JP7484937B2 - インクジェット用インク - Google Patents
インクジェット用インク Download PDFInfo
- Publication number
- JP7484937B2 JP7484937B2 JP2021569799A JP2021569799A JP7484937B2 JP 7484937 B2 JP7484937 B2 JP 7484937B2 JP 2021569799 A JP2021569799 A JP 2021569799A JP 2021569799 A JP2021569799 A JP 2021569799A JP 7484937 B2 JP7484937 B2 JP 7484937B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- integer
- ppm
- component
- formula
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- -1 siloxane units Chemical group 0.000 claims description 49
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 47
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 23
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 22
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 12
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 229920006136 organohydrogenpolysiloxane Polymers 0.000 description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 10
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 10
- 238000013006 addition curing Methods 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 125000006519 CCH3 Chemical group 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- BHKAWXZKFKVZLK-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-6-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(C(C)(C)C)=C1O BHKAWXZKFKVZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOQIXYHRBTZINZ-UHFFFAOYSA-N [[dimethyl(prop-2-enoyloxymethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)COC(=O)C=C JOQIXYHRBTZINZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZIFLDVXQTMSDJE-UHFFFAOYSA-N 3-[[dimethyl-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]silyl]oxy-dimethylsilyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C ZIFLDVXQTMSDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 3
- SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutyl-6-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(C)C(O)=C1CCCC SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTIRJFIIOLSBBA-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-2,6-dipropyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1(O[SiH](O[Si](O[SiH](O1)C)(CCC)C)C)CCC QTIRJFIIOLSBBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRCHAVJUNCBSRT-UHFFFAOYSA-N CCC[Si]1(C)O[SiH](C)O[SiH](C)O[Si](C)(CCC)O1 Chemical compound CCC[Si]1(C)O[SiH](C)O[SiH](C)O[Si](C)(CCC)O1 WRCHAVJUNCBSRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(O)COCCO OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- SPXOTSHWBDUUMT-UHFFFAOYSA-N 138-42-1 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 SPXOTSHWBDUUMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIBHSRJKYQTMM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,6,6,8-hexamethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[SiH]1O[Si](C)(C)O[SiH](C)O[Si](C)(C)O1 UAIBHSRJKYQTMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXNZTQWZDCKGNA-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6-tripropyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound CCC[Si]1(C)O[SiH](C)O[Si](C)(CCC)O[Si](C)(CCC)O1 PXNZTQWZDCKGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGUTTYDMIRSADX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-2-propyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound CCC[Si]1(C)O[SiH](C)O[SiH](C)O[SiH](C)O1 PGUTTYDMIRSADX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethylhexoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCC(CC)COCCOCCO OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]-1-methoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(O)COCCOCCO COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMZNFNXOVYDPBW-UHFFFAOYSA-N 3-[[dimethyl(3-prop-2-enoyloxypropyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C AMZNFNXOVYDPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C=C ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003609 H2PtCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002621 H2PtCl6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020427 K2PtCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910019032 PtCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019029 PtCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-BREBYQMCSA-N [(1r,3r,4r)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] prop-2-enoate Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@H](OC(=O)C=C)C[C@@H]1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-BREBYQMCSA-N 0.000 description 1
- UDKHNARLWNTSGT-UHFFFAOYSA-N [[dimethyl(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)COC(=O)C(C)=C UDKHNARLWNTSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- RCNRJBWHLARWRP-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane;platinum Chemical compound [Pt].C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C RCNRJBWHLARWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 125000001867 hydroperoxy group Chemical group [*]OO[H] 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000002683 reaction inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M rhodium;triphenylphosphane;chloride Chemical compound [Cl-].[Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J tetrachloroplatinum Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)Cl FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000011995 wilkinson's catalyst Substances 0.000 description 1
- UTODFRQBVUVYOB-UHFFFAOYSA-P wilkinson's catalyst Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)[Rh+](P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UTODFRQBVUVYOB-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/08—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/068—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/442—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
本発明は、硬化性組成物およびインクジェット用インクに関し、詳しくは、インクジェット吐出性が良好であり、紫外線照射によるラジカル硬化および加熱による付加硬化の両方が可能である硬化性組成物およびインクジェット用インクに関する。
インクジェット吐出は、基材上に薄膜を形成するための有効な塗布方法である。一般的に、ポリジメチルシロキサンは、表面張力が低いためインクジェット吐出には適さないが、ケイ素原子上を長鎖アルキル基で置換することにより表面張力を向上したアクリル変性ポリシロキサンが、インクジェット吐出が良好であることが知られている（特許文献１）。
アクリル変性ポリシロキサンは、光開始剤と混合して紫外線を照射することで光開始剤が開裂して活性ラジカルが発生し、アクリル基がラジカル重合することで硬化が進行する。硬化は紫外線照射と共に瞬間的に進むが、ラジカルの寿命は短く、紫外線照射後に加熱などのポストキュアを行って硬化を更に進めることは原理上できない。また、硬化時に酸素が共存すると、硬化阻害が起こるという問題があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、インクジェット吐出性が良好であり、ラジカル硬化および付加硬化の両方が可能な硬化性組成物およびインクジェット用インクを提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、１分子中にヒドロシリル基およびアルキル基を有する（メタ）アクリル官能性オルガノハイドロジェンポリシロキサン、光重合開始剤およびヒドロシリル化反応触媒を含み、所定の表面張力および粘度を有する硬化性組成物が、インクジェット吐出性が良好であり、かつ（メタ）アクリル基によるラジカル硬化、およびヒドロシリル化による付加硬化のいずれも可能であることを見出し、本発明を完成した。なお、本発明において、（メタ）アクリル官能性とは、アクリロイルオキシアルキル基またはメタクリロイルオキシアルキル基を含むことを意味する。
従って、本発明は、
１． （Ａ）下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサン、
（式中、Ｒ1は、それぞれ独立して、炭素原子数１～８の置換または非置換のアルキル基を表し、Ｒ2は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。ｍは、それぞれ独立して、１～１０の整数を表し、ａおよびｂは、それぞれ独立して、１以上の整数を表し、かつ、ａ＋ｂは、３～１２０の整数である。ａおよびｂが付された括弧内の各シロキサン単位の配列は、任意であってよい。）
（Ｂ）光重合開始剤、および、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒
を含み、２３℃における表面張力が２３～３０ｍＮ／ｍであり、２３℃における粘度が５～８０ｍＰａ・ｓである硬化性組成物、
２． 更に、（Ｄ）シロキサン構造を有しない（メタ）アクリレート化合物を（Ａ）成分１００質量部に対して５～１００質量部含む１記載の硬化性組成物、
３． １または２記載の硬化性組成物からなるインクジェット用インク、
４． １または２記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化物
を提供する。
１． （Ａ）下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）光重合開始剤、および、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒
を含み、２３℃における表面張力が２３～３０ｍＮ／ｍであり、２３℃における粘度が５～８０ｍＰａ・ｓである硬化性組成物、
２． 更に、（Ｄ）シロキサン構造を有しない（メタ）アクリレート化合物を（Ａ）成分１００質量部に対して５～１００質量部含む１記載の硬化性組成物、
３． １または２記載の硬化性組成物からなるインクジェット用インク、
４． １または２記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化物
を提供する。
本発明の硬化性組成物は、インクジェット吐出性が良好であり、ＳｉＨ基をヒドロシリル化の反応点とする付加硬化性および（メタ）アクリル基を反応点とするラジカル硬化性を有しているため、コーティング剤、シール剤、接着剤、３Ｄプリンタ向け造形材料等の用途に使用することができる。
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明の硬化性組成物は、
（Ａ）下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）光重合開始剤、および、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒
を含むものである。
本発明の硬化性組成物は、
（Ａ）下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）光重合開始剤、および、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒
を含むものである。
［（Ａ）成分］
本発明の（Ａ）成分は、下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサンである。
（式中、Ｒ1は、それぞれ独立して、炭素原子数１～８の置換または非置換のアルキル基を表し、Ｒ2は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。ｍは、それぞれ独立して、１～１０の整数を表し、ａおよびｂは、それぞれ独立して、１以上の整数を表し、かつ、ａ＋ｂは、３～１２０の整数である。ａおよびｂが付された括弧内の各シロキサン単位の配列は、任意であってよい。）
本発明の（Ａ）成分は、下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサンである。
Ｒ1の炭素原子数１～８の置換または非置換のアルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ－オクチル、２－エチルヘキシル基等が挙げられる。また、これらアルキル基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部が、塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子で置換された３－クロロプロピル、３，３，３－トリフルオロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基であってもよい。
これらの中でも、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル基等の直鎖アルキル基が好ましく、未反応成分の取り除きやすさ、および表面張力を向上させる点において、炭素原子数１～６、特に３～６のアルキル基がより好ましく、ｎ－プロピル基が最も好ましい。
これらの中でも、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル基等の直鎖アルキル基が好ましく、未反応成分の取り除きやすさ、および表面張力を向上させる点において、炭素原子数１～６、特に３～６のアルキル基がより好ましく、ｎ－プロピル基が最も好ましい。
Ｒ2の置換または非置換のアルキル基としては、直鎖状、分岐状および環状のいずれでもよく、炭素原子数１～８のものが好ましく、その具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ－オクチル、２－エチルヘキシル基等が挙げられる。また、これらアルキル基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部が、塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子で置換されたクロロメチル、３－クロロプロピル、３，３，３－トリフルオロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基等が挙げられる。置換または非置換のアリール基としては、炭素原子数６～２０のものが好ましく、その具体例としては、フェニル、トリル基等が挙げられる。また、これらアリール基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部が、上記と同じハロゲン原子で置換されたクロロフェニル、フルオロフェニル基等のハロゲン置換アリール基などが挙げられる。
これらの中でも、炭素原子数１～６のアルキル基または炭素原子数６～１０のアリール基が好ましく、メチル基がより好ましい。
これらの中でも、炭素原子数１～６のアルキル基または炭素原子数６～１０のアリール基が好ましく、メチル基がより好ましい。
ａは、１以上の整数を表し、好ましくは１～６０、より好ましくは１～３０、更に好ましくは３～２０の整数であり、ｂは、１以上の整数を表し、好ましくは１～６０、より好ましくは１～３０、更に好ましくは３～２０の整数であり、ａ＋ｂは、３～１２０の整数であり、好ましくは３～８０、特に好ましくは６～２０の整数である。ａ＋ｂが１２０を超えると、ポリシロキサンの粘度が高くなり、インクジェット吐出性が不充分なものとなる。
ｍは、１～１０の整数であり、好ましくは１～５、特に好ましくは２～４の整数である。ｍが１０を超えると、合成時に未反応のジシロキサンを除去しづらくなる。
なお、式（１）における各シロキサン単位の配列は、任意であってよく、ランダム、ブロック、交互等のいずれでもよい。
ｍは、１～１０の整数であり、好ましくは１～５、特に好ましくは２～４の整数である。ｍが１０を超えると、合成時に未反応のジシロキサンを除去しづらくなる。
なお、式（１）における各シロキサン単位の配列は、任意であってよく、ランダム、ブロック、交互等のいずれでもよい。
式（１）の化合物の具体例としては、例えば、下記のものが挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅは、メチル基を表し、ｎ－Ｐｒは、ｎ－プロピル基を表す（以下、同じ）。
（式中、括弧が付された各シロキサン単位の配列は、任意であってよい。）
（Ａ）成分の（メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンは、インクジェット吐出性の観点から、２３℃における表面張力が、２３～３０ｍＮ／ｍであることが好ましく、また、２３℃における粘度が、５～８０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
なお、本発明において、表面張力は、協和界面科学（株）製自動表面張力計ＣＢＶＰ－Ｚ型を用いて測定した値である。また、粘度は、東機産業（株）製回転粘度計を用いて測定した値である。
なお、本発明において、表面張力は、協和界面科学（株）製自動表面張力計ＣＢＶＰ－Ｚ型を用いて測定した値である。また、粘度は、東機産業（株）製回転粘度計を用いて測定した値である。
（Ａ）成分は、例えば、下記一般式（２－１）で表される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサン、または下記一般式（２－２）で表される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサンおよび下記一般式（２’）で表される環状ジメチルポリシロキサンの混合物と、下記一般式（３）で表されるジシロキサンとをブレンステッド酸の存在下で反応させることにより得ることができる。
（式中、Ｒ1は、上記のとおりである。ａ１およびｂ１は、それぞれ独立して１～７の整数を表し、かつ、ａ１＋ｂ１は、３～８の整数を表す。括弧内の各シロキサン単位の配列は、任意であってよい。）
（式中、ｃ１は、３～１０の整数を表す。）
（式中、Ｒ2、Ｒ3およびｍは、上記のとおりである。）
上記式中、ａ１およびｂ１は、それぞれ独立して、１～７の整数であり、好ましくは１～４、より好ましくは１～３の整数である。ａ１＋ｂ１は、３～８の整数であり、好ましくは３～７、より好ましくは３～５の整数である。ａ１＋ｂ１が３未満の環状シロキサンは、合成困難な場合があり、８を超えると、未反応の環状オルガノハイドロジェンポリシロキサンを除去し難くなる場合がある。
式（２－１）において、ｂ１／（ａ１＋ｂ１）の比率は、開環重合反応性および得られるポリシロキサンの表面張力の点から、０．２５～０．５が好ましい。
なお、式（２－１）における各シロキサン単位の配列は、任意であってよく、ランダム、ブロック、交互等のいずれでもよい。
ｃ１は、４～８の整数が好ましく、より好ましくは４～６の整数である。
式（２－１）において、ｂ１／（ａ１＋ｂ１）の比率は、開環重合反応性および得られるポリシロキサンの表面張力の点から、０．２５～０．５が好ましい。
なお、式（２－１）における各シロキサン単位の配列は、任意であってよく、ランダム、ブロック、交互等のいずれでもよい。
ｃ１は、４～８の整数が好ましく、より好ましくは４～６の整数である。
式（２－１）で表される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサンの具体例としては、例えば、２，４，６，８－テトラメチルシクロテトラシロキサン、２，２，４，６，６，８－ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチル－２－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチル－２，４－ジ－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチル－２，６－ジ－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチル－２，４，６－トリ－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。
これらの中でも、２，４，６，８－テトラメチル－２，４－ジ－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチル－２，６－ジ－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサンが好ましい。
これらの中でも、２，４，６，８－テトラメチル－２，４－ジ－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチル－２，６－ジ－ｎ－プロピルシクロテトラシロキサンが好ましい。
式（３）の化合物の具体例としては、例えば、
１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン、
１，３－ビス（メタクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン、
１，３－ビス（アクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン、
１，３－ビス（メタクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン
等が挙げられる。
１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン、
１，３－ビス（メタクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン、
１，３－ビス（アクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン、
１，３－ビス（メタクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン
等が挙げられる。
上記化合物の使用量は、得られる式（１）で表されるオルガノポリシロキサンにおけるａおよびｂの値が上記範囲となるように、原料である式（２－１）の化合物におけるａ１およびｂ１の数と、開環重合反応における式（２－１）および式（３）の化合物のモル比によって調節することができる。また、式（２－２）のａ１および式（２’）のｃ１の数と、開環重合反応における式（２－２），（２’）および（３）の化合物のモル比によって調節することができる。
ブレンステッド酸としては、濃塩酸、濃硫酸、濃硝酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ｐ－ニトロベンゼンスルホン酸、１，１，１－トリフルオロ－Ｎ－［（トリフルオロメチル）スルホニル］メタンスルホンアミド等が挙げられる。これらのうち、上記一般式（２－１）で表される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサン等と、上記一般式（３）で表されるジシロキサンとの相溶性の観点から、濃塩酸、濃硫酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸が好ましい。
ブレンステッド酸の添加量は、反応時間および中和工程を考慮すると、上記一般式（２－１）で表される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサンまたは一般式（２－２）および（２’）のシロキサンと、上記一般式（３）で表されるジシロキサンとの合計１００質量部に対して、０．０１～２質量部が好ましい。
本発明の（メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンの製造方法において、重合は無溶剤系で行っても、トルエンなどの有機溶剤を用いて行ってもよい。また、重合中のゲル化を防ぐために、ジｔ－ブチルヒドロキシトルエン等の酸化防止剤を添加してもよい。
重合は公知の条件を用いればよく、好ましくは５０～１００℃、１～２４時間の条件で行うことができる。
重合は公知の条件を用いればよく、好ましくは５０～１００℃、１～２４時間の条件で行うことができる。
［（Ｂ）成分］
本発明の（Ｂ）成分は、光重合開始剤である。光重合開始剤としては、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１）、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（Ｏｍｎｉｒａｄ １８４）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ １２７）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（Ｏｍｎｉｒａｄ ＭＢＦ）、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－１－ブタノン（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド（Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９）、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド（Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ）（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、これらの混合物等が挙げられる。
上記（Ｂ）成分のうち、（Ａ）成分との相溶性の観点から、好ましいのは、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンである。
本発明の（Ｂ）成分は、光重合開始剤である。光重合開始剤としては、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１）、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（Ｏｍｎｉｒａｄ １８４）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ １２７）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（Ｏｍｎｉｒａｄ ＭＢＦ）、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－１－ブタノン（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド（Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９）、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド（Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ）（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、これらの混合物等が挙げられる。
上記（Ｂ）成分のうち、（Ａ）成分との相溶性の観点から、好ましいのは、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンである。
光重合開始剤の添加量は、特に限定されないが、（Ａ）成分および後述する任意の（Ｄ）成分の合計１００質量部に対して、０．０１～２０質量部が好ましく、０．１～１０質量部がより好ましい。０．０１質量部未満であると、組成物の硬化性が不足する場合があり、２０質量部を超えると、硬化時の重量減少量が大きくなり、硬化後の機械特性が悪化する場合がある。
［（Ｃ）成分］
本発明の（Ｃ）成分は、前記の（Ａ）成分中の（メタ）アクリル基、および後述する（Ｄ）成分の（メタ）アクリル基、および（Ａ）成分中のヒドロシリル基との付加反応を促進するためのヒドロシリル化反応触媒であり、ヒドロシリル化反応に用いられる触媒として周知の触媒が挙げられる。その具体例としては、白金族金属系触媒が例示でき、例えば、白金（白金黒を含む。）、ロジウム、パラジウム等の白金族金属；Ｈ2ＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ、Ｈ2ＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、ＮａＨＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、ＫＨＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、Ｎａ2ＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、Ｋ2ＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ、ＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ、ＰｔＣｌ2、Ｎａ2ＨＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ（式中、ｎは好ましくは０～６の整数であり、より好ましくは０または６である。）等の塩化白金、塩化白金酸および塩化白金酸塩；アルコール変性塩化白金酸（米国特許第３，２２０，９７２号明細書参照）；塩化白金酸とオレフィンとの錯体（米国特許第３，１５９，６０１号明細書、同第３，１５９，６６２号明細書、同第３，７７５，４５２号明細書参照）；白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの；ロジウム－オレフィン錯体；クロロトリス（トリフェニルフォスフィン）ロジウム（ウィルキンソン触媒）；塩化白金、塩化白金酸または塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサン、特にビニル基含有環状シロキサンとの錯体などが挙げられる。
本発明の（Ｃ）成分は、前記の（Ａ）成分中の（メタ）アクリル基、および後述する（Ｄ）成分の（メタ）アクリル基、および（Ａ）成分中のヒドロシリル基との付加反応を促進するためのヒドロシリル化反応触媒であり、ヒドロシリル化反応に用いられる触媒として周知の触媒が挙げられる。その具体例としては、白金族金属系触媒が例示でき、例えば、白金（白金黒を含む。）、ロジウム、パラジウム等の白金族金属；Ｈ2ＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ、Ｈ2ＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、ＮａＨＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、ＫＨＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、Ｎａ2ＰｔＣｌ6・ｎＨ2Ｏ、Ｋ2ＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ、ＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ、ＰｔＣｌ2、Ｎａ2ＨＰｔＣｌ4・ｎＨ2Ｏ（式中、ｎは好ましくは０～６の整数であり、より好ましくは０または６である。）等の塩化白金、塩化白金酸および塩化白金酸塩；アルコール変性塩化白金酸（米国特許第３，２２０，９７２号明細書参照）；塩化白金酸とオレフィンとの錯体（米国特許第３，１５９，６０１号明細書、同第３，１５９，６６２号明細書、同第３，７７５，４５２号明細書参照）；白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの；ロジウム－オレフィン錯体；クロロトリス（トリフェニルフォスフィン）ロジウム（ウィルキンソン触媒）；塩化白金、塩化白金酸または塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサン、特にビニル基含有環状シロキサンとの錯体などが挙げられる。
ヒドロシリル化反応触媒の添加量は、本組成物の硬化（ヒドロシリル化反応）を促進する量であれば限定されず、（Ａ）成分および後述する任意の（Ｄ）成分の合計１００質量部に対して、０．０１～２０質量部が好ましく、０．１～１０質量部がより好ましい（特に、本成分中の白金族金属原子が質量換算で０．０１～５００ｐｐｍとなる量が好ましく、より好ましくは０．０５～１００ｐｐｍ、更に好ましくは０．０１～５０ｐｐｍとなる量である。）。０．０１質量部未満であると、組成物の硬化性が不足する場合があり、２０質量部を超えると、保存性が悪化して硬化性組成物の増粘が起こる場合がある。
［（Ｄ）成分］
（Ｄ）成分は、シロキサン構造を含まない単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であり、反応性希釈剤または表面張力向上剤として（Ａ）成分と混合して使用することができる。
（Ｄ）成分は、シロキサン構造を含まない単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であり、反応性希釈剤または表面張力向上剤として（Ａ）成分と混合して使用することができる。
シロキサン構造を含まない単官能（メタ）アクリレート化合物としては、イソアミルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、エトキシ－ジエチレングリコールアクリレート、メトキシ－トリエチレングリコールアクリレート、２－エチルヘキシル－ジグリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、これらの混合物等が挙げられ、特にイソボルニルアクリレートが好ましい。
シロキサン構造を含まない多官能（メタ）アクリレート化合物としては、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート、トリメチロルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、これらの混合物等が挙げられ、特にジメチロール－トリシクロデカンジアクリレートが好ましい。
（Ｄ）成分の（メタ）アクリレート化合物は、１種類を用いても２種以上の複数種類を併用してもよく、（Ｄ）成分を使用する場合の添加量は、組成物の粘度、表面張力、および硬化収縮の観点から、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１～１００質量部が好ましく、より好ましくは５～１００質量部であり、更に好ましくは１０～５０質量部である。
［その他の成分］
本発明の硬化性組成物は、（Ａ）～（Ｃ）成分および必要により加える（Ｄ）成分以外にも、本発明の目的を損なわない限り、以下に例示するその他の成分を含有していてもよい。
本発明の硬化性組成物は、付加硬化反応を抑制・制御する効果を有する化合物（ヒドロシリル化反応制御剤）を含有することができる。このような化合物としては、従来公知のものを用いることができる。その具体例としては、トリフェニルホスフィン等のリン含有化合物；トリブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾール等の窒素原子を含有する化合物；硫黄原子を含有する化合物；アセチレンアルコール類等のアセチレン系化合物；ハイドロパーオキシ化合物；マレイン酸誘導体等が挙げられる。
その他の成分としては、付加硬化性を増強するためのヒドロシリル基を有する架橋剤、シランカップリング剤等の基材への接着性付与剤、酸化防止剤および光安定剤；金属酸化物、金属水酸化物等の耐熱向上剤、着色のための染料等などが挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、（Ａ）～（Ｃ）成分および必要により加える（Ｄ）成分以外にも、本発明の目的を損なわない限り、以下に例示するその他の成分を含有していてもよい。
本発明の硬化性組成物は、付加硬化反応を抑制・制御する効果を有する化合物（ヒドロシリル化反応制御剤）を含有することができる。このような化合物としては、従来公知のものを用いることができる。その具体例としては、トリフェニルホスフィン等のリン含有化合物；トリブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾール等の窒素原子を含有する化合物；硫黄原子を含有する化合物；アセチレンアルコール類等のアセチレン系化合物；ハイドロパーオキシ化合物；マレイン酸誘導体等が挙げられる。
その他の成分としては、付加硬化性を増強するためのヒドロシリル基を有する架橋剤、シランカップリング剤等の基材への接着性付与剤、酸化防止剤および光安定剤；金属酸化物、金属水酸化物等の耐熱向上剤、着色のための染料等などが挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分、必要に応じて（Ｄ）成分およびその他の成分を常法により撹拌、混合等することにより得ることができる。撹拌等の操作に用いる装置は、特に限定されないが、擂潰機、３本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。また、これらの装置を適宜組み合わせてもよい。
本発明の硬化性組成物において、インクジェット吐出が可能な目安としては、組成物の２３℃における表面張力が、２３～３０ｍＮ／ｍであり、２３～２８ｍＮ／ｍが好ましく、２３℃における粘度が、５～８０ｍＰａ・ｓであり、好ましくは８～７０ｍＰａ・ｓである。これらの範囲内であれば、安定したインクジェット吐出を行うことができ、本発明の組成物は、インクジェット用インクとして好適に使用できる。なお、組成物の粘度の測定方法は、後述するとおりである。
本発明の硬化性組成物の硬化条件は、例えば、２５℃で１～２４時間とすることができるが、硬化を促進するために４０～１２０℃に加熱することも可能である。
また、本発明の硬化性組成物を紫外線により硬化させる場合、照射する紫外線の光源としては、例えば、ＵＶＬＥＤランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアークランプ、およびキセノンランプ等が挙げられる。紫外線の照射量（積算光量）は、例えば、本発明の組成物を２．０ｍｍ程度の厚みに成形したシートに対して、好ましくは１～５，０００ｍＪ／ｃｍ2であり、より好ましくは１０～４，０００ｍＪ／ｃｍ2である。つまり、照度１００ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を用いた場合、０．０１～５０秒程度の紫外線を照射すればよい。
また、これらの硬化方法を組み合わせてもよく、例えば、紫外線照射後に加熱によるポストキュアを行って硬化を更に進めることが可能である。
また、本発明の硬化性組成物を紫外線により硬化させる場合、照射する紫外線の光源としては、例えば、ＵＶＬＥＤランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアークランプ、およびキセノンランプ等が挙げられる。紫外線の照射量（積算光量）は、例えば、本発明の組成物を２．０ｍｍ程度の厚みに成形したシートに対して、好ましくは１～５，０００ｍＪ／ｃｍ2であり、より好ましくは１０～４，０００ｍＪ／ｃｍ2である。つまり、照度１００ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を用いた場合、０．０１～５０秒程度の紫外線を照射すればよい。
また、これらの硬化方法を組み合わせてもよく、例えば、紫外線照射後に加熱によるポストキュアを行って硬化を更に進めることが可能である。
本発明の硬化性組成物は、各種基材に適用し、コーティングや接着剤としても用いることができる。基材としては、複合材料、金属部材、プラスチック部材もしくはセラミック部材、電気用途、電子用途、光学用途などのケーシングあるいは部材の被覆、接着および封止の分野で使用されるものが使用可能である。
以下、合成例、比較合成例、実施例および比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。なお、下記の例で、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるＭｎ、Ｍｗは、東ソー（株）製ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣを用いた標準ポリスチレン換算値である。1Ｈ－ＮＭＲは、日本電子（株）製核磁気共鳴装置を用いて測定した。また、下記式中、Ｍｅは、メチル基を表し、ｎ－Ｐｒは、ｎ－プロピル基を表す。
［合成例１］
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、下記式（４）で示される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサン６４９．４ｇ、１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン３０２．５ｇ、ジｔ－ブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸２．６ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を３０ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（５）で示されるポリシロキサンを６７４ｇ（収率７０．８％）得た。
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、下記式（４）で示される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサン６４９．４ｇ、１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン３０２．５ｇ、ジｔ－ブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸２．６ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を３０ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（５）で示されるポリシロキサンを６７４ｇ（収率７０．８％）得た。
ＧＰＣおよび1Ｈ－ＮＭＲの結果を下記に示す。
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ １０６４／１５８０
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．３７ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（６．１２ｐｐｍ，ｄｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（５．７９ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（４．６９ｐｐｍ，ｓ，４Ｈ，Ｓｉ－Ｈ）（３．８２ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2－Ｓｉ）（１．４０ｐｐｍ，ｍ，８Ｈ ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．９５ｐｐｍ，ｍ，１２Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．５５ｐｐｍ，ｍ，８Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．２０－０．０４ｐｐｍ，ｍ，３６Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
（式中、括弧が付された各シロキサン単位の配列は、ランダム、交互、またはブロックである。）
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ １０６４／１５８０
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．３７ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（６．１２ｐｐｍ，ｄｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（５．７９ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（４．６９ｐｐｍ，ｓ，４Ｈ，Ｓｉ－Ｈ）（３．８２ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2－Ｓｉ）（１．４０ｐｐｍ，ｍ，８Ｈ ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．９５ｐｐｍ，ｍ，１２Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．５５ｐｐｍ，ｍ，８Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．２０－０．０４ｐｐｍ，ｍ，３６Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
［合成例２］
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、上記式（４）で示される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサン６４９．４ｇ、１，３－ビス（メタクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン１５４．６ｇ、ジｔ－ブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸０．８ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に８時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を１０ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間、未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（６）で示されるポリシロキサンを７０４．６ｇ（収率８７．６％）得た。
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、上記式（４）で示される環状オルガノハイドロジェンポリシロキサン６４９．４ｇ、１，３－ビス（メタクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン１５４．６ｇ、ジｔ－ブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸０．８ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に８時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を１０ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間、未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（６）で示されるポリシロキサンを７０４．６ｇ（収率８７．６％）得た。
ＧＰＣおよび1Ｈ－ＮＭＲの結果を下記に示す。
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ １６６６／３０４２
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．１０ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（５．５４ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（４．７０ｐｐｍ，ｓ，９Ｈ，Ｓｉ－Ｈ）（４．１０ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2－Ｓｉ）（１．９４ｐｐｍ，ｓ，６Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（１．７２－１．６９ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2，ＣＨ2ＣＨ2－Ｓｉ）（１．４０ｐｐｍ，ｍ，１８Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．９５ｐｐｍ，ｍ，２７Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．５５ｐｐｍ，ｍ，２２Ｈ，Ｏ－ＣＨ2，ＣＨ2ＣＨ2－Ｓｉ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．２０－０．０４ｐｐｍ，ｍ，６６Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
（式中、括弧が付された各シロキサン単位の配列は、ランダム、交互、またはブロックである。）
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ １６６６／３０４２
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．１０ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（５．５４ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（４．７０ｐｐｍ，ｓ，９Ｈ，Ｓｉ－Ｈ）（４．１０ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2－Ｓｉ）（１．９４ｐｐｍ，ｓ，６Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（１．７２－１．６９ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2，ＣＨ2ＣＨ2－Ｓｉ）（１．４０ｐｐｍ，ｍ，１８Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．９５ｐｐｍ，ｍ，２７Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．５５ｐｐｍ，ｍ，２２Ｈ，Ｏ－ＣＨ2，ＣＨ2ＣＨ2－Ｓｉ，ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2）（０．２０－０．０４ｐｐｍ，ｍ，６６Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
［合成例３］
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン３０．２５ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキサン４４４．９ｇ、２，４，６，８－テトラメチルシクロテトラシロキサン３６０．８ｇ、ジｔ－ブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸０．３ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を４ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（７）で示されるポリシロキサンを６７８．８ｇ（収率８１．１％）得た。
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン３０．２５ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキサン４４４．９ｇ、２，４，６，８－テトラメチルシクロテトラシロキサン３６０．８ｇ、ジｔ－ブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸０．３ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を４ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（７）で示されるポリシロキサンを６７８．８ｇ（収率８１．１％）得た。
ＧＰＣおよび1Ｈ－ＮＭＲの結果を下記に示す。
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ ９１３３／１５４５６
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．３８ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（６．１３ｐｐｍ，ｄｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（５．７９ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（４．６９ｐｐｍ，ｍ，６０Ｈ，Ｓｉ－Ｈ）（３．８３ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2－Ｓｉ）（０．４０－０．２０ｐｐｍ，ｍ，５２８Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
（式中、括弧が付された各シロキサン単位の配列は、ランダム、交互、またはブロックである。）
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ ９１３３／１５４５６
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．３８ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（６．１３ｐｐｍ，ｄｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（５．７９ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（４．６９ｐｐｍ，ｍ，６０Ｈ，Ｓｉ－Ｈ）（３．８３ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2－Ｓｉ）（０．４０－０．２０ｐｐｍ，ｍ，５２８Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
［比較合成例１］
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン８００．６ｇ、１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン７５．８ｇ、ジブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸１．３ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を４ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間、未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（８）で示されるポリシロキサンを７２５．６ｇ（収率８２．８％）得た。
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン８００．６ｇ、１，３－ビス（アクリロイルオキシメチル）テトラメチルジシロキサン７５．８ｇ、ジブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸１．３ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を４ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間、未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（８）で示されるポリシロキサンを７２５．６ｇ（収率８２．８％）得た。
ＧＰＣおよび1Ｈ－ＮＭＲの結果を下記に示す。
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ ３６７０／６７０１
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．３８ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（６．１２ｐｐｍ，ｄｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（５．７９ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（３．８２ｐｐｍ，ｓ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ 2 －Ｓｉ）（０．３０－０．０８ｐｐｍ，ｍ，２６４Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ ３６７０／６７０１
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．３８ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（６．１２ｐｐｍ，ｄｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（５．７９ｐｐｍ，ｄ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ）（３．８２ｐｐｍ，ｓ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ 2 －Ｓｉ）（０．３０－０．０８ｐｐｍ，ｍ，２６４Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
［比較合成例２］
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン６９０．１ｇ、１，３－ビス（メタクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン１８０ｇ、ジブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸１．３ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を４ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間、未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（９）で示されるポリシロキサンを６９６ｇ（収率８０％）得た。
蛇管冷却器、温度計を備えた１Ｌの四つ口セパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン６９０．１ｇ、１，３－ビス（メタクリロイルオキシプロピル）テトラメチルジシロキサン１８０ｇ、ジブチルヒドロキシトルエン０．４ｇ、およびトリフルオロメタンスルホン酸１．３ｇを入れ、撹拌しながら油浴にて昇温した。内温が８０～９０℃に達してから、更に６時間撹拌を続けた。撹拌を止めて２５℃になるまで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸を中和するべく、キョーワード５００（協和化学工業（株）製）を４ｇ加え、２５℃にて８時間撹拌を行った。その後、空気のバブリングを行いながら、内温１４０℃／１０ｍｍＨｇで２４時間、未反応物を留去させることで除去した。２５℃になるまで冷却した後、濾過を行って固形物を取り除き、下記式（９）で示されるポリシロキサンを６９６ｇ（収率８０％）得た。
ＧＰＣおよび1Ｈ－ＮＭＲの結果を下記に示す。
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ ２１００／３８３４
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．１０ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ 3 ）（５．５４ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ 3 ）（４．１０ｐｐｍ，ｔ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2ＣＨ2）（１．９５ｐｐｍ，ｓ，６Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（１．７２－１．６８ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，ＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2）（０．５９－０．５５ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，ＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2）（０．１８－０．５ｐｐｍ，ｍ，１３２Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
ＧＰＣ：Ｍｎ／Ｍｗ ２１００／３８３４
1Ｈ－ＮＭＲ：（６．１０ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ 3 ）（５．５４ｐｐｍ，ｓ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ 3 ）（４．１０ｐｐｍ，ｔ，４Ｈ，Ｏ－ＣＨ2ＣＨ2）（１．９５ｐｐｍ，ｓ，６Ｈ，ＣＨ2＝ＣＣＨ3）（１．７２－１．６８ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，ＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2）（０．５９－０．５５ｐｐｍ，ｍ，４Ｈ，ＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2）（０．１８－０．５ｐｐｍ，ｍ，１３２Ｈ，ＣＨ3－Ｓｉ）
［実施例１～４、比較例１～６］
下記表１に示す組成で常法に従い硬化性組成物を調製した。
実施例および比較例にて使用した各成分は、下記のとおりである。式（５）～（７）および（１０）において、括弧が付された各シロキサン単位の配列は、ランダム、交互またはブロックである。
（Ａ）成分
（Ａ－１）：下記平均式（５）で表されるオルガノポリシロキサン（合成例１）
（Ａ－２）：下記平均式（６）で表されるオルガノポリシロキサン（合成例２）
（Ａ－３）：下記平均式（７）で表されるオルガノポリシロキサン（合成例３）
（Ａ－４）：下記平均式（８）で表されるオルガノポリシロキサン（比較合成例１）
（Ａ－５）：下記平均式（９）で表されるオルガノポリシロキサン（比較合成例２）
下記表１に示す組成で常法に従い硬化性組成物を調製した。
実施例および比較例にて使用した各成分は、下記のとおりである。式（５）～（７）および（１０）において、括弧が付された各シロキサン単位の配列は、ランダム、交互またはブロックである。
（Ａ）成分
（Ａ－１）：下記平均式（５）で表されるオルガノポリシロキサン（合成例１）
（Ｂ）成分
２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）
２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）
（Ｃ）成分
白金１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のジメチルシロキサン溶液（白金含有量１．０質量％）
白金１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のジメチルシロキサン溶液（白金含有量１．０質量％）
（Ｄ）成分
イソボルニルアクリレート（ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ、共栄社化学製）
イソボルニルアクリレート（ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ、共栄社化学製）
（Ｅ）成分
下記平均式（１０）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
下記平均式（１０）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
得られた硬化性組成物について下記方法により評価した。結果を表１に示す。
〔粘度〕
粘度は、東機産業（株）製回転粘度計を用いて２３℃で測定した。
〔表面張力〕
表面張力は、協和界面科学（株）製自動表面張力計ＣＢＶＰ－Ｚ型を用いて２３℃で測定した。
〔インクジェット吐出性〕
インクジェット吐出性は、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製液滴観察装置ＤＭＰ－２８３１（ＤＭＰ－２８３１専用マテリアルカートリッジＤＭＣ－１１６１０）を用いて、周波数１０ｋＨｚ、ヘッド温度２３℃、ノズル径８０μｍの吐出条件で吐出状態をカメラで撮影することにより評価した。
８～３０ｐＬ／滴以上の液滴が吐出され、更に、液滴の捩れや飛沫の存在、およびヘッド部の汚れなどの不良がない場合は○とし、上記状態に該当しなかった場合は×とした。
〔ラジカル硬化性〕
ラジカル硬化性は、アルミシャーレに液状の硬化性組成物を０．５ｇ秤量し、厚み約３００μｍとなる液膜とした後、ピーク波長３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤランプを用い、３６５ｎｍ光を指標として、２３℃で、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ2および線量３，０００ｍＪ／ｃｍ2となるように窒素雰囲気下にて各組成物に紫外線を照射し、照射完了直後に指触検査を行うことで評価した。
組成物が指に付着しなければ〇、付着すれば×とした。
〔付加硬化性〕
付加硬化性は、アルミシャーレに液状の硬化性組成物を０．５ｇ秤量し、厚み約３００μｍの液膜とした後、１２０℃に６０分間処した後に指触検査を行うことで評価した。
組成物が指に付着しなければ〇、付着すれば×とした。
〔粘度〕
粘度は、東機産業（株）製回転粘度計を用いて２３℃で測定した。
〔表面張力〕
表面張力は、協和界面科学（株）製自動表面張力計ＣＢＶＰ－Ｚ型を用いて２３℃で測定した。
〔インクジェット吐出性〕
インクジェット吐出性は、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製液滴観察装置ＤＭＰ－２８３１（ＤＭＰ－２８３１専用マテリアルカートリッジＤＭＣ－１１６１０）を用いて、周波数１０ｋＨｚ、ヘッド温度２３℃、ノズル径８０μｍの吐出条件で吐出状態をカメラで撮影することにより評価した。
８～３０ｐＬ／滴以上の液滴が吐出され、更に、液滴の捩れや飛沫の存在、およびヘッド部の汚れなどの不良がない場合は○とし、上記状態に該当しなかった場合は×とした。
〔ラジカル硬化性〕
ラジカル硬化性は、アルミシャーレに液状の硬化性組成物を０．５ｇ秤量し、厚み約３００μｍとなる液膜とした後、ピーク波長３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤランプを用い、３６５ｎｍ光を指標として、２３℃で、照射強度１００ｍＷ／ｃｍ2および線量３，０００ｍＪ／ｃｍ2となるように窒素雰囲気下にて各組成物に紫外線を照射し、照射完了直後に指触検査を行うことで評価した。
組成物が指に付着しなければ〇、付着すれば×とした。
〔付加硬化性〕
付加硬化性は、アルミシャーレに液状の硬化性組成物を０．５ｇ秤量し、厚み約３００μｍの液膜とした後、１２０℃に６０分間処した後に指触検査を行うことで評価した。
組成物が指に付着しなければ〇、付着すれば×とした。
表１に示されるように、実施例１～４の硬化性組成物は、インクジェット吐出性が良好であり、ラジカル硬化および付加硬化の両方が可能であった。
一方、粘度および／または表面張力が本発明の範囲を満たさない比較例１，２，６では、インクジェット吐出性に劣る結果となった。
また、本発明の（Ａ）成分に代えて、Ｓｉ－Ｈ基を有しない（メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンを用いた比較例３では、付加硬化性を示さなかった。
更に、本発明の（Ａ）成分に代えて、Ｓｉ－Ｈ基を有しない（メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンと、（メタ）アクリル官能性基を有しないオルガノハイドロジェンポリシロキサンとを併用した比較例２、４～６では、ラジカル硬化性に劣っていた。
一方、粘度および／または表面張力が本発明の範囲を満たさない比較例１，２，６では、インクジェット吐出性に劣る結果となった。
また、本発明の（Ａ）成分に代えて、Ｓｉ－Ｈ基を有しない（メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンを用いた比較例３では、付加硬化性を示さなかった。
更に、本発明の（Ａ）成分に代えて、Ｓｉ－Ｈ基を有しない（メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンと、（メタ）アクリル官能性基を有しないオルガノハイドロジェンポリシロキサンとを併用した比較例２、４～６では、ラジカル硬化性に劣っていた。
Claims (3)
- （Ａ）下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）光重合開始剤、および、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒
を含み、２３℃における表面張力が２３～３０ｍＮ／ｍであり、２３℃における粘度が５～８０ｍＰａ・ｓである硬化性組成物からなるインクジェット用インク。 - 硬化性組成物が、更に、（Ｄ）シロキサン構造を有しない（メタ）アクリレート化合物を（Ａ）成分１００質量部に対して５～１００質量部含む請求項１記載のインクジェット用インク。
- （Ｄ）成分が、イソボルニルアクリレートである請求項２記載のインクジェット用インク。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020002910 | 2020-01-10 | ||
| JP2020002910 | 2020-01-10 | ||
| PCT/JP2020/047127 WO2021140862A1 (ja) | 2020-01-10 | 2020-12-17 | 硬化性組成物およびインクジェット用インク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2021140862A1 JPWO2021140862A1 (ja) | 2021-07-15 |
| JP7484937B2 true JP7484937B2 (ja) | 2024-05-16 |
Family
ID=76787942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021569799A Active JP7484937B2 (ja) | 2020-01-10 | 2020-12-17 | インクジェット用インク |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230049921A1 (ja) |
| EP (1) | EP4089147A4 (ja) |
| JP (1) | JP7484937B2 (ja) |
| WO (1) | WO2021140862A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7290115B2 (ja) * | 2020-01-10 | 2023-06-13 | 信越化学工業株式会社 | （メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンの製造方法、硬化性組成物およびインクジェット用インク |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003238808A (ja) | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および接着性シリコーンエラストマーフィルム |
| JP2005023291A (ja) | 2002-12-11 | 2005-01-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物、該組成物からなる接着性シリコーンエラストマーフィルム、並びに該組成物を用いる構造体およびその製造方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3159662A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Addition reaction |
| US3159601A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Platinum-olefin complex catalyzed addition of hydrogen- and alkenyl-substituted siloxanes |
| US3220972A (en) | 1962-07-02 | 1965-11-30 | Gen Electric | Organosilicon process using a chloroplatinic acid reaction product as the catalyst |
| US3775452A (en) | 1971-04-28 | 1973-11-27 | Gen Electric | Platinum complexes of unsaturated siloxanes and platinum containing organopolysiloxanes |
| CA1256239A (en) * | 1984-09-28 | 1989-06-20 | Richard P. Eckberg | Dual cure silicone compositions |
| JPH09286971A (ja) * | 1996-04-19 | 1997-11-04 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | シリコーン系ダイボンディング剤、半導体装置の製造方法および半導体装置 |
| JP3950493B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2007-08-01 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 導電性シリコーンゴム組成物、半導体装置の製造方法およびその半導体装置 |
| US7241823B2 (en) * | 2002-12-11 | 2007-07-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Radiation curing silicone rubber composition, adhesive silicone elastomer film formed from same, semiconductor device using same, and method of producing semiconductor device |
| CN109415472B (zh) | 2016-06-30 | 2021-03-12 | 信越化学工业株式会社 | 紫外线固化性硅酮组合物及其固化物 |
-
2020
- 2020-12-17 JP JP2021569799A patent/JP7484937B2/ja active Active
- 2020-12-17 US US17/789,819 patent/US20230049921A1/en active Pending
- 2020-12-17 WO PCT/JP2020/047127 patent/WO2021140862A1/ja unknown
- 2020-12-17 EP EP20912936.0A patent/EP4089147A4/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003238808A (ja) | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および接着性シリコーンエラストマーフィルム |
| JP2005023291A (ja) | 2002-12-11 | 2005-01-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物、該組成物からなる接着性シリコーンエラストマーフィルム、並びに該組成物を用いる構造体およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20230049921A1 (en) | 2023-02-16 |
| EP4089147A4 (en) | 2024-01-24 |
| JPWO2021140862A1 (ja) | 2021-07-15 |
| WO2021140862A1 (ja) | 2021-07-15 |
| EP4089147A1 (en) | 2022-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6687111B2 (ja) | 紫外線硬化性シリコーン組成物及びその硬化物 | |
| US9593209B2 (en) | Process for preparing clustered functional polyorganosiloxanes, and methods for their use | |
| JP3704169B2 (ja) | アクリレート基を用いて変性されたオルガノポリシロキサンおよび該オルガノポリシロキサンからなる硬化可能な結合剤および被覆材料 | |
| JP7549594B2 (ja) | ポリ（メタ）アクリレート基を有するポリオルガノシロキサンならびにそれを調製および使用するための方法 | |
| JP6763139B2 (ja) | 無溶剤型シリコーン変性ポリイミド樹脂組成物 | |
| JP7202253B2 (ja) | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート | |
| TWI787364B (zh) | 含有(甲基)丙烯醯基的有機聚矽氧烷的製造方法、放射線硬化性有機聚矽氧烷組成物及剝離片 | |
| JP7484937B2 (ja) | インクジェット用インク | |
| JP3615070B2 (ja) | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物 | |
| TWI798489B (zh) | 紫外線固化性矽酮組合物及其固化物 | |
| JP7290115B2 (ja) | （メタ）アクリル官能性オルガノポリシロキサンの製造方法、硬化性組成物およびインクジェット用インク | |
| JP3894873B2 (ja) | 紫外線硬化型オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JP4805229B2 (ja) | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物で封止又はコーティングされた電子部品 | |
| JPH10251356A (ja) | 光硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| TWI841525B (zh) | 剝離性放射線硬化性聚矽氧組成物及剝離薄片 | |
| JP4044011B2 (ja) | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物 | |
| JP2545867B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JP7231788B2 (ja) | 急速空気硬化用オルガノポリシロキサンクラスターポリマー | |
| JP7414642B2 (ja) | 剥離シート用光硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート | |
| JP2778403B2 (ja) | （メタ）アクリル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| CN118900894A (zh) | 紫外线固化性有机硅组合物 | |
| JP2021080372A (ja) | 紫外線硬化型ポリオルガノシロキサン組成物及びその硬化物を有する電気・電子機器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220628 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230404 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230530 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230822 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230828 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231121 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240119 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240402 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240415 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7484937 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |