JP7492415B2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7492415B2 JP7492415B2 JP2020157510A JP2020157510A JP7492415B2 JP 7492415 B2 JP7492415 B2 JP 7492415B2 JP 2020157510 A JP2020157510 A JP 2020157510A JP 2020157510 A JP2020157510 A JP 2020157510A JP 7492415 B2 JP7492415 B2 JP 7492415B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- guard ring
- ring layer
- termination
- conductive member
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 162
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 26
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 15
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000005524 hole trap Effects 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/16—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L29/1608—Silicon carbide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0603—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions
- H01L29/0607—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration
- H01L29/0611—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices
- H01L29/0615—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices by the doping profile or the shape or the arrangement of the PN junction, or with supplementary regions, e.g. junction termination extension [JTE]
- H01L29/0619—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices by the doping profile or the shape or the arrangement of the PN junction, or with supplementary regions, e.g. junction termination extension [JTE] with a supplementary region doped oppositely to or in rectifying contact with the semiconductor containing or contacting region, e.g. guard rings with PN or Schottky junction
- H01L29/0623—Buried supplementary region, e.g. buried guard ring
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0603—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions
- H01L29/0607—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration
- H01L29/0611—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices
- H01L29/0615—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices by the doping profile or the shape or the arrangement of the PN junction, or with supplementary regions, e.g. junction termination extension [JTE]
- H01L29/0619—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices by the doping profile or the shape or the arrangement of the PN junction, or with supplementary regions, e.g. junction termination extension [JTE] with a supplementary region doped oppositely to or in rectifying contact with the semiconductor containing or contacting region, e.g. guard rings with PN or Schottky junction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0603—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions
- H01L29/0642—Isolation within the component, i.e. internal isolation
- H01L29/0649—Dielectric regions, e.g. SiO2 regions, air gaps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0684—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape, relative sizes or dispositions of the semiconductor regions or junctions between the regions
