-03-03 静電チャック及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2024119227A JP2024119227A (ja) 2024-09-03
JP7647781B2 true JP7647781B2 (ja) 2025-03-18

Family

ID=92591349

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023025981A Active JP7647781B2 (ja) 2023-02-22 2023-02-22 静電チャック及びその製造方法
JP2025032724A Pending JP2025074229A (ja) 2023-02-22 2025-03-03 静電チャック及びその製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2025032724A Pending JP2025074229A (ja) 2023-02-22 2025-03-03 静電チャック及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP7647781B2 (https=)

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002093894A (ja) 2000-06-19 2002-03-29 Applied Materials Inc セラミック基体支持体
JP2004006505A (ja) 2002-05-31 2004-01-08 Ngk Spark Plug Co Ltd 静電チャック
JP2005268654A (ja) 2004-03-19 2005-09-29 Ngk Spark Plug Co Ltd 静電チャック
US20090002913A1 (en) 2007-06-29 2009-01-01 Mahmood Naim Polyceramic e-chuck
JP2010016363A (ja) 2008-07-02 2010-01-21 Ngk Insulators Ltd ウエハ載置装置及びそれに用いる部品
JP2011155235A (ja) 2009-03-06 2011-08-11 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極
JP2013243267A (ja) 2012-05-21 2013-12-05 Shinko Electric Ind Co Ltd 静電チャック、静電チャックの製造方法
JP2016533039A (ja) 2013-09-16 2016-10-20 ぺムヴィックス コーポレーションFemvix Corp. 静電チャック及び静電チャックの製造方法
JP2018107313A (ja) 2016-12-27 2018-07-05 東京エレクトロン株式会社 ガス供給装置、プラズマ処理装置及びガス供給装置の製造方法
JP2020120081A (ja) 2019-01-28 2020-08-06 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP2021128956A (ja) 2020-02-10 2021-09-02 東京エレクトロン株式会社 載置台、プラズマ処理装置及びクリーニング処理方法
WO2022202147A1 (ja) 2021-03-25 2022-09-29 京セラ株式会社 静電チャック
JP2022176701A (ja) 2021-05-17 2022-11-30 日本特殊陶業株式会社 保持装置
JP2022552237A (ja) 2019-10-12 2022-12-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 背面パージが設けられ斜面パージが組み込まれたウエハヒータ
JP2023018840A (ja) 2021-07-28 2023-02-09 新光電気工業株式会社 静電チャック、基板固定装置及び静電チャックの製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06112302A (ja) * 1992-09-25 1994-04-22 Kobe Steel Ltd プラズマ処理装置及びその取扱方法
JP3225850B2 (ja) * 1995-09-20 2001-11-05 株式会社日立製作所 静電吸着電極およびその製作方法
US6503368B1 (en) * 2000-06-29 2003-01-07 Applied Materials Inc. Substrate support having bonded sections and method
JP7409535B1 (ja) * 2023-02-22 2024-01-09 Toto株式会社 静電チャック及びその製造方法

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002093894A (ja) 2000-06-19 2002-03-29 Applied Materials Inc セラミック基体支持体
JP2004006505A (ja) 2002-05-31 2004-01-08 Ngk Spark Plug Co Ltd 静電チャック
JP2005268654A (ja) 2004-03-19 2005-09-29 Ngk Spark Plug Co Ltd 静電チャック
US20090002913A1 (en) 2007-06-29 2009-01-01 Mahmood Naim Polyceramic e-chuck
JP2010016363A (ja) 2008-07-02 2010-01-21 Ngk Insulators Ltd ウエハ載置装置及びそれに用いる部品
JP2011155235A (ja) 2009-03-06 2011-08-11 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極
JP2013243267A (ja) 2012-05-21 2013-12-05 Shinko Electric Ind Co Ltd 静電チャック、静電チャックの製造方法
JP2016533039A (ja) 2013-09-16 2016-10-20 ぺムヴィックス コーポレーションFemvix Corp. 静電チャック及び静電チャックの製造方法
JP2018107313A (ja) 2016-12-27 2018-07-05 東京エレクトロン株式会社 ガス供給装置、プラズマ処理装置及びガス供給装置の製造方法
JP2020120081A (ja) 2019-01-28 2020-08-06 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP2022552237A (ja) 2019-10-12 2022-12-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 背面パージが設けられ斜面パージが組み込まれたウエハヒータ
JP2021128956A (ja) 2020-02-10 2021-09-02 東京エレクトロン株式会社 載置台、プラズマ処理装置及びクリーニング処理方法
WO2022202147A1 (ja) 2021-03-25 2022-09-29 京セラ株式会社 静電チャック
JP2022176701A (ja) 2021-05-17 2022-11-30 日本特殊陶業株式会社 保持装置
JP2023018840A (ja) 2021-07-28 2023-02-09 新光電気工業株式会社 静電チャック、基板固定装置及び静電チャックの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2025074229A (ja) 2025-05-13
JP2024119227A (ja) 2024-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101929278B1 (ko) 정전 척
JP2024119738A (ja) 静電チャック及びその製造方法
JP2024119739A (ja) 静電チャック及びその製造方法
JP7480876B1 (ja) 静電チャック及びその製造方法
JP2025072495A (ja) 静電チャック及びその製造方法
JP7647781B2 (ja) 静電チャック及びその製造方法
JP7647782B2 (ja) 静電チャック及びその製造方法
JP7647783B2 (ja) 静電チャック及びその製造方法
KR102863238B1 (ko) 정전 척 및 그 제조 방법
KR102863220B1 (ko) 정전 척 및 그 제조 방법
JP7806877B2 (ja) 静電チャック
JP7658477B1 (ja) 静電チャック
JP7658475B1 (ja) 静電チャック
JP2025050254A (ja) 静電チャック
JP2025050253A (ja) 静電チャック
JP2024125580A (ja) 静電チャック
WO2025182771A1 (ja) 静電チャック
JP2025139957A (ja) 静電チャック
JP2024175422A (ja) 静電チャック
CN121772678A (zh) 静电吸盘

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240607

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20240607

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240910

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20241101

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250217

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7647781

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150