JP7492384B2 - 電気化学装置 - Google Patents
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Description
本開示は、光を反射する状態と光を反射しない状態とを切り替えることができる電気化学装置、及び、当該電気化学装置に用いられる電極付き基板、に関する。
光を反射する状態（反射状態）と、光を反射しない状態（非反射状態）、例えば光を透過する状態と、を切り替えることができる電気化学装置の開発が進められている。そのような電気化学装置は、一般に、Ａｇを含むエレクトロデポジション材料、及び、Ｃｕを含むメディエータ材料を含有する電解質層と、当該電解質層を挟持し、当該電解質層に電圧を印加することができる一対の電極と、を少なくとも備える。一対の電極には、一般に、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、あるいはインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が用いられる。
電気化学装置は、通常、非反射状態を実現する。一対の電極を介して、電解質層に電圧を印加すると、酸化還元反応によって、一対の電極の一方に、エレクトロデポジション材料に含まれるＡｇが光反射膜として析出する。これによって、電気化学装置は、反射状態を実現する。電解質層への電圧印加を停止すると、析出した光反射膜が電解質層に溶解し、消失して、電気化学装置は、再び非反射状態を実現する。
エレクトロデポジション材料には、一般に、Ａｇを含む材料が用いられる。また、メディエータ材料には、Ａｇよりも電気化学的に低いエネルギーで酸化還元反応が起こる材料、一般にＣｕを含む材料が用いられる。メディエータ材料の酸化体がＡｇから電子を授受することにより、Ａｇの酸化による消失反応を補助する、とされている。
特許文献１には、電解質層のメディエータ材料に、Ｃｕに替えてＴａを含む材料を用いた電気化学装置が開示されている。特許文献１によれば、メディエータ材料がＣｕを含む材料である場合、電解質層が黄色っぽく見えるが、Ｔａを含む材料である場合、電解質層が無色透明になる、としている。
電解質層のメディエータ材料に例えばＴａを含む材料を用いた場合、インジウムを含むＩＴＯ，ＩＺＯ等の一対の電極が、電解質層によって溶解されうるとの課題を発見した。
本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、電解質層の着色を防ぎつつ、電解質層による電極の溶解を抑えて、長期信頼性が高い電気化学装置を提供することにある。
上記課題を解決するための、本開示の一実施態様による電気化学装置は、Ａｇを含むエレクトロデポジション材料、及び、Ｔａ，Ｍｏ又はＮｂのいずれかを含むメディエータ材料、を含有する電解質層と、前記電解質層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板の相互に向かい合う面に設けられ、前記電解質層に対して不溶性を有する一対の電極と、を備え、前記一対の電極が、前記一対の基板の相互に向かい合う面に全面的に、又は、選択的に形成されており、前記一対の電極の一方である第１電極は、ＩＴＯを含む第１導電層と、前記第１導電層と前記電解質層の間に位置し、前記電解質層に接するとともに前記電解質層に対して不溶性を有する第１保護層と、を有する積層構造である。
上記構成の電気化学装置によれば、電解質層の着色を防ぎつつ、電解質層による電極の溶解を抑えることができる。その結果、高い長期信頼性を実現することができる。
（構造及び構成）
最初に、図面を参照しつつ、実施形態による電気化学装置１の構造及び構成について説明する。図１に、電気化学装置１の断面図を示し、図２に、電気化学装置１の平面図を示す。
最初に、図面を参照しつつ、実施形態による電気化学装置１の構造及び構成について説明する。図１に、電気化学装置１の断面図を示し、図２に、電気化学装置１の平面図を示す。
図１に示すように、電気化学装置１は、主に、Ａｇを含むエレクトロデポジション材料、及び、例えばＴａを含むメディエータ材料を含有する電解質層３０と、電解質層３０を挟持する一対の基板１０，２０と、一対の基板１０，２０の相互に向かい合う面に設けられる一対の電極１２，２２と、を備える。
以下、一対の基板１０，２０の一方を下側基板１０、他方を上側基板２０と呼ぶことがある。また、一対の電極１２，２２の一方を下側電極１２あるいは第１電極１２、他方を上側電極２２あるいは第２電極２２と呼ぶことがある。さらに、下側基板１０及び下側電極１２をまとめて下側電極付き基板１０ｅｓ、上側基板２０及び上側電極２２をまとめて上側電極付き基板２０ｅｓと呼ぶことがある。
電解質層３０は、エレクトロデポジション材料及びメディエータ材料に加え、さらに、支持電解質及び溶媒を含む。エレクトロデポジション材料には、Ａｇを含む材料、例えば、ＡｇＮＯ３，ＡｇＣｌＯ４，ＡｇＢｒ等が用いられる。支持電解質には、エレクトロデポジション材料の酸化還元反応を促進する材料、例えば、ＬｉＣｌ，ＫＣｌ，ＮａＣｌ等の塩化物、ＬｉＢｒ，ＫＢｒ，ＮａＢｒ等の臭化物等が用いられる。溶媒には、エレクトロデポジション材料を安定的に保持することができる材料、例えば、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ），ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が用いられる。
メディエータ材料には、例えばＴａを含む材料が用いられる。メディエータ材料にＴａを含む材料を用いることによって、電解質層３０をほぼ無色透明にすることができる。なお、特許文献１に開示されるＴａの他にも、Ｍｏ，Ｎｂ等を含むメディエータ材料を用いても、電解質層３０の透明度を高められることが本発明者らの研究によってわかっている。メディエータ材料には、例えば、ＴａＣｌ５，ＭｏＣｌ５，ＮｂＣｌ５等を用いることができる。
下側電極１２は、ＩＴＯからなる導電層１２ｄと、導電層１２ｄの主機能面を覆い、電解質層３０に対して溶解しにくい材料、より言えば電解質層３０に対して溶解しない材料を含む保護層１２ｐと、を備える。保護層１２ｐには、メディエータ材料としてＴａ，Ｍｏ又はＮｂのいずれかを含む材料を用いた電解質層３０に対して不溶性を有する材料、例えば、フッ素錫酸化物（ＦＴＯ），アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ），ＳｎＯ２等の導電性酸化物、ポリピロール，ＰＥＤＯＴ（ポリ３，４―エチレンジオキシチオフェン）等の導電性ポリマ、あるいは、ＩｒＯｘ，ＭｎＯｘ，ＣｒＯｘ，ＮｉＯｘ，ＷＯｘ等（ｘは任意の正の整数）のエレクトロクロミック材料、を用いることができる。
なお、上側電極２２も、下側電極１２と同様に、ＩＴＯからなる導電層２２ｄ及び電解質層３０に対して不溶性を有する材料を含む保護層２２ｐを有している。下側電極１２の導電層１２ｄ及び保護層１２ｐを、それぞれ第１導電層１２ｄ及び第１保護層１２ｐと呼ぶことがある。また、上側電極２２の導電層２２ｄ及び保護層２２ｐを、それぞれ第２導電層２２ｄ及び第２保護層２２ｐと呼ぶことがある。
一般に、一対の電極は、ＩＴＯにより構成される。しかし、電解質層３０のメディエータ材料にＴａ，Ｍｏ又はＮｂを含む材料を用いる場合、ＩＴＯからなる一対の電極は、電解質層３０によって溶解されてしまうことが本発明者らによって確認されている。
本発明者らの実験によれば、例えば、メディエータ材料である塩化モリブデンの濃度が１０ｍＭであり、温度が６０℃である電解液にＩＴＯ膜を１００時間浸漬したところ、当該ＩＴＯ膜の厚みが３６５ｎｍから３４０ｎｍに低減することが確認された。これは、ＩＴＯ膜の一部が電解液に溶解したためと推察される。
一方、メディエータ材料である塩化モリブデンの濃度が１０ｍＭであり、温度が７０℃である電解液に、上記ＦＴＯ等の不溶性材料を含む不溶性膜を７日間浸漬したところ、当該不溶性膜の厚みの低減は観察されなかった。この観察結果に基づいて、ここで不溶性膜とは、塩化モリブデン（ＭｏＣｌ５）を１０ｍＭ含むＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド溶液に７０℃の環境下で７日間（１６８時間）浸漬したとき、膜厚の低減量が１５ｎｍ以下である膜を指すものとする。
一対の電極１２，２２の電解質層３０に接触する部分に、電解質層３０に対して溶解しにくい保護層１２ｐ，２２ｐを設けることにより、電解質層３０による一対の電極１２，２２の溶解を抑制することができる。なお、一対の電極１２，２２は、保護層１２ｐ，２２ｐのみで形成されても構わない。しかし、電気伝導性及び成形（パターニング）容易性の観点から、ＩＴＯからなる導電層１２ｄ，２２ｄと、厚み１０～３０ｎｍ程度の保護層１２ｐ，２２ｐと、を有する積層構造とすることが好ましい。
なお、一対の基板１０，２０には、透光性を有するガラス基板，プラスチック基板等が用いられる。また、一対の基板１０，２０の間隔、あるいは電解質層３０の厚みは、４０～１０００μｍ程度である。
（機能及び動作）
次に、電気化学装置１の機能及び動作について説明する。電気化学装置１は、通常、光を透過する状態（透過状態）を実現し、例えば下側基板１０から光を入射すると、当該光は、下側電極１２、電解質層３０及び上側電極２２を透過して、上側基板２０から出射される。
次に、電気化学装置１の機能及び動作について説明する。電気化学装置１は、通常、光を透過する状態（透過状態）を実現し、例えば下側基板１０から光を入射すると、当該光は、下側電極１２、電解質層３０及び上側電極２２を透過して、上側基板２０から出射される。
駆動回路４０により、下側電極１２と上側電極２２との間に電圧を印加する。例えば、上側電極２２の電位を基準としたときに、下側電極１２に－２．０～－２．８Ｖの直流電圧を印加する。このとき、下側電極１２の表面に、光反射膜となるＡｇ膜３５が堆積する。これによって、電気化学装置１は、光を反射する状態（反射状態）を実現し、例えば下側基板１０から光を入射すると、当該光は、下側電極１２の表面に形成されたＡｇ膜３５によって反射され、下側基板１０から出射される。
なお、上側電極２２の電位を基準としたときに、下側電極１２に０～０．５Ｖの直流電圧を印加すると、下側電極１２の表面に形成されたＡｇ膜が、電解質層３０に溶解し、消失する。これによって、電気化学装置１は、再び、透過状態を実現する。
実施形態による電気化学装置１では、電解質層３０のメディエータ材料に、Ｔａ，Ｍｏ又はＮｂのいずれかを含む材料が用いられており、電解質層３０の透明度が高いため、電気化学装置１は、良好な透過状態を実現できる。また、一対の電極１２，２２の電解質層３０に接触する部分に、電解質層３０に対して溶解しにくい保護層１２ｐ，２２ｐが設けられているため、電解質層３０による電極１２，２２の溶解が抑制され、電気化学装置１は、高い長期信頼性を実現する。
（製造方法）
次に、電気化学装置１の製造方法について説明する。以下では、電解質層３０のメディエータ材料として塩化モリブデン、一対の電極１２，２２の保護層１２ｐ，２２ｐとしてＦＴＯを用いた電気化学装置１の製造方法を例示する。
次に、電気化学装置１の製造方法について説明する。以下では、電解質層３０のメディエータ材料として塩化モリブデン、一対の電極１２，２２の保護層１２ｐ，２２ｐとしてＦＴＯを用いた電気化学装置１の製造方法を例示する。
最初に、下側電極付き基板１０ｅｓを作製する。下側基板１０として、厚みが０．７ｍｍであるソーダライムガラス基板を準備する。次に、下側基板１０の表面全面に、スパッタ法により、ＳｉＯ２膜を形成し、続いて、導電層１２ｄとなる、厚み約３６５ｎｍのＩＴＯ膜、及び、保護層１２ｐとなる、厚み約２０ｎｍのＦＴＯ膜を順に形成する。
以上により、下側電極付き基板１０ｅｓが完成する。同じ要領で、上側電極付き基板２０ｅｓも作製する。
図２に示すように、下側電極付き基板１０ｅｓの主機能面に、枠状のメインシール部材１５ｍを形成する。メインシール部材１５ｍには、後工程において電解液を注入する注入口１５ｉが設けられる。
メインシール部材１５ｍは、スクリーン印刷法により、所望の平面形状に成形される。メインシール部材１５ｍには、例えば(株)スリーボンド製ＵＶ硬化性樹脂ＴＢ３０３５Ｂを用いることができる。また、メインシール部材１５ｍには、直径１００μｍのガラス製ビーズスペーサが３ｗｔ％程度混合されている。
次に、下側電極付き基板１０ｅｓの、メインシール部材１５ｍにより囲まれた領域に、直径１００μｍのガラス製ビーズスペーサを散布する。続いて、上側電極付き基板２０ｅｓを、下側電極付き基板１０ｅｓに貼り合わせる。下側電極付き基板１０ｅｓと上側電極付き基板２０ｅｓとの間隔は、ガラス製ビーズスペーサにより、約１００μｍに規定される。
次に、電解質層３０を構成する電解液を、真空注入法により、注入口１５ｉから、下側電極付き基板１０ｅｓと上側電極付き基板２０ｅｓとの間の空間に注入する。電解液の溶媒として、－２０℃～１００℃の温度範囲で液相を保つジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）を用いる。また、溶媒には、エレクトロデポジション材料として２００ｍＭのＡｇＢｒ、支持電解質として８００ｍＭのＬｉＢｒ、メディエータ材料として３０ｍＭのＭｏＣｌ５（ＭｏはＶ価）が混合される。
次に、エンドシール部材１５ｅにより、注入口１５ｉを塞いで、メインシール部材１５ｍ及びエンドシール部材１５ｅを硬化する。エンドシール部材１５ｅには、例えば(株)スリーボンド製ＵＶ硬化性樹脂ＴＢ３０３５Ｂを用いることができる。メインシール部材１５ｍ及びエンドシール部材１５ｅは、シール枠部材１５を構成する。
以上により、電気化学装置１が完成する。なお、電解質層３０のメディエータ材料には、ＭｏＣｌ５の他にも、ＴａＣｌ５，ＮｂＣｌ５等を用いることができる。
また、保護層１２ｐ，２２ｐには、ＦＴＯの他にも、ＡＴＯ，ＳｎＯ２等の導電性酸化物、又は、ＩｒＯｘ，ＭｎＯｘ，ＣｒＯｘ，ＮｉＯｘ，ＷＯｘ等のエレクトロクロミック材料を用いることができる。また、ポリピロール，ＰＥＤＯＴ等の導電性ポリマを用いることもできる。それらの導電性ポリマは、例えば電着法により、導電層１２ｄ，２２ｄの上に形成することができる。
（変形例）
実施形態では、下側電極１２及び上側電極２２が、下側基板１０及び上側基板２０の表面に全面的に形成されていた。しかし、下側電極１２及び上側電極２２は、下側基板１０及び上側基板２０の表面に選択的に形成されていてもよい。以下、実施形態の変形例として、下側電極１２及び上側電極２２が所望の平面形状に成形されている電気化学装置について説明する。
実施形態では、下側電極１２及び上側電極２２が、下側基板１０及び上側基板２０の表面に全面的に形成されていた。しかし、下側電極１２及び上側電極２２は、下側基板１０及び上側基板２０の表面に選択的に形成されていてもよい。以下、実施形態の変形例として、下側電極１２及び上側電極２２が所望の平面形状に成形されている電気化学装置について説明する。
図３に、変形例による電気化学装置１ａの断面図を示す。変形例による電気化学装置１ａは、下側電極１２及び上側電極２２の平面形状及び積層構造を除いて、実施形態による電気化学装置１と同じ構造及び構成を有する。
電気化学装置１ａでは、下側電極１２が、下側基板１０の表面に選択的に形成されており、シール枠部材１５により画定される領域のなかに収められている。電気化学装置１ａでは、導電層１２ｄの主機能面及び側面が、保護層１２ｐによって覆われている。ＩＴＯからなる導電層１２ｄが、電解質層３０に対して溶解しにくい保護層１２ｐによって保護されているため、電解質層３０による下側電極１２の溶解を抑えることができる。
変形例による下側電極付き基板１０ｅｓは、例えば次のような方法で作製することができる。すなわち、ガラス基板，プラスチップ基板等の下側基板１０の表面に、例えばスパッタ法により、ＩＴＯからなる導電層１２ｄを形成する。次に、例えばフォトリソグラフィ法により、導電層１２ｄを所望の平面形状にパターニングする。次に、例えばリフトオフ法により、導電層１２ｄの主機能面及び側面に、ＦＴＯからなる保護層１２ｐを形成する。以上により、変形例による下側電極付き基板１０ｅｓが完成する。
電気化学装置１ａでは、上側電極２２も、上側基板２０の表面に選択的に形成されており、シール枠部材１５により画定される領域のなかに収められている。電気化学装置１ａでは、導電層２２ｄの主機能面が保護層２２ｐによって覆われ、導電層２２ｄの側面が電解質層３０に対して溶解しにくいＳｉＯ２，エポキシ，ポリイミド等の絶縁部材２２ｉによって覆われている。ＩＴＯからなる導電層２２ｄが、電解質層３０に対して溶解しにくい保護層２２ｐ及び絶縁部材２２ｉによって保護されているため、電解質層３０による上側電極２２の溶解を抑えることができる。なお、上側電極２２の導電層２２ｄの側面は、シール枠部材１５によって覆われていてもよい。
変形例による上側電極付き基板２０ｅｓは、例えば次のような方法で作製することができる。すなわち、ガラス基板，プラスチップ基板等の上側基板２０の表面に、例えばリフトオフ法により、ＩＴＯからなる導電層２２ｄ、及び、導電層２２ｄの主機能面を覆うＦＴＯからなる保護層２２ｐを形成する。次に、例えばリフトオフ法により、導電層２２ｄ及び保護層２２ｐの側面に、ＳｉＯ２からなる絶縁部材２２ｉを形成する。なお、例えばスクリーン印刷法により、導電層２２ｄ及び保護層２２ｐの側面に、エポキシ樹脂からなる絶縁部材２２ｉを形成してもよい。以上により、変形例による上側電極付き基板２０ｅｓが完成する。
（その他の変形例）
以上の実施形態及びその変形例では、非反射状態として透過状態を実現する電気化学装置を説明した。しかし、一対の基板１０，２０の一方を、例えば可視光を吸収する基板とすれば、非反射状態として吸収状態（黒色状態）を実現する電気化学装置が提供される。また、一対の電極１２，２２の一方は、電解質層３０に対して不溶性を有し、かつ、透光性を有さない電極、例えばカーボンからなる黒色の電極としてもよい。
以上の実施形態及びその変形例では、非反射状態として透過状態を実現する電気化学装置を説明した。しかし、一対の基板１０，２０の一方を、例えば可視光を吸収する基板とすれば、非反射状態として吸収状態（黒色状態）を実現する電気化学装置が提供される。また、一対の電極１２，２２の一方は、電解質層３０に対して不溶性を有し、かつ、透光性を有さない電極、例えばカーボンからなる黒色の電極としてもよい。
また、以上の実施形態及びその変形例では、平坦な電極上に光反射層であるＡｇ層を形成する例を説明したが、光反射層でなく調光層を形成することもできる。ミクロンオーダよりも微細な凹凸を有する下地電極を設けることにより、黒色を呈するＡｇ層を形成することができる。また、下地電極の凹凸の径をミクロンオーダ以上にすることにより、白色を呈するＡｇ層を形成することもできる。
（応用例）
実施形態及びその変形例による電気化学装置１,１ａは、特許文献１に開示されているようなディスプレイ，ＮＤフィルタ等に応用することができる。
実施形態及びその変形例による電気化学装置１,１ａは、特許文献１に開示されているようなディスプレイ，ＮＤフィルタ等に応用することができる。
図４（Ａ）に、電気化学装置１，１ａをヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）の可変コンバイナ２５に応用した例を示す。可変コンバイナ２５としての電気化学装置１，１ａを例えば車両の窓に装着し、通常は透過状態とし、必要に応じて反射状態に切り替えることにより、プロジェクタ４１から可変コンバイナ２５に投影される画像を観察可能にする。
図４（Ｂ）に、レーザプロジェクタ４２を用いたＨＵＤコンバイナ２６において、電気化学装置１，１ａをＮＤフィルタ４３として利用した例を示す。レーザプロジェクタ４２から出射される光の強度を調整することは難しいため、レーザプロジェクタ４２から出射される光を、ＮＤフィルタ４３としての電気化学装置１，１ａにより減衰する。これにより、周囲の明るさに適した表示を実現することができる。
以上、本開示を説明したが、これらは限定的な意味は持たない。例示した材料、数値などは、制限的意味を持たない。種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
１ 電気化学装置（実施形態）
１ａ 電気化学装置（変形例）
１０ 下側基板
１０ｅｓ 下側電極付き基板
１２ 下側電極（第１電極）
１２ｄ （第１）導電層
１２ｐ （第１）保護層
１５ シール枠部材
１５ｍ メインシール部材
１５ｅ エンドシール部材
２０ 上側基板
２０ｅｓ 上側電極付き基板
２２ 上側電極（第２電極）
２２ｄ （第２）導電層
２２ｉ 絶縁部材
２２ｐ （第２）保護層
２５ 可変コンバイナ
２６ ＨＵＤコンバイナ
３０ 電解質層（電解液）
３５ Ａｇ膜（光反射膜）
４０ 駆動回路
４１ プロジェクタ
４２ レーザプロジェクタ
４３ ＮＤフィルタ
１ａ 電気化学装置（変形例）
１０ 下側基板
１０ｅｓ 下側電極付き基板
１２ 下側電極（第１電極）
１２ｄ （第１）導電層
１２ｐ （第１）保護層
１５ シール枠部材
１５ｍ メインシール部材
１５ｅ エンドシール部材
２０ 上側基板
２０ｅｓ 上側電極付き基板
２２ 上側電極（第２電極）
２２ｄ （第２）導電層
２２ｉ 絶縁部材
２２ｐ （第２）保護層
２５ 可変コンバイナ
２６ ＨＵＤコンバイナ
３０ 電解質層（電解液）
３５ Ａｇ膜（光反射膜）
４０ 駆動回路
４１ プロジェクタ
４２ レーザプロジェクタ
４３ ＮＤフィルタ
Claims (6)
- Ａｇを含むエレクトロデポジション材料、及び、Ｔａ，Ｍｏ又はＮｂのいずれかを含むメディエータ材料、を含有する電解質層と、
前記電解質層を挟持する一対の基板と、
前記一対の基板の相互に向かい合う面に設けられ、前記電解質層に対して不溶性を有する一対の電極と、
を備え、
前記一対の電極が、前記一対の基板の相互に向かい合う面に全面的に、又は、選択的に形成されており、
前記一対の電極の一方である第１電極は、
ＩＴＯを含む第１導電層と、
前記第１導電層と前記電解質層の間に位置し、前記電解質層に接するとともに前記電解質層に対して不溶性を有する第１保護層と、を有する積層構造である、電気化学装置。 - 前記第１電極は、前記一対の基板の相互に向かい合う面の一方の基板の面に選択的に形成され、シール枠部材により画定される領域のなかに収められており、
前記第１導電層の主機能面及び側面が前記第１保護層により覆われている、請求項１に記載の電気化学装置。 - Ａｇを含むエレクトロデポジション材料、及び、Ｔａ，Ｍｏ又はＮｂのいずれかを含むメディエータ材料、を含有する電解質層と、
前記電解質層を挟持する一対の基板と、
前記一対の基板の相互に向かい合う面に設けられ、前記電解質層に対して不溶性を有する一対の電極と、
を備え、
前記一対の電極の一方である第１電極は、
ＩＴＯを含む第１導電層と、
前記第１導電層の主機能面を覆い、前記電解質層に対して不溶性を有する第１保護層と、を含み、
前記第１電極は、前記第１導電層の側面を覆う絶縁部材をさらに含む、電気化学装置。 - 前記第１保護層は、ＦＴＯ，ＡＴＯ，ＳｎＯ２，ポリピロール，ＰＥＤＯＴ，ＩｒＯｘ，ＭｎＯｘ，ＣｒＯｘ，ＮｉＯｘ及びＷＯｘからなる群から選択される１つ以上の材料を含む、請求項１から３のいずれか１項に記載の電気化学装置。
- 前記一対の電極の他方である第２電極は、
ＩＴＯを含む第２導電層と、
前記第２導電層の主機能面を覆い、前記電解質層に対して不溶性を有する第２保護層と、
を含む、請求項１から４のいずれか１項に記載の電気化学装置。 - 前記第１導電層の主機能面を覆う前記第１保護層は、厚みが１０～３０ｎｍである、請求項２又は３に記載の電気化学装置。
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