- H01L29/0692—Surface layout
- H01L29/0696—Surface layout of cellular field-effect devices, e.g. multicellular DMOS transistors or IGBTs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/402—Field plates
- H01L29/404—Multiple field plate structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78606—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film with supplementary region or layer in the thin film or in the insulated bulk substrate supporting it for controlling or increasing the safety of the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78642—Vertical transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/86—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable only by variation of the electric current supplied, or only the electric potential applied, to one or more of the electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched
- H01L29/861—Diodes
- H01L29/8611—Planar PN junction diodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0684—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape, relative sizes or dispositions of the semiconductor regions or junctions between the regions
- H01L29/0692—Surface layout
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/20—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
- H01L29/2003—Nitride compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/72—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
- H01L29/739—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals controlled by field-effect, e.g. bipolar static induction transistors [BSIT]
- H01L29/7393—Insulated gate bipolar mode transistors, i.e. IGBT; IGT; COMFET
- H01L29/7395—Vertical transistors, e.g. vertical IGBT
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
なお、図面は模式的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。さらに、本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、本実施形態に係る半導体装置を示す平面図である。図2は、図1の領域Aを示す拡大平面図である。図3は、図2に示すB-B’線による断面図である。図4は、図3の領域Cを示す拡大断面図である。図1~図3は、配線層が省略されている。図2は、後述する保護膜41が省略されている。
第1電極21は、半導体装置101の底面全域に設けられ、略平坦な板形状である。第1電極21は、例えばドレイン電極である。
半導体部分10は、第1電極21上に設けられており、略直方体形状である。図3に示すように、半導体部分10は、第1半導体層11と、第2半導体層12と、ガードリング層13を含む。半導体部分10は、例えば、炭化シリコン又は窒化ガリウム(GaN)を含む。
図3、図4に示すように、導電部材50は、セル側部分Wcと、終端側部分Weからなる。セル側部分Wcは、ガードリング層13の直上域に位置する。セル側部分Wcは、絶縁膜31を介してガードリング層13と離隔している。セル側部分Wcは、上方から見て、ガードリング層13の終端側部分Deを覆っている。終端側部分Weは、導電部材50の終端側端縁50eを含む終端側ESの部分であって、ガードリング層13の直上域に位置しない。終端側部分Weは、上方から見てガードリング層13を覆っていない。
本実施形態に係る半導体装置101においては、半導体部分10が炭化シリコンを含むため、セル領域CRにおいて高い耐圧を実現することができる。このため、終端領域ERにおいても、高い耐圧が要求される。半導体装置101は、封止樹脂内に配置される。封止樹脂は、例えばエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂またはシリコーン樹脂などのゲルである。
以下、説明の便宜上、導電部材50のセル側部分Wcとガードリング層13の終端側部分Deの間の領域を、境界領域Ibとする。境界領域Ibの上下方向の長さは、間隙Hの長さと同じである。境界領域Ibに接し境界領域Ibよりも終端側ESの領域と、導電部材50に接し導電部材50よりも終端側ESの領域と、ガードリング層13に接しガードリング層13よりも終端側ESの領域を、第1領域Ieとする。境界領域Ibに接し境界領域Ibよりもセル側CSの領域と、導電部材50に接し導電部材50よりもセル側CSの領域であって、ガードリング層13のセル側部分Dcの直上域に位置する領域を、第2領域Icとする。
本実施形態に係る半導体装置101によれば、例えば電気的に浮遊している導電部材50を、半導体部分10の上部に形成されたガードリング層13の上に設けることにより、外部電荷の影響を抑制する。導電部材50は、例えば電気的に浮遊し、絶縁膜31を介してガードリング層13と離隔し、導電部材50の終端側端縁50eをガードリング層13の終端側端縁13eよりも終端側ESに配置し、セル側端縁50cをガードリング層13のセル側端縁13cよりも終端側ESであって終端側端縁13eの直上域までの間に配置している。すなわち、本願実施形態の半導体装置101は、導電部材50の終端側端縁50eが終端側ESに張り出しているため、電圧を分担し、等電位線L1のガードリング層13への近接を抑制する。したがって、半導体装置101は、絶縁膜31へのホットキャリア注入による耐圧の低下を抑制することができる。
以上のように、半導体装置101は、高い電界が終端領域ERに発生したとしても、絶縁膜31の絶縁破壊を抑制し、かつ、終端領域ERの耐圧の低下を抑制できる。
以下、本実施形態に係る半導体装置101による耐圧と絶縁膜内の最大電界について、試験例を用いて説明する。
図5(a)は、横軸に絶縁膜中の正電荷面密度をとり、縦軸に耐圧をとって、絶縁膜中の正電荷の増加による耐圧の変化を示すグラフである。
図5(b)は、横軸に絶縁膜中の正電荷面密度をとり、縦軸に絶縁膜内の電界強度の最大値をとって、絶縁膜中の正電荷の増加による絶縁膜内の最大電界強度の変化を示すグラフである。
試料2も、ホットキャリア注入により正電荷面密度が6[a.u.]において、耐圧が低下した。
試料3は、正電荷面密度が6[a.u.]においても耐圧の低下はほとんどみられなかった。従って、本実施形態における試料3は、ホットキャリア注入による耐圧変動が抑制され、耐圧が高かった。
以上により、本実施形態に係る半導体装置は、耐圧が良好であった。
本変形例に係る半導体装置102は、第1実施形態におけるガードリング層13が例えば7個設けられており、導電部材50が例えば6個設けられている。複数のガードリング層13の第1方向E1の間隔は、セル側CSにおいて狭く、終端側ESにおいて広い。セル側CSに配列された導電部材50は、ガードリング層13に対して第1実施形態とは異なる位置関係で配置されている。以下、本変形例については、第1実施形態と異なる構成について説明する。
図6(a)は、本変形例に係る半導体装置を示す拡大平面図であり、(b)は、(a)に示すD-D’線による断面図である。図6は、配線層と保護膜41を省略している。
図6(b)に示すように、ガードリング層131、132、133、134、135、136、137は、第1方向E1に沿ってこの順に配列されている。ガードリング層131~137の間隔を、間隔t1~t6とする。セル側CSに配列されたガードリング層131~134の間隔t1~t3は、略同一である。終端側ESに配列されたガードリング層134~137の間隔t4~t6は、終端側ESに向かうに従って大きくなる。また、セル側CSにおける間隔t1~t3は、終端側ESにおける間隔t4~t6よりも狭い。
導電部材52(例えば、特許請求の範囲における第1導電部材に相当する)は、導電部材51の終端側ESに配置されている。導電部材52は、ガードリング層132(例えば、特許請求の範囲における第1ガードリング層に相当する)に対して第1実施形態と同様の位置関係で配置されている。つまり、上方から見て、導電部材52におけるセル側CSの部分は、ガードリング層132の終端側ESの部分を覆っている。また、導電部材52の終端側ESの部分は、ガードリング層132の終端側ESに位置するガードリング層133のセル側CSの部分を覆っているが、ガードリング層133の終端側ESの部分は、他の導電部材に覆われていない。
終端側ESのガードリング層135と導電部材54、ガードリング層136と導電部材55、ガードリング層137と導電部材56は、それぞれ、第1実施形態と同様の位置関係で配置されている。
ガードリング層131~137をセル側CSにおいて間隔t1~t3を小さくして配置することにより、終端領域ERにおけるセル側CSの部分の耐圧を高めている。また、セル側CSのガードリング層131~134上に導電部材51~53を間隔r1、r2を空けて略均一に設けている。これにより、ガードリング層131~134の上に断続的な導電領域を形成し、耐圧を高め、外部電荷からの影響を抑制している。
本変形例に係る半導体装置103は、第1変形例と同様に、ガードリング層131~137が例えば7個設けられ、ガードリング層131~137における間隔t1~t6は、終端側ESのガードリング層134~137の間隔t4~t6よりもセル側CSのガードリング層131~134の間隔t1~t3の方が狭い。一方、第1変形例とは異なり、セル側CSに配列された導電部材51~55は、上方から見て千鳥格子状に配置されている。
図7、図8(a)に示すように、導電部材53~55の中で最もセル側CSに設けられた導電部材53は、ガードリング層133~136の中で最もセル側に設けられたガードリング層133の上に第1実施形態の位置関係で配置されている。また、導電部材53は、ガードリング層133の終端側ESに配列されたガードリング層134のセル側端縁134cの直上域にも配置されている。導電部材53は、少なくとも第1部分53aと第2部分53bに分離している。第2部分53bは、第1部分53aの第2方向E2側に配置されている。
セル側CSに配列された他の導電部材51、52及びガードリング層131、132、133も、導電部材53、54、55及びガードリング層133~135と同様に設けられている。
終端側ESよりも間隔が狭いセル側CSのガードリング層131~135上に導電部材51~55を分離して千鳥格子状に設けている。これにより、セル側CSの導電部材51~55の全てに第1実施形態の位置関係を採用することができ、半導体装置103の信頼性を高めることができる。また、ガードリング層131~135の上に導電部材51~55によって形成された断続的な導電領域を設けることにより、耐圧を高め、外部電荷からの影響を抑制する。また、終端側ESに設けられた導電部材56、57には、ガードリング層136、137に対して第1実施形態の位置関係が採用されている。以上より、本変形例の半導体装置102は、例えば、耐圧が向上し、絶縁膜31及び半導体部分10の絶縁破壊などを抑制できる。
本実施形態に係る半導体装置104は、ガードリング層13上に導電板材60が更に設けられている。
図9は、本実施形態に係る半導体装置104を示した拡大断面図である。図9は、図4と同様な箇所であって、第1方向E1に平行な断面を示している。
本実施形態に係る半導体装置104によれば、導電部材50に覆われていないガードリング層13のセル側部分Dc上に導電板材60を設けている。これにより、導電部材50に覆われていないガードリング層13のセル側部分Dcへの外部電荷からの影響を抑制することができる。また、このように導電板材60を配置することにより、第1実施形態と同様に、間隙H2を通って導電部材50のセル側CSに等電位線を逃がし易くしている。以上により、導電部材50の終端側ESにおける電界集中を抑制することができる。
また、本実施形態においては、複数のガードリング層13は略同一の間隔で設けられているが、これに限らない。例えば、第1実施形態の第1変形例または第2変形例のように配置したガードリング層13と導電部材50において、導電板材60を導電部材50と同様に一部のガードリング層13上に部分的に配置してもよい。
11…第1半導体層
11a…ベース半導体層
11b…終端半導体層
11c…下層半導体層
12…第2半導体層
13…ガードリング層
13c…セル側端縁
13e…終端側端縁
21…第1電極
22…第2電極
28…終端電極
31…絶縁膜
41…保護膜
50…導電部材
51、52、53、54、55、56、57…導電部材
50c…セル側端縁
50e…終端側端縁
51a、52a、53a、54a、55a…第1部分
51b、52b、53b、54b、55b…第2部分
60…導電板材
60c…セル側端縁
60e…終端側端縁
101、102、103、104…半導体装置
131~136…ガードリング層
132c、133c、134c…セル側端縁
CR…セル領域
CS…セル側
Dc…セル側部分
De…終端側部分
E1…第1方向
E2…第2方向
ER…終端領域
ES…終端側
H、H2、S…間隙
Ib…境界領域
Ic…第2領域
Ie…第1領域
L1、L2…等電位線
r1、r2、r3、r4、r5…間隔
s1、s2、s3、s4、s5…間隔
t1、t2、t3、t4、t5、t6…間隔
Wc…セル側部分
We…終端側部分
Claims (11)
- セル領域、及び、前記セル領域を囲む終端領域を有する半導体装置であって、
第1導電形の第1半導体層と、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記セル領域を囲む第2導電形の第1ガードリング層と、
を有した半導体部分と、
前記半導体部分上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜を介して前記第1ガードリング層と離隔して設けられ、前記セル領域から前記終端領域に向かう方向の端縁である終端側の端縁が、前記第1ガードリング層の前記終端側の端縁よりも前記終端側に位置し、セル領域側の端縁が、前記第1ガードリング層の前記セル領域側の端縁の直上域よりも前記終端側であって前記終端側の端縁の直上域までの間に位置し、前記セル領域側の部分が、前記第1ガードリング層の前記終端側の部分を覆い、前記終端側の部分が、前記第1ガードリング層を覆っていない第1導電部材と、
前記第1ガードリング層の前記セル領域側の部分の上に設けられ、前記第1ガードリング層に接し、前記第1導電部材と前記絶縁膜を介して離隔した第1導電板材と、
を備えた半導体装置。 - セル領域、及び、前記セル領域を囲む終端領域を有する半導体装置であって、
第1導電形の第1半導体層と、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記セル領域を囲む第2導電形の第1ガードリング層と、
を有した半導体部分と、
前記半導体部分上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜を介して前記第1ガードリング層と離隔して設けられ、前記セル領域から前記終端領域に向かう方向の端縁である終端側の端縁が、前記第1ガードリング層の前記終端側の端縁よりも前記終端側に位置し、セル領域側の端縁が、前記第1ガードリング層の前記セル領域側の端縁の直上域よりも前記終端側であって前記終端側の端縁の直上域までの間に位置した第1導電部材と、
前記第1ガードリング層の前記セル領域側の部分の上に設けられ、前記第1ガードリング層に接し、前記第1導電部材と前記絶縁膜を介して離隔した第1導電板材と、
を備え、
前記第1導電部材の前記終端側の部分と前記第1半導体層との間には、前記第1ガードリング層が設けられておらず、
前記第1導電部材の前記セル領域側の部分と前記第1半導体層との間には、前記第1ガードリング層が設けられている半導体装置。 - 前記半導体部分は、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記第1ガードリング層を囲む第2導電形の第2ガードリング層と、
を、更に有し、
前記絶縁膜を介して前記第2ガードリング層を覆う第2導電部材と、
を、更に備えた請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記第2導電部材は、前記終端側の端縁が、前記第2ガードリング層の前記終端側の端縁よりも前記終端側に位置し、前記セル領域側の端縁が、前記第2ガードリング層の前記セル領域側の端縁の直上域よりも終端側であって前記終端側の端縁の直上域までの間に位置した請求項3に記載の半導体装置。
- 前記半導体部分は、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記第2ガードリング層を囲む第2導電形の第3ガードリング層と、
を、更に有し、
上方から見て、前記絶縁膜を介して前記第3ガードリング層を覆う第3導電部材と、
を、更に備えた請求項3または4に記載の半導体装置。 - 前記第3導電部材は、前記終端側の端縁が、前記第3ガードリング層の前記終端側の端縁よりも前記終端側に位置し、前記セル領域側の端縁が、前記第3ガードリング層の前記セル領域側の端縁の直上域よりも前記終端側であって前記終端側の端縁の直上域までの間に位置した請求項5に記載の半導体装置。
- 前記第3導電部材は、前記第1導電部材の前記終端側に配列され、
前記第2導電部材は、前記第1導電部材と前記第3導電部材の間隙に対して前記第1導電部材から前記第3導電部材に向かう第1方向に交差する第2方向にずれて配置された請求項5または6に記載の半導体装置。 - 前記半導体部分は、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記第1ガードリング層を囲む第2導電形の第2ガードリング層と、
を、更に有し、
前記第1導電部材は、前記第2ガードリング層の前記セル領域側の部分を覆っている請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記半導体部分は、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記第2ガードリング層を囲む第2導電形の第3ガードリング層と、
を、更に有し、
前記絶縁膜を介して前記第3ガードリング層を覆う第2導電部材と、
を、更に備えた請求項8に記載の半導体装置。 - 前記第1ガードリング層と前記第2ガードリング層との間隔は、前記第2ガードリング層と前記第3ガードリング層との間隔よりも狭い請求項5~7、9のいずれか1つに記載の半導体装置。
- セル領域、及び、前記セル領域を囲む終端領域を有する半導体装置であって、
第1導電形の第1半導体層と、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記セル領域を囲む第2導電形の第1ガードリング層と、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記第1ガードリング層を囲む第2導電形の第2ガードリング層と、
前記終端領域において前記第1半導体層の上部に設けられ、前記第2ガードリング層を囲む第2導電形の第3ガードリング層と、
を有した半導体部分と、
前記半導体部分上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜を介して前記第1ガードリング層と離隔して設けられ、前記セル領域から前記終端領域に向かう方向の端縁である終端側の端縁が、前記第1ガードリング層の前記終端側の端縁よりも前記終端側に位置し、セル領域側の端縁が、前記第1ガードリング層の前記セル領域側の端縁の直上域よりも前記終端側であって前記終端側の端縁の直上域までの間に位置し、前記セル領域側の部分が、前記第1ガードリング層の前記終端側の部分を覆い、前記終端側の部分が、前記第1ガードリング層を覆っていない第1導電部材と、
前記絶縁膜を介して前記第2ガードリング層を覆う第2導電部材と、
前記第1導電部材の前記終端側に配列され、上方から見て、前記絶縁膜を介して前記第3ガードリング層を覆う第3導電部材と、
を備え、
前記第2導電部材は、前記第1導電部材と前記第3導電部材の間隙に対して前記第1導電部材から前記第3導電部材に向かう第1方向に交差する第2方向にずれて配置された半導体装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020157510A JP7492415B2 (ja) | 2020-09-18 | 2020-09-18 | 半導体装置 |
CN202011599608.2A CN114203795A (zh) | 2020-09-18 | 2020-12-30 | 半导体装置 |
US17/189,202 US11600692B2 (en) | 2020-09-18 | 2021-03-01 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020157510A JP7492415B2 (ja) | 2020-09-18 | 2020-09-18 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022051174A JP2022051174A (ja) | 2022-03-31 |
JP7492415B2 true JP7492415B2 (ja) | 2024-05-29 |
Family
ID=80645408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020157510A Active JP7492415B2 (ja) | 2020-09-18 | 2020-09-18 | 半導体装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11600692B2 (ja) |
JP (1) | JP7492415B2 (ja) |
CN (1) | CN114203795A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002368215A (ja) | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
JP2007059766A (ja) | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Sanken Electric Co Ltd | トレンチ構造半導体装置及びその製造方法 |
WO2013140572A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置 |
US20140209971A1 (en) | 2013-01-30 | 2014-07-31 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Insulated gate bipolar transistor |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0794704A (ja) | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2002353307A (ja) | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP3906181B2 (ja) * | 2003-05-26 | 2007-04-18 | 株式会社東芝 | 電力用半導体装置 |
JP5569600B2 (ja) | 2011-01-17 | 2014-08-13 | 富士電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP5716591B2 (ja) | 2011-07-26 | 2015-05-13 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
EP2725623B1 (en) | 2011-09-08 | 2019-10-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
WO2015104900A1 (ja) | 2014-01-10 | 2015-07-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JP2015179774A (ja) | 2014-03-19 | 2015-10-08 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
WO2016002963A1 (ja) * | 2014-07-04 | 2016-01-07 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP6534813B2 (ja) | 2015-01-08 | 2019-06-26 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP2018098254A (ja) | 2016-12-08 | 2018-06-21 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP7077648B2 (ja) * | 2017-02-16 | 2022-05-31 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US11309438B2 (en) * | 2019-12-10 | 2022-04-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Silicon carbide semiconductor device and method of manufacturing silicon carbide semiconductor device |
US20220045205A1 (en) * | 2020-08-04 | 2022-02-10 | Pakal Technologies, Inc. | Trench gate power switch with doped regions to induce breakdown at selected areas |
-
2020
- 2020-09-18 JP JP2020157510A patent/JP7492415B2/ja active Active
- 2020-12-30 CN CN202011599608.2A patent/CN114203795A/zh active Pending
-
2021
- 2021-03-01 US US17/189,202 patent/US11600692B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002368215A (ja) | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
JP2007059766A (ja) | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Sanken Electric Co Ltd | トレンチ構造半導体装置及びその製造方法 |
WO2013140572A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置 |
US20140209971A1 (en) | 2013-01-30 | 2014-07-31 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Insulated gate bipolar transistor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114203795A (zh) | 2022-03-18 |
US20220093729A1 (en) | 2022-03-24 |
US11600692B2 (en) | 2023-03-07 |
JP2022051174A (ja) | 2022-03-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5048273B2 (ja) | 絶縁ゲート型半導体装置 | |
JP4469584B2 (ja) | 半導体装置 | |
US7911020B2 (en) | Semiconductor device having breakdown voltage maintaining structure and its manufacturing method | |
KR101654250B1 (ko) | 증가된 항복 전압 특성을 갖는 트렌치형 전력 반도체 소자 | |
JP5517688B2 (ja) | 半導体装置 | |
US20100224907A1 (en) | Semiconductor device | |
US11164859B2 (en) | Semiconductor device | |
KR20060127075A (ko) | 트렌치 게이트 전계 효과 디바이스 | |
US10529805B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2007157799A (ja) | 半導体装置 | |
JP5129943B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7204544B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6053415B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7492415B2 (ja) | 半導体装置 | |
CN112713124A (zh) | 半导体装置 | |
JP3749191B2 (ja) | 高耐圧半導体装置 | |
US6150675A (en) | Semiconductor component with a control electrode for modulating the conductivity of a channel area by means of a magnetoresistor structure | |
US11444186B2 (en) | Semiconductor device | |
US10361184B2 (en) | Semiconductor device | |
US11538904B2 (en) | Semiconductor device | |
WO2017203671A1 (ja) | 半導体装置 | |
KR101602411B1 (ko) | 게이트 패드 영역에 액티브셀 배치 구조를 가지는 전력 반도체 장치 | |
US11798997B2 (en) | Semiconductor device | |
US20240021681A1 (en) | Semiconductor device | |
US20230335626A1 (en) | Semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220623 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230622 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20230623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230725 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240419 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7492415 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |