JP7472258B2 - 光検出素子およびイメージセンサ - Google Patents

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Description

本発明は、半導体量子ドットを含む光電変換層を有する光検出素子、および、イメージセンサに関する。
近年、スマートフォンや監視カメラ、車載カメラ等の領域において、赤外領域の光を検出可能な光検出素子に注目が集まっている。
従来より、イメージセンサなどに用いられる光検出素子には、光電変換層の素材としてシリコンウエハを用いたシリコンフォトダイオードが使用されている。しかしながら、シリコンフォトダイオードでは、波長900nm以上の赤外領域では感度が低い。
また、近赤外光の受光素子として知られるInGaAs系の半導体材料は、高い量子効率を実現するためにはエピタキシャル成長が必要であるなど、非常に高コストなプロセスを必要としていることが課題であり、普及が進んでいない。
また、近年では、半導体量子ドットについての研究が進められている。非特許文献1には、カソード電極として酸化インジウムスズ、電子輸送層としてZnO、光電変換層としてPbS量子ドット、正孔輸送層として1,1-ビス[(ジ-4-トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン、正孔注入層としてMoO、アノード電極としてAgを用いたフォトダイオードが記載されている。
Jae Woong Lee 、 Do Young Kim and Franky So、「Unraveling the Gain Mechanism in High Performance Solution-Processed PbS Infrared PIN Photodiodes」、Advanced Functional Materials 25、1233-1238(2015)
近年、イメージセンサなどの性能向上の要求に伴い、これらに使用される光検出素子に求められる諸特性に関してもさらなる向上が求められている。例えば、光検出素子の暗電流をより一層低減することが求められている。光検出素子の暗電流を低減することにより、イメージセンサにおいては、より高い信号ノイズ比(SN比)を得ることができる。
本発明者の検討によれば、半導体量子ドットを用いて形成した光電変換層を有する光検出素子については、暗電流が比較的高い傾向にあり、暗電流低減の余地があることが分かった。
また、本発明者が非特許文献1に記載されたフォトダイオードについて検討を進めたところ、暗電流が高いことが分かった。なお、暗電流とは光非照射時に流れる電流のことである。
よって、本発明の目的は、外部量子効率が高く、暗電流の低減された光検出素子およびイメージセンサを提供することにある。
本発明者が半導体量子ドットを含む光電変換層を有する光検出素子について鋭意検討を行ったところ、光電変換層として金属原子を含む半導体量子ドットの集合体および半導体量子ドットに配位する配位子を含むものを用いるとともに、光電変換層上に有機半導体材料を含む正孔輸送層を積層し、正孔輸送層側の電極として、Au、Pt、Ir、Pd、Cu、Pb、Sn、Zn、Ti、W、Mo、Ta、Ge、Ni、CrおよびInから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されているものを用いることにより、外部量子効率が高く、暗電流の低減された光検出素子とすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
<1> 第1の電極層と、
第2の電極層と、
第1の電極層と第2の電極層との間に設けられた光電変換層と、
上記第1の電極層と上記光電変換層との間に設けられた電子輸送層と、
上記光電変換層と上記第2の電極層との間に設けられた正孔輸送層と、を有し、
上記光電変換層は、金属原子を含む半導体量子ドットの集合体および上記半導体量子ドットに配位する配位子を含み、
上記正孔輸送層は、有機半導体を含み、
上記第2の電極層は、Au、Pt、Ir、Pd、Cu、Pb、Sn、Zn、Ti、W、Mo、Ta、Ge、Ni、CrおよびInから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されている、光検出素子。
<2> 上記第2の電極層において、Ag原子の含有量が98質量%以下である、<1>に記載の光検出素子。
<3> 上記第2の電極層は、Au、Pd、IrおよびPtから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されている、<1>または<2>に記載の光検出素子。
<4> 上記第2の電極層の仕事関数が4.6eV以上である、<1>~<3>のいずれか1つに記載の光検出素子。
<5> 上記正孔輸送層が含む有機半導体は、下記式1-1~式1-6のいずれかで表される化合物である、<1>~<4>のいずれか1つに記載の光検出素子;
式1-1中、Ar~Arはそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-2中、Arは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を含む2価の連結基を表し、Ar~Arはそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-3中、Ar~Ar15はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-4中、Ar16~Ar24はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、n1は0~10の整数を表す;
式1-5中、Ar25~Ar33はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-6中、Ar34~Ar42は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
<6> 上記式1-1のAr~Arの少なくとも一つは電子供与性基を有し、
上記式1-2のAr~Arの少なくとも一つは電子供与性基を有し、
上記式1-3のAr~Ar15の少なくとも一つは電子供与性基を有し、
上記式1-4のAr16~Ar24の少なくとも一つは電子供与性基を有し、
上記式1-5のAr25~Ar33の少なくとも一つは電子供与性基を有し、
上記式1-6のAr34~Ar42の少なくとも一つは電子供与性基を有する、<5>に記載の光検出素子。
<7> 上記電子供与性基がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基またはシリル基である、<6>に記載の光検出素子。
<8> 上記正孔輸送層が含む有機半導体は、下記式3-1または式3-2で表される化合物である、<1>~<7>のいずれか1つに記載の光検出素子;
式3-1中、Ar43~Ar46は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族複素環基、式3-aで表される基または式3-bで表される基を表し、
およびRはそれぞれ独立して置換基を表し、
m4およびm5はそれぞれ独立して0~4の数を表し、
およびlはそれぞれ独立して1または2を表し、
Lは単結合または2価の連結基を表す;
式3-2中、Ar47~Ar52は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族複素環基、式3-aで表される基または式3-bで表される基を表し、
~Rはそれぞれ独立して置換基を表し、
m6~m8はそれぞれ独立して0~4の数を表す;
式3-a中、R~Rはそれぞれ水素原子または置換基を表し、lは0または1を表し、*は連結手を表す;
式3-b中、R~Rはそれぞれ水素原子または置換基を表し、lは0または1を表し、*は連結手を表す。
<9> 式3-1のAr43~Ar46の少なくとも一つは電子供与性基を有し、
式3-2のAr47~Ar52の少なくとも一つは電子供与性基を有する、<8>に記載の光検出素子。
<10> 上記半導体量子ドットはPb原子を含む、<1>~<9>のいずれか1つに記載の光検出素子。
<11> 上記半導体量子ドットはPbSを含む、<1>~<10>のいずれか1つに記載の光検出素子。
<12> 上記配位子は、ハロゲン原子を含む配位子および配位部を2以上含む多座配位子から選ばれる少なくとも1種を含む、<1>~<11>のいずれか1つに記載の光検出素子。
<13> 上記ハロゲン原子を含む配位子が無機ハロゲン化物である、<12>に記載の光検出素子。
<14> 上記無機ハロゲン化物はZn原子を含む、<13>に記載の光検出素子。
<15> フォトダイオード型の光検出素子である、<1>~<14>のいずれか1つに記載の光検出素子。
<16> <1>~<15>のいずれか1つに記載の光検出素子を含むイメージセンサ。
<17> 赤外線イメージセンサである、<16>に記載のイメージセンサ。
本発明によれば、外部量子効率が高く、暗電流の低減された光検出素子およびイメージセンサを提供することができる。
光検出素子の一実施形態を示す図である。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書において、「~」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
<光検出素子>
本発明の光検出素子は、
第1の電極層と、
第2の電極層と、
第1の電極層と第2の電極層との間に設けられた光電変換層と、
第1の電極層と光電変換層との間に設けられた電子輸送層と、
光電変換層と第2の電極層との間に設けられた正孔輸送層と、を有し、
光電変換層は、金属原子を含む半導体量子ドットの集合体および半導体量子ドットに配位する配位子を含み、
正孔輸送層は、有機半導体を含み、
第2の電極層は、Au、Pt、Ir、Pd、Cu、Pb、Sn、Zn、Ti、W、Mo、Ta、Ge、Ni、CrおよびInから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されていることを特徴とする。
本発明によれば、外部量子効率が高く、暗電流の低い光検出素子とすることができる。
光電変換層における半導体量子ドットとしてPb原子を含む半導体量子ドットを用いた場合、光電変換層は、2価のPb原子の個数に対する1価以下のPb原子の個数の比(1価以下のPb原子の個数/2価のPb原子の個数)が0.20以下であることが好ましく、0.10以下であることがより好ましく、0.05以下であることが更に好ましい。この態様によれば、より一層暗電流の低減された光検出素子とすることができる。
このような効果が得られる詳細な理由は不明であるが、以下によるものであると推測される。2価のPb原子としては、配位子と結合(配位)しているPb原子、カルコゲン原子と結合しているPb原子、ハロゲン原子と結合しているPb原子などが挙げられる。1価以下のPb原子としては、金属的なPb原子、ダングリングボンドのPb原子などが挙げられる。ここで、光電変換層中の自由電子量は、暗電流と相関していると考えられ、自由電子量を低減することにより暗電流を低下させることができると推測される。光電変換層中において1価以下のPb原子は、電子のドナーの役割を果たしていると考えられ、1価以下のPb原子の比率を低減させることによって、光電変換層中の自由電子量を低減させることができると推測される。このような理由により、光検出素子の暗電流をより低減させることができると推測される。
本明細書において、光電変換層についての2価のPb原子の個数に対する1価以下のPb原子の個数の比の値は、XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy)装置を用いたX線光電子分光法により測定した値である。具体的には、光電変換層のPb4f(7/2)軌道のXPSスペクトルについて、最小二乗法によりカーブフィッティングを行って、強度ピークが結合エネルギー137.8~138.2eVの範囲に存在する波形W1と、強度ピークが結合エネルギー136.5~137eVの範囲に存在する波形W2とに波形分離を行った。そして、波形W1のピーク面積S1に対する波形W2のピーク面積S2の比を算出し、この値を光電変換層についての2価のPb原子の個数に対する1価以下のPb原子の個数の比とした。ここで、X線光電子分光法による測定において、基準となるサンプルによって上記強度ピークの結合エネルギーは多少上下する場合がある。本発明における半導体量子ドットは、Pb原子と対となる陰イオン原子Xとの2価の結合Pb-Xが存在する。そのためPb-XあるいはPb-Xと同じ結合エネルギーの位置に強度ピークを持つ結合からの寄与を合わせて上記のピーク面積S1とする。そしてそれより結合エネルギーの低い位置に強度ピークを持つ結合からの寄与を上記のピーク面積S2とする。例えば、光電変換層についての2価のPb原子の個数に対する1価以下のPb原子の個数の比は、波形W1として強度ピークが結合エネルギー138eVに存在する波形を用い、波形W2として強度ピークが結合エネルギー136.8eVに存在する波形を用いて算出した値を用いることができる。
光電変換層についての、2価のPb原子の個数に対する1価以下のPb原子の個数の比を0.20以下とする手段としては、半導体膜の製造時において、非プロトン性溶剤を接触させてリンスを行ったり、酸素含有ガスの雰囲気下で乾燥する方法などが挙げられる。
以下、本発明の光検出素子の詳細について、図1を合わせて参照しながら説明する。図1は、フォトダイオード型の光検出素子の一実施形態を示す図である。なお、図中の矢印は光検出素子への入射光を表す。図1に示す光検出素子1は、第2の電極層12と、第2の電極層12に対向する第1の電極層11と、第2の電極層12および第1の電極層11との間に設けられた光電変換層13と、第1の電極層11および光電変換層13との間に設けられた電子輸送層21と、第2の電極層12および光電変換層13との間に設けられた正孔輸送層22と、を含んでいる。図1に示す光検出素子1は、上部電極11の上方から光が入射するように用いられる。なお、図示しないが、第1の電極層11の光入射側の表面には透明基板が配置されていてもよい。透明基板の種類としては、ガラス基板、樹脂基板、セラミック基板等が挙げられる。
(第1の電極層)
第1の電極層11は、光検出素子で検出する目的の光の波長に対して実質的に透明な導電材料で形成された透明電極であることが好ましい。なお、本発明において、「実質的に透明である」とは、光の透過率が50%以上であることを意味し、60%以上が好ましく、80%以上が特に好ましい。第1の電極層11の材料としては、導電性金属酸化物などが挙げられる。具体例としては、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムタングステン、酸化インジウム亜鉛(indium zinc oxide:IZO)、酸化インジウム錫(indium tin oxide:ITO)、フッ素をドープした酸化錫(fluorine-doped tin oxide:FTO)等が挙げられる。
第1の電極層11の膜厚は、特に限定されず、0.01~100μmが好ましく、0.01~10μmがさらに好ましく、0.01~1μmが特に好ましい。なお、本発明において、各層の膜厚は、走査型電子顕微鏡(scanning electron microscope:SEM)等を用いて光検出素子1の断面を観察することにより、測定できる。
(電子輸送層)
図1に示すように、電子輸送層21は、第1の電極層11と光電変換層13との間に設けられている。電子輸送層21は、光電変換層13で発生した電子を電極層へと輸送する機能を有する層である。電子輸送層は正孔ブロック層ともいわれている。電子輸送層は、この機能を発揮することができる電子輸送材料で形成される。電子輸送材料としては、[6,6]-Phenyl-C61-Butyric Acid Methyl Ester(PC61BM)等のフラーレン化合物、ペリレンテトラカルボキシジイミド等のペリレン化合物、テトラシアノキノジメタン、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムタングステン、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウム錫、フッ素をドープした酸化錫等が挙げられる。電子輸送層は単層膜であってもよく、2層以上の積層膜であってもよい。電子輸送層の厚さは、10~1000nmであることが好ましい。上限は、800nm以下であることが好ましい。下限は、20nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましい。また、電子輸送層の厚さは、光電変換層13の厚さの0.05~10倍であることが好ましく、0.1~5倍であることがより好ましく、0.2~2倍であることが更に好ましい。
(光電変換層)
光電変換層13は、金属原子を含む半導体量子ドットの集合体および半導体量子ドットに配位する配位子を含む。すなわち、光電変換層13は、金属原子を含む半導体量子ドットの集合体および半導体量子ドットに配位する配位子を含む半導体膜で構成されている。なお、半導体量子ドットの集合体とは、多数(例えば、1μmあたり100個以上)の半導体量子ドットが互いに近接して配置された形態をいう。また、本発明における「半導体」とは、比抵抗値が10-2Ωcm以上10Ωcm以下である物質を意味する。
半導体量子ドットは、金属原子を有する半導体粒子である。なお、本発明において、金属原子には、Si原子に代表される半金属原子も含まれる。半導体量子ドットを構成する半導体量子ドット材料としては、例えば、一般的な半導体結晶〔a)IV族半導体、b)IV-IV族、III-V族、またはII-VI族の化合物半導体、c)II族、III族、IV族、V族、および、VI族元素の内3つ以上の組み合わせからなる化合物半導体〕のナノ粒子(0.5nm以上100nm未満の大きさの粒子)が挙げられる。
半導体量子ドットは、Pb原子、In原子、Ge原子、Si原子、Cd原子、Zn原子、Hg原子、Al原子、Sn原子およびGa原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子を含むものであることが好ましく、Pb原子、In原子、Ge原子およびSi原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子を含むものであることがより好ましく、本発明の効果がより顕著に得られやすいという理由からPb原子を含むものであることが更に好ましい。
半導体量子ドットを構成する半導体量子ドット材料の具体例としては、PbS、PbSe、PbTe、InN、InAs、Ge、InAs、InGaAs、CuInS、CuInSe、CuInGaSe、InSb、HgTe、HgCdTe、AgS、AgSe、AgTe、SnS、SnSe、SnTe、Si、InP等の比較的バンドギャップの狭い半導体材料が挙げられる。なかでも、赤外域の光(好ましくは波長700~2500nmの光)を効率よく電子に変換しやすいという理由から半導体量子ドットはPbSまたはPbSeを含むものであることが好ましく、PbSを含むものであることがより好ましい。
半導体量子ドットは、半導体量子ドット材料を核(コア)とし、半導体量子ドット材料を被覆化合物で覆ったコアシェル構造の素材であってもよい。被覆化合物としては、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnCdS、CdS、GaP等が挙げられる。
半導体量子ドットのバンドギャップEg1は、0.5~2.0eVであることが好ましい。半導体量子ドットのバンドギャップEg1が上記範囲であれば、用途に応じて様々な波長の光を検出することが可能な光検出素子とすることができる。例えば、赤外域の光を検出可能な光検出素子とすることができる。半導体量子ドットのバンドギャップEg1の上限は1.9eV以下であることが好ましく、1.8eV以下であることがより好ましく、1.5eV以下であることが更に好ましい。半導体量子ドットのバンドギャップEg1の下限は0.6eV以上であることが好ましく、0.7eV以上であることがより好ましい。
半導体量子ドットの平均粒径は、2nm~15nmであることが好ましい。なお、半導体量子ドットの平均粒径は、任意に選択された半導体量子ドット10個の粒径の平均値である。半導体量子ドットの粒径の測定には、透過型電子顕微鏡を用いればよい。
一般的に半導体量子ドットは、数nm~数十nmまでの様々な大きさの粒子を含む。半導体量子ドットに内在する電子のボーア半径以下の大きさまで半導体量子ドットの平均粒径を小さくすると、量子サイズ効果により半導体量子ドットのバンドギャップが変化する現象が生じる。半導体量子ドットの平均粒径が、15nm以下であれば、量子サイズ効果によるバンドギャップの制御を行いやすい。
本発明の光検出素子の光電変換層13は、半導体量子ドットに配位する配位子を含む。配位子としては、ハロゲン原子を含む配位子、および、配位部を2以上含む多座配位子が挙げられる。光電変換層13は、配位子を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。なかでも、光電変換層13は、ハロゲン原子を含む配位子と多座配位子を含むことが好ましい。この態様によれば、暗電流が低く、かつ、電気伝導度、光電流値、外部量子効率、外部量子効率の面内均一性などの性能に優れた光検出素子とすることができる。このような効果が得られる理由は次によるものであると推測される。多座配位子は半導体量子ドットに対してキレート配位すると推測され、半導体量子ドットからの配位子の剥がれなどをより効果的に抑制できると推測される。また、キレート配位することで半導体量子ドット同士の立体障害を抑制できると推測される。このため、半導体量子ドット間の立体障害が小さくなり、半導体量子ドットが緻密に並んで半導体量子ドット間の波動関数の重なりを強めることができると考えられる。そして、半導体量子ドットに配位する配位子として、更に、ハロゲン原子を含む配位子を含む場合には、多座配位子が配位していない隙間にハロゲン原子を含む配位子が配位すると推測され、半導体量子ドットの表面欠陥を低減することができると推測される。このため、暗電流が低く、かつ、電気伝導度、光電流値、外部量子効率、外部量子効率の面内均一性などの性能に優れた光検出素子とすることができると推測される。
まず、ハロゲン原子を含む配位子について説明する。配位子に含まれるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、配位力の観点からヨウ素原子であることが好ましい。
ハロゲン原子を含む配位子は、有機ハロゲン化物であってもよく、無機ハロゲン化物であってもよい。なかでも、半導体量子ドットの陽イオンサイト及び陰イオンサイトの両方に配位しやすいという理由から無機ハロゲン化物であることが好ましい。また、無機ハロゲン化物は、Zn原子、In原子およびCd原子から選ばれる金属原子を含む化合物であることが好ましく、Zn原子を含む化合物であることがより好ましい。無機ハロゲン化物は、イオン化して半導体量子ドットに配位しやすいという理由から金属原子とハロゲン原子との塩であることが好ましい。
ハロゲン原子を含む配位子の具体例としては、ヨウ化亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、ヨウ化インジウム、臭化インジウム、塩化インジウム、ヨウ化カドミウム、臭化カドミウム、塩化カドミウム、ヨウ化ガリウム、臭化ガリウム、塩化ガリウム、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムヨージドなどが挙げられ、ヨウ化亜鉛が特に好ましい。
なお、ハロゲン原子を含む配位子では、ハロゲンを含む配位子からハロゲンイオンが解離して半導体量子ドットの表面にハロゲンイオンが配位していることもある。また、ハロゲンを含む配位子のハロゲン以外の部位についても、半導体量子ドットの表面に配位している場合もある。具体例を挙げて説明すると、ヨウ化亜鉛の場合は、ヨウ化亜鉛が半導体量子ドットの表面に配位していることもあれば、ヨウ素イオンや亜鉛イオンが半導体量子ドットの表面に配位していることもある。
次に、多座配位子について説明する。多座配位子に含まれる配位部としては、チオール基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、ホスホン酸基が挙げられる。半導体量子ドットの表面に強固に配位しやすいという理由から、多座配位子はチオール基を含む化合物であることが好ましい。
多座配位子としては、式(D)~(F)のいずれかで表される配位子が挙げられる。
式(D)中、XD1およびXD2はそれぞれ独立して、チオール基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基またはホスホン酸基を表し、
D1は炭化水素基を表す。
式(E)中、XE1およびXE2はそれぞれ独立して、チオール基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基またはホスホン酸基を表し、
E3は、S、OまたはNHを表し、
E1およびLE2は、それぞれ独立して炭化水素基を表す。
式(F)中、XF1~XF3はそれぞれ独立して、チオール基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基またはホスホン酸基を表し、
F4は、Nを表し、
F1~LF3は、それぞれ独立して炭化水素基を表す。
D1、XD2、XE1、XE2、XF1、XF2およびXF3が表すアミノ基には、-NHに限定されず、置換アミノ基および環状アミノ基も含まれる。置換アミノ基としては、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基などが挙げられる。これらの基が表すアミノ基としては、-NH、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基が好ましく、-NHであることがより好ましい。
D1、LE1、LE2、LF1、LF2およびLF3が表す炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基であることが好ましい。脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。炭化水素基の炭素数は、1~20が好ましい。炭素数の上限は、10以下が好ましく、6以下がより好ましく、3以下が更に好ましい。炭化水素基の具体例としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基が挙げられる。
アルキレン基は、直鎖アルキレン基、分岐アルキレン基および環状アルキレン基が挙げられ、直鎖アルキレン基または分岐アルキレン基であることが好ましく、直鎖アルキレン基であることがより好ましい。アルケニレン基は、直鎖アルケニレン基、分岐アルケニレン基および環状アルケニレン基が挙げられ、直鎖アルケニレン基または分岐アルケニレン基であることが好ましく、直鎖アルケニレン基であることがより好ましい。アルキニレン基は、直鎖アルキニレン基および分岐アルキニレン基が挙げられ、直鎖アルキニレン基であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアルキニレン基はさらに置換基を有していてもよい。置換基は、炭素数1以上10以下の基であることが好ましい。炭素数1以上10以下の基の好ましい具体例としては、炭素数1~3のアルキル基〔メチル基、エチル基、プロピル基、及びイソプロピル基〕、炭素数2~3のアルケニル基〔エテニル基およびプロペニル基〕、炭素数2~4のアルキニル基〔エチニル基、プロピニル基等〕、シクロプロピル基、炭素数1~2のアルコキシ基〔メトキシ基およびエトキシ基〕、炭素数2~3のアシル基〔アセチル基、及びプロピオニル基〕、炭素数2~3のアルコキシカルボニル基〔メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基〕、炭素数2のアシルオキシ基〔アセチルオキシ基〕、炭素数2のアシルアミノ基〔アセチルアミノ基〕、炭素数1~3のヒドロキシアルキル基〔ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基〕、アルデヒド基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、カルバモイル基、シアノ基、イソシアネート基、チオール基、ニトロ基、ニトロキシ基、イソチオシアネート基、シアネート基、チオシアネート基、アセトキシ基、アセトアミド基、ホルミル基、ホルミルオキシ基、ホルムアミド基、スルファミノ基、スルフィノ基、スルファモイル基、ホスホノ基、アセチル基、ハロゲン原子、アルカリ金属原子等が挙げられる。
式(D)において、XD1とXD2はLD1によって、1~10原子隔てられていることが好ましく、1~6原子隔てられていることがより好ましく、1~4原子隔てられていることが更に好ましく、1~3原子隔てられていることがより一層好ましく、1または2原子隔てられていることが特に好ましい。
式(E)において、XE1とXE3はLE1によって、1~10原子隔てられていることが好ましく、1~6原子隔てられていることがより好ましく、1~4原子隔てられていることが更に好ましく、1~3原子隔てられていることがより一層好ましく、1または2原子隔てられていることが特に好ましい。また、XE2とXE3はLE2によって、1~10原子隔てられていることが好ましく、1~6原子隔てられていることがより好ましく、1~4原子隔てられていることが更に好ましく、1~3原子隔てられていることがより一層好ましく、1または2原子隔てられていることが特に好ましい。
式(F)において、XF1とXF4はLF1によって、1~10原子隔てられていることが好ましく、1~6原子隔てられていることがより好ましく、1~4原子隔てられていることが更に好ましく、1~3原子隔てられていることがより一層好ましく、1または2原子隔てられていることが特に好ましい。また、XF2とXF4はLF2によって、1~10原子隔てられていることが好ましく、1~6原子隔てられていることがより好ましく、1~4原子隔てられていることが更に好ましく、1~3原子隔てられていることがより一層好ましく、1または2原子隔てられていることが特に好ましい。また、XF3とXF4はLF3によって、1~10原子隔てられていることが好ましく、1~6原子隔てられていることがより好ましく、1~4原子隔てられていることが更に好ましく、1~3原子隔てられていることがより一層好ましく、1または2原子隔てられていることが特に好ましい。
なお、XD1とXD2はLD1によって、1~10原子隔てられているとは、XD1とXD2とをつなぐ最短距離の分子鎖を構成する原子の数が1~10個であることを意味する。例えば、下記式(D1)の場合は、XD1とXD2とが2原子隔てられており、下記式(D2)および式(D3)の場合は、XD1とXD2とが3原子隔てられている。以下の構造式に付記した数字は、XD1とXD2とをつなぐ最短距離の分子鎖を構成する原子の配列の順番を表している。
具体的化合物を挙げて説明すると、3-メルカプトプロピオン酸は、XD1に相当する部位がカルボキシ基で、XD2に相当する部位がチオール基で、LD1に相当する部位がエチレン基である構造の化合物である(下記構造の化合物)。3-メルカプトプロピオン酸においては、XD1(カルボキシ基)とXD2(チオール基)とがLD1(エチレン基)によって2原子隔てられている。
E1とXE3はLE1によって、1~10原子隔てられていること、XE2とXE3はLE2によって、1~10原子隔てられていること、XF1とXF4はLF1によって、1~10原子隔てられていること、XF2とXF4はLF2によって、1~10原子隔てられていること、XF3とXF4はLF3によって、1~10原子隔てられていることの意味についても上記と同様である。
多座配位子の具体例としては、エタンジチオール、3-メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、2-アミノエタノール、2-アミノエタンチオール、2-メルカプトエタノール、グリコール酸、ジエチレントリアミン、トリス(2-アミノエチル)アミン、4-メルカプトブタン酸、3-アミノプロパノール、3-メルカプトプロパノール、N-(3-アミノプロピル)-1,3-プロパンジアミン、3-(ビス(3-アミノプロピル)アミノ)プロパン-1-オール、1-チオグリセロール、ジメルカプロール、1-メルカプト-2-ブタノール、1-メルカプト-2-ペンタノール、3-メルカプト-1-プロパノール、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール、ジエタノールアミン、2-(2-アミノエチル)アミノエタノール、ジメチレントリアミン、1,1-オキシビスメチルアミン、1,1-チオビスメチルアミン、2-[(2-アミノエチル)アミノ]エタンチオール、ビス(2-メルカプトエチル)アミン、2-アミノエタン-1-チオール、1-アミノ-2-ブタノール、1-アミノ-2-ペンタノール、L-システイン、D-システイン、3-アミノ-1-プロパノール、L-ホモセリン、D-ホモセリン、アミノヒドロキシ酢酸、L-乳酸、D-乳酸、L-リンゴ酸、D-リンゴ酸、グリセリン酸、2-ヒドロキシ酪酸、L-酒石酸、D-酒石酸、タルトロン酸およびこれらの誘導体が挙げられ、暗電流が低く、外部量子効率の高い半導体膜が得られやすいという理由から、チオグリコール酸、2-アミノエタノール、2-アミノエタンチオール、2-メルカプトエタノール、グリコール酸、ジエチレントリアミン、トリス(2-アミノエチル)アミン、1-チオグリセロール、ジメルカプロール、エチレンジアミン、エチレングリコール、アミノスルホン酸、グリシン、(アミノメチル)ホスホン酸、グアニジン、ジエタノールアミン、2-(2-アミノエチル)アミノエタノール、ホモセリン、システイン、チオリンゴ酸、リンゴ酸および酒石酸が好ましく、チオグリコール酸、2-アミノエタノール、2-メルカプトエタノールおよび2-アミノエタンチオールがより好ましく、チオグリコール酸が更に好ましい。
半導体量子ドットに含まれる金属原子に対する多座配位子の錯安定定数K1は6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましく、9以上であることが更に好ましい。上記錯安定定数K1が6以上であれば、半導体量子ドットと多座配位子との結合の強さを高めることが出来る。このため、半導体量子ドットからの多座配位子の剥離などを抑制でき、その結果、駆動耐久性などをより向上させることができる。
錯安定定数K1とは、配位子と配位結合の対象となる金属原子との関係で定まる定数であり、下記式(b)により表される。
錯安定定数K1=[ML]/([M]・[L]) ・・・(b)
式(b)において、[ML]は、金属原子と配位子が結合した錯体のモル濃度を表し、[M]は配位結合に寄与する金属原子のモル濃度を表し、[L]は配位子のモル濃度を表す。
実際には一つの金属原子に複数の配位子が配位する場合もあるが、本発明では、一つの金属原子に一つの配位子分子が配位する場合の式(b)で表される錯安定定数K1を、配位結合の強さの指標として規定する。
配位子と金属原子との間の錯安定定数K1の求め方としては、分光法、磁気共鳴分光法、ポテンショメトリー、溶解度測定、クロマトグラフィー、カロリメトリー、凝固点測定、蒸気圧測定、緩和測定、粘度測定、表面張力測定等がある。本発明では様々な手法や研究機関からの結果がまとめられた、Sc-Databese ver.5.85(Academic Software)(2010)を使用することで、錯安定定数K1を定めた。錯安定定数K1がSc-Databese ver.5.85に無い場合には、A.E.MartellとR.M.Smith著、Critical Stability Constantsに記載の値を用いる。Critical Stability Constantsにも錯安定定数K1が記載されていない場合は、既述の測定方法を用いるか、錯安定定数K1を計算するプログラムPKAS法(A.E.Martellら著、The Determination and Use of Stability Constants,VCH(1988))を用いて、錯安定定数K1を算出する。
本発明においては、半導体量子ドットとしてPb原子を含むものを用い(より好ましくはPbSを用い)、Pb原子に対する多座配位子の錯安定定数K1は6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましく、9以上であることが更に好ましい。Pb原子に対する錯安定定数K1が6以上である化合物としては、チオグリコール酸(Pbに対する錯安定定数K1=8.5)、2-メルカプトエタノール(Pbに対する錯安定定数K1=6.7)などが挙げられる。
光電変換層の厚みは10~600nmであることが好ましく、50~600nmであることがより好ましく、100~600nmであることが更に好ましく、150~600nmであることがより一層好ましい。厚みの上限は、550nm以下が好ましく、500nm以下がより好ましく、450nm以下が更に好ましい。
光検出素子で検出する目的の波長の光に対する光電変換層の屈折率は2.0~3.0であることが好ましく、2.1~2.8であることがより好ましく、2.2~2.7であることが更に好ましい。この態様によれば、光検出素子をフォトダイオードの構成とした際において、高い光吸収率、すなわち高い外部量子効率を実現しやすくなる。
光電変換層は、半導体量子ドットと、半導体量子ドットに配位する配位子と、溶剤とを含む半導体量子ドット分散液を基板上に付与して、半導体量子ドットの集合体の膜を形成する工程(半導体量子ドット集合体形成工程)を経て形成することができる。半導体量子ドット分散液を基板上に付与する手法は、特に限定はない。スピンコート法、ディップ法、インクジェット法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、スプレーコート法等の塗布方法が挙げられる。
また、半導体量子ドットの集合体の膜を形成した後、更に配位子交換工程を行って半導体量子ドットに配位している配位子を他の配位子に交換してもよい。配位子交換工程では、半導体量子ドット集合体形成工程によって形成された半導体量子ドットの集合体の膜に対して、配位子Aおよび溶剤を含む配位子溶液を付与して、半導体量子ドットに配位している配位子を配位子Aに交換する。配位子Aは2種以上の配位子を含んでいてもよく、配位子溶液は2種併用してもよい。
一方で、半導体量子ドットの表面にあらかじめ所望の配位子を付与させておき、その後、半導体量子ドット分散液を基板上に塗布して光電変換層を形成してもよい。
半導体量子ドット分散液中の半導体量子ドットの含有量は、1~500mg/mLであることが好ましく、10~200mg/mLであることがより好ましく、20~100mg/mLであることが更に好ましい。
半導体量子ドット分散液や配位子溶液に含まれる溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第2015/166779号の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を用いることもできる。溶剤の金属不純物は少ないほうが好ましく、金属含有量は、例えば、10質量ppb(parts per billion)以下である。必要に応じて質量ppt(parts per trillion)レベルの溶剤を用いてもよく、そのような溶剤は、例えば、東洋合成社が提供している(化学工業日報、2015年11月13日)。溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留(分子蒸留や薄膜蒸留等)やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、3μm以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。溶剤には、異性体(原子数が同じであるが構造が異なる化合物)が含まれていてもよい。また、異性体は、1種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
(正孔輸送層)
図1に示すように、正孔輸送層22は、第2の電極層12と光電変換層13との間に設けられている。正孔輸送層とは、光電変換層で発生した正孔を電極層へと輸送する機能を有する層である。正孔輸送層は電子ブロック層ともいわれている。本発明の光検出素子においては、光電変換層13の表面に正孔輸送層22が配置されていることが好ましい。
本発明の光検出素子において、正孔輸送層22は、有機半導体を含んでいる。正孔輸送層22は、有機半導体で構成された半導体膜であることが好ましい。正孔輸送層22を構成する有機半導体としては、下記式1-1~式1-6のいずれかで表される化合物などが挙げられる。
式1-1中、Ar~Arはそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-2中、Arは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を含む2価の連結基を表し、Ar~Arはそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-3中、Ar~Ar15はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-4中、Ar16~Ar24はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、n1は0~10の整数を表す;
式1-5中、Ar25~Ar33はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す;
式1-6中、Ar34~Ar42は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
式1-1のAr~Ar、式1-2のAr~Ar、式1-3のAr~Ar15、式1-4のAr16~Ar24、式1-5のAr25~Ar33、式1-6のAr34~Ar42が表す芳香族炭化水素基の炭素数は6~50が好ましく、6~30がより好ましく、6~12が更に好ましい。上記の芳香族炭化水素基は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。好ましくは単環である。芳香族炭化水素基の具体例としては、ベンゼン環基、ビフェニル環基、トリフェニル環基、トリフェニレン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基、フェナレン環基、フェナントレン環基、フルオレン環基、ピレン環基、クリセン環基、ペリレン環基、アズレン環基等が挙げられ、ベンゼン環基であることが好ましい。
式1-1のAr~Ar、式1-2のAr~Ar、式1-3のAr~Ar15、式1-4のAr16~Ar24、式1-5のAr25~Ar33、式1-6のAr34~Ar42が表す芳香族複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。芳香族複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。芳香族複素環基の環を構成する炭素原子の数は1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~12が更に好ましい。芳香族複素環基は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。芳香族複素環基の具体例としては、ジベンゾチオフェン環基、ジベンゾフラン環基、ジベンゾセレノフェン環基、フラン環基、チオフェン環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ベンゾセレノフェン環基、カルバゾール環基、インドロカルバゾール環基、ピリジルインドール環基、ピロロジピリジン環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、トリアゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、オキサジアゾール環基、オキサトリアゾール環基、ジオキサゾール環基、チアジアゾール環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、トリアジン環基、オキサジン環基、オキサチアジン環基、オキサジアジン環基、インドール環基、ベンズイミダゾール環基、インダゾール環基、インドキサジン環基、ベンゾオキサゾール環基、ベンズイソオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、キノリン環基、イソキノリン環基、シンノリン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、ナフチリジン環基、フタラジン環基、プテリジン環基、キサンテン環基、アクリジン環基、フェナジン環基、フェノチアジン環基、フェノキサジン環基、ベンゾフロピリジン環基、フロジピリジン環基、ベンゾチエノピリジン環基、チエノジピリジン環基、ベンゾセレノフェノピリジン環基及びセレノフェノジピリジン環基が挙げられる。
式1-2のArは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を含む2価の連結基を表す。Arが表す2価の連結基としては、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、および、下記式X-1で表される基が挙げられる。芳香族炭化水素基、芳香族複素環基としては、上述した基が挙げられる。
式X-1中、ArX1およびArX2はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、LX1は、単結合、炭化水素基、または、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子およびホウ素原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含む基を表し、Xは1~10の整数を表す。
X1は、単結合または炭化水素基であることが好ましく、炭化水素基であることがより好ましく、脂肪族炭化水素基であることが更に好ましい。
X1は、-CRx1CRX2-で表される基であることが好ましい。Rx1およびRX2は、それぞれ独立してアルキル基を表し、Rx1とRX2とは結合して環を形成していてもよい。Rx1とRX2とは結合して環を形成していることが好ましい。形成される環は、5員環または6員環の脂肪族環であることが好ましい。LX1の好ましい具体例としては以下に示す基が挙げられる。RX3は置換基を表し、X1は0~4の整数を表し、*は結合手である。RX3が表す置換基としては後述するAr~Ar42が表す基が有してもよい置換基が挙げられる。
式1-4のn1は0~10の整数を表し、0~5が好ましく、0~3がより好ましく、0または1が更に好ましい。
Ar~Ar42が表す基が有してもよい置換基としては、重水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ハロゲン原子、ニトリル基、イソニトリル基、ヒドロキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノ基、シリル基およびカルボキシ基が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐及び環状のいずれでもよい。
アルケニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~15がより好ましく、2~10が更に好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐及び環状のいずれでもよい。
アルキニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~15がより好ましく、2~10が更に好ましい。アルキニル基は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。
アリール基の炭素数は6~50が好ましく、6~30がより好ましく、6~12が更に好ましい。アリール基は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。
複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~12がより好ましい。複素環基は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。複素環基は非芳香族の複素環であってもよく、芳香族複素環であってもよい。
アルコキシ基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖および分岐のいずれでもよい。
アリールオキシ基の炭素数は、6~50が好ましく、6~30がより好ましく、6~12が更に好ましい。アリールオキシ基のアリール部位は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。
アルキルチオ基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。アルキルチオ基は、直鎖および分岐のいずれでもよい。
アミノ基としては、-NH、モノ又はジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、または、アルキルアリールアミノ基であることが好ましい。モノ又はジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基におけるアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐及び環状のいずれでもよい。モノアリールアミノ基、および、アルキルアリールアミノ基におけるアリール基の炭素数は、6~50が好ましく、6~30がより好ましく、6~12が更に好ましい。アリール基は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。
アシル基の炭素数は、2~50が好ましく、2~30がより好ましく、2~12が更に好ましい。
アルコキシカルボニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~15がより好ましく、2~10が更に好ましい。アルコキシカルボニル基は、直鎖および分岐のいずれでもよい。
アリールオキシカルボニル基の炭素数は、7~50が好ましく、7~30がより好ましく、7~12が更に好ましい。アリールオキシカルボニル基のアリール部位は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。
アシルアミノ基の炭素数は、2~50が好ましく、2~30がより好ましく、2~12が更に好ましい。
スルホンアミド基の炭素数は、1~50が好ましく、1~30がより好ましく、1~12が更に好ましい。
カルバモイル基の炭素数は、1~50が好ましく、1~30がより好ましく、1~12が更に好ましい。
スルファモイル基の炭素数は、1~50が好ましく、1~30がより好ましく、1~12が更に好ましい。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子などが挙げられる。
アルキルスルフィニル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。
アリールスルフィニル基の炭素数は、6~50が好ましく、6~30がより好ましく、6~12が更に好ましい。
アルキルスルホニル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。
アリールスルホニル基の炭素数は、6~50が好ましく、6~30がより好ましく、6~12が更に好ましい。
ホスフィノ基の炭素数は、0~30が好ましい。ホスフィノ基の具体例としては、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。
シリル基としては、-SiRsi1si2si3で表される基が好ましい。Rsi1~Rsi3はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐及び環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アリール基の炭素数は、6~50が好ましく、6~30がより好ましく、6~12が更に好ましい。アリール基は、単環であってもよく、2環以上が縮環した基であってもよい。シリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。
Ar~Ar42が表す基が有してもよい置換基は、電子供与性基であることも好ましい。すなわち、式1-1のAr~Arの少なくとも一つは電子供与性基を有し、式1-2のAr~Arの少なくとも一つは電子供与性基を有し、式1-3のAr~Ar15の少なくとも一つは電子供与性基を有し、式1-4のAr16~Ar24の少なくとも一つは電子供与性基を有し、式1-5のAr25~Ar33の少なくとも一つは電子供与性基を有し、式1-6のAr34~Ar42の少なくとも一つは電子供与性基を有することが好ましい。Ar~Ar42が表す基が置換基として電子供与性基を有する場合にはエネルギー準位が浅くなることでブロック効果が向上し、暗電流の低減が期待できる。
ここで、電子供与性基とは、有機電子論において、誘起効果や共鳴効果により、置換した原子団に、電子を供与する原子団である。電子供与性基としては、ハメット則の置換基定数(σp(パラ))として、負の値をとるものが挙げられる。ハメット則の置換基定数(σp(パラ))は、化学便覧基礎編改訂5版(II-380頁)から引用することができる。電子供与性基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基およびシリル基が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基またはシリル基であることが好ましく、上述した効果がより顕著に得られやすいという理由から3級アルキル基またはシリル基であることがより好ましい。
正孔輸送層22が含む有機半導体は、下記式3-1または式3-2で表される化合物であることが好ましい。この態様によれば、より外部量子効率が高く、より暗電流の低減された光検出素子を得ることができる。
式3-1中、Ar43~Ar46は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族複素環基、式3-aで表される基または式3-bで表される基を表し、
およびRはそれぞれ独立して置換基を表し、
m4およびm5はそれぞれ独立して0~4の数を表し、
およびlはそれぞれ独立して1または2を表し、
Lは単結合または2価の連結基を表す;
式3-2中、Ar47~Ar52は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族複素環基、式3-aで表される基または式3-bで表される基を表し、
~Rはそれぞれ独立して置換基を表し、
m6~m8はそれぞれ独立して0~4の数を表す;
式3-a中、R~Rはそれぞれ水素原子または置換基を表し、lは0または1を表し、*は連結手を表す;
式3-b中、R~Rはそれぞれ水素原子または置換基を表し、lは0または1を表し、*は連結手を表す;
式3-1のAr43~Ar46が表す芳香族複素環基、Ar47~Ar52が表す芳香族複素環基としては、式1-1のAr~Ar、式1-2のAr~Ar、式1-3のAr~Ar15、式1-4のAr16~Ar24、式1-5のAr25~Ar33、式1-6のAr34~Ar42が表す芳香族複素環基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式3-1のAr43~Ar46が表す芳香族複素環基が有していてもよい置換基、Ar47~Ar52が表す芳香族複素環基が有していてもよい置換基、式3-1のRおよびRが表す置換基、式3-2のR~Rが表す置換基、式3-aのR~Rが表す置換基、式3-bのR~Rが表す置換基としては、上述したAr~Ar42が表す基が有してもよい置換基として説明した置換基が挙げられ、電子供与性基であることが好ましく、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基またはシリル基であることがより好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基またはシリル基であることが更に好ましく、上述した効果がより顕著に得られやすいという理由から3級アルキル基またはシリル基であることが特に好ましい。
式3-1のlおよびlはそれぞれ独立して1または2を表し、1であることが好ましい。
式3-1のLは単結合または2価の連結基を表し、2価の連結基であることが好ましい。2価の連結基としては、炭化水素基、または、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子およびホウ素原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含む基を表が挙げられる。
Lが表す2価の連結基は炭化水素基であることが好ましく、-CRx1CRX2-で表される基であることがより好ましい。Rx1およびRX2は、それぞれ独立してアルキル基を表し、Rx1とRX2とは結合して環を形成していてもよい。Rx1とRX2とは結合して環を形成していることが好ましい。形成される環は、5員環または6員環の脂肪族環であることが好ましい。Lが表す2価の連結基の好ましい具体例としては以下に示す基が挙げられる。RX3は置換基を表し、X1は0~4の整数を表し、*は結合手である。RX3が表す置換基としては上述したAr~Ar42が表す基が有してもよい置換基が挙げられる。
式3-1のm4およびm5はそれぞれ独立して0~4の数を表し、0~3が好ましく、0~2がより好ましく、0または1が更に好ましく、0が特に好ましい。式3-2のm6~m8はそれぞれ独立して0~4の数を表し、0~3が好ましく、0~2がより好ましく、0または1が更に好ましく、0が特に好ましい。
式3-aのlは0または1を表し、0であることが好ましい。式3-bのlは0または1を表し、0であることが好ましい。
式3-1において、Ar43~Ar46は、式3-bで表される基であることが好ましい。また、式3-2において、Ar47~Ar52は、式3-bで表される基であることが好ましい。
式3-bで表される基において、lは0で、Rは電子供与性基であることが好ましく、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基またはシリル基であることがより好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基またはシリル基であることが更に好ましく、3級アルキル基またはシリル基であることが特に好ましい。
また、式3-bで表される基において、lが0で、R、RおよびRがそれぞれ独立して置換基であることも好ましく、R、RおよびRがそれぞれ独立して電子供与性基であることも好ましく、R、RおよびRがそれぞれ独立してアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基またはシリル基であることも好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基またはシリル基であることが更に好ましく、メチル基であることも好ましい。
正孔輸送層22に用いられる有機半導体の具体例としては、以下に示す構造の化合物、特開2019-163239号公報の段落番号0116に記載の化合物が挙げられる。
本発明の光検出素子は、有機半導体とは異なる正孔輸送材料で構成された他の正孔輸送層をさらに有していてもよい。他の正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、PEDOT:PSS(ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン):ポリ(4-スチレンスルホン酸))、MoOなどが挙げられる。また、特開2001-291534号公報の段落番号0209~0212に記載の有機正孔輸送材料等を用いることもできる。また、正孔輸送材料には半導体量子ドットを用いることもできる。半導体量子ドットを構成する半導体量子ドット材料としては、例えば、一般的な半導体結晶〔a)IV族半導体、b)IV-IV族、III-V族、またはII-VI族の化合物半導体、c)II族、III族、IV族、V族、および、VI族元素の内3つ以上の組み合わせからなる化合物半導体〕のナノ粒子(0.5nm以上100nm未満大の粒子)が挙げられる。具体的には、PbS、PbSe、PbSeS、InN、InAs、Ge、InAs、InGaAs、CuInS、CuInSe、CuInGaSe、InSb、HgTe、HgCdTe、AgS、AgSe、AgTe、SnS、SnSe、SnTe、Si、InP等の比較的バンドギャップの狭い半導体材料が挙げられる。半導体量子ドットの表面には配位子が配位していてもよい。
本発明の光検出素子が他の正孔輸送層を含む場合は、有機半導体を含む正孔輸送層が光電変換層側に配置されていることが好ましい。
正孔輸送層の厚みは、5~100nmであることが好ましい。下限は10nm以上が好ましい。上限は、50nm以下が好ましく、30nm以下が更に好ましい。
(第2の電極層)
第2の電極層12は、Au、Pt、Ir、Pd、Cu、Pb、Sn、Zn、Ti、W、Mo、Ta、Ge、Ni、CrおよびInから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されている。第2の電極層12がこのような金属材料で構成されていることにより、外部量子効率が高く、暗電流の低い光検出素子とすることができる。
第2の電極層12は、Au、Cu、Mo、Ni、Pd、W、Ir、PtおよびTaから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されていることが好ましく、仕事関数が大きく、且つマイグレーションを抑制しやすいという理由からAu、Pd、IrおよびPtから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されていることがより好ましい。
第2の電極層12において、Ag原子の含有量が98質量%以下であることが好ましく、95質量%以下であることがより好ましく、90質量%以下であることが更に好ましい。また、第2の電極層12は、Ag原子を実質的に含まないことも好ましい。第2の電極層12は、Ag原子を実質的に含まない場合とは、第2の電極層12におけるAg原子の含有量が1質量%以下であること意味し、0.1質量%以下であることが好ましく、Ag原子を含有しないことがより好ましい。
第2の電極層12の仕事関数は、正孔輸送層による電子ブロック性を高め、且つ素子中で生じた正孔を集めやすいという理由から4.6eV以上であることが好ましく、4.8~5.7eVであることがより好ましく、4.9~5.3eVであることが更に好ましい。
第2の電極層12の膜厚は、特に限定されず、0.01~100μmが好ましく、0.01~10μmがさらに好ましく、0.01~1μmが特に好ましい。
(ブロッキング層)
図示しないが、本発明の光検出素子は、第1の電極層11と電子輸送層21との間にブロッキング層を有していてもよい。ブロッキング層は逆電流を防止する機能を有する層である。ブロッキング層は短絡防止層ともいう。ブロッキング層を形成する材料は、例えば、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化タングステン等が挙げられる。ブロッキング層は単層膜であってもよく、2層以上の積層膜であってもよい。
(光検出素子の特性)
本発明の光検出素子において、光検出素子で検出する目的の光の波長λと、第2の電極層12の光電変換層13側の表面から、光電変換層13の第1の電極層11側の表面までの上記波長λの光の光路長Lλとが下記式(1-1)の関係を満していることが好ましく、下記式(1-2)の関係を満していることがより好ましい。波長λと光路長Lλとがこのような関係を満たしている場合には、光電変換層13において、第1の電極層11側から入射された光(入射光)と、第2の電極層12の表面で反射された光(反射光)との位相を揃えることができ、その結果、光学干渉効果によって光が強め合い、より高い外部量子効率を得ることができる。
0.05+m/2≦Lλ/λ≦0.35+m/2 ・・・(1-1)
0.10+m/2≦Lλ/λ≦0.30+m/2 ・・・(1-2)
上記式中、λは、光検出素子で検出する目的の光の波長であり、
λは、第2の電極層12の光電変換層13側の表面から、光電変換層13の第1の電極層11側の表面までの波長λの光の光路長であり、
mは0以上の整数である。
mは0~4の整数であることが好ましく、0~3の整数であることがより好ましく、0~2の整数であることが更に好ましい。この態様によれば、正孔や電子などの電荷の輸送特性が良好であり、光検出素子の外部量子効率をより高めることができる。
ここで、光路長とは、光が透過する物質の物理的な厚みと屈折率を乗じたものを意味する。光電変換層13を例に挙げて説明すると、光電変換層の厚さをd、光電変換層の波長λに対する屈折率をNとしたとき、光電変換層13を透過する波長λの光の光路長はN×dである。光電変換層13や正孔輸送層22が2層以上の積層膜で構成されている場合や、正孔輸送層22と第2の電極層12との間に中間層が存在する場合には、各層の光路長の積算値が上記光路長Lλである。
本発明の光検出素子は、赤外域の波長の光を検出するものとして好ましく用いられる。すなわち、本発明の光検出素子は、赤外光検出素子であることが好ましい。また、上述した光検出素子で検出する目的の光は、赤外域の波長の光であることが好ましい。また、赤外域の波長の光は、波長700nmを超える波長の光であることが好ましく、波長800nm以上の光であることがより好ましく、波長900nm以上の光であることが更に好ましい。また、赤外域の波長の光は、波長2000nm以下の光であることが好ましく、波長1800nm以下の光であることがより好ましく、波長1600nm以下の光であることが更に好ましい。
また、本発明の光検出素子は、赤外域の波長の光と、可視域の波長の光(好ましくは波長400~700nmの範囲の光)とを同時に検出するものであってもよい。
<イメージセンサ>
本発明のイメージセンサは、上述した本発明の光検出素子を含む。イメージセンサの構成としては、本発明の光検出素子を備え、イメージセンサとして機能する構成であれば特に限定はない。
本発明のイメージセンサは、赤外線透過フィルタ層を含んでいてもよい。赤外線透過フィルタ層としては、可視域の波長帯域の光の透過性が低いものであることが好ましく、波長400~650nmの範囲の光の平均透過率が10%以下であることがより好ましく、7.5%以下であることが更に好ましく、5%以下であることが特に好ましい。
赤外線透過フィルタ層としては、色材を含む樹脂膜で構成されたものなどが挙げられる。色材としては、赤色色材、緑色色材、青色色材、黄色色材、紫色色材、オレンジ色色材などの有彩色色材、黒色色材が挙げられる。赤外線透過フィルタ層に含まれる色材は、2種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を形成しているか、黒色色材を含むものであることが好ましい。2種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色色材の組み合わせとしては、例えば、以下の(C1)~(C7)の態様が挙げられる。
(C1)赤色色材と青色色材とを含有する態様。
(C2)赤色色材と青色色材と黄色色材とを含有する態様。
(C3)赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
(C4)赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材と緑色色材とを含有する態様。
(C5)赤色色材と青色色材と黄色色材と緑色色材とを含有する態様。
(C6)赤色色材と青色色材と緑色色材とを含有する態様。
(C7)黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
上記有彩色色材は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを含んでいてもよい。黒色色材は、有機黒色色材であることが好ましい。例えば、有機黒色色材としては、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられる。
赤外線透過フィルタ層はさらに赤外線吸収剤を含有していてもよい。赤外線透過フィルタ層に赤外線吸収剤を含有させることで透過させる光の波長をより長波長側にシフトさせることができる。赤外線吸収剤としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。
赤外線透過フィルタ層の分光特性については、イメージセンサの用途に応じて適宜選択することができる。例えば、以下の(1)~(5)のいずれかの分光特性を満たしているフィルタ層などが挙げられる。
(1):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)で、膜の厚み方向における光の透過率の、波長900~1500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)であるフィルタ層。
(2):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~830nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)で、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1000~1500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)であるフィルタ層。
(3):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~950nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)で、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1100~1500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)であるフィルタ層。
(4):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~1100nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)で、波長1400~1500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)であるフィルタ層。
(5):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~1300nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)で、波長1600~2000nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)であるフィルタ層。
また、赤外線透過フィルタとして、特開2013-077009号公報、特開2014-130173号公報、特開2014-130338号公報、国際公開第2015/166779号、国際公開第2016/178346号、国際公開第2016/190162号、国際公開第2018/016232号、特開2016-177079号公報、特開2014-130332号公報、国際公開第2016/027798号に記載の膜を用いることができる。また、赤外線透過フィルタは2つ以上のフィルタを組み合わせて用いてもよく、1つのフィルタで特定の2つ以上の波長領域を透過するデュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
本発明のイメージセンサは、ノイズ低減などの各種性能を向上させる目的で赤外線遮蔽フィルタを含んでいてもよい。赤外線遮蔽フィルタの具体例としては、例えば、国際公開第2016/186050号、国際公開第2016/035695号、特許第6248945号公報、国際公開第2019/021767号、特開2017-067963号公報、特許第6506529号公報に記載されたフィルタが挙げられる。
本発明のイメージセンサは誘電体多層膜を含んでいてもよい。誘電体多層膜としては、高屈折率の誘電体薄膜(高屈折率材料層)と低屈折率の誘電体薄膜(低屈折率材料層)とを交互に複数層積層したものが挙げられる。誘電体多層膜における誘電体薄膜の積層数は、特に限定はないが、2~100層が好ましく、4~60層がより好ましく、6~40層が更に好ましい。高屈折率材料層の形成に用いられる材料としては、屈折率が1.7~2.5の材料が好ましい。具体例としては、Sb、Sb、Bi、CeO、CeF、HfO、La、Nd、Pr11、Sc、SiO、Ta、TiO、TlCl、Y、ZnSe、ZnS、ZrOなどが挙げられる。低屈折率材料層の形成に用いられる材料としては、屈折率が1.2~1.6の材料が好ましい。具体例としては、Al、BiF、CaF、LaF、PbCl、PbF、LiF、MgF、MgO、NdF、SiO、Si、NaF、ThO、ThF、NaAlFなどが挙げられる。誘電体多層膜の形成方法としては、特に制限はないが、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法(PVD法)、化学的気相成長法(CVD法)などが挙げられる。高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、遮断しようとする光の波長がλ(nm)であるとき、0.1λ~0.5λの厚みであることが好ましい。誘電体多層膜の具体例としては、例えば、特開2014-130344号公報、特開2018-010296号公報に記載の誘電体多層膜が挙げられる。
誘電体多層膜は、赤外域(好ましくは波長700nmを超える波長領域、より好ましくは波長800nmを超える波長領域、さらに好ましくは波長900nmを超える波長領域)に透過波長帯域が存在することが好ましい。透過波長帯域における最大透過率は70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。また、遮光波長帯域における最大透過率は20%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、5%以下であることが更に好ましい。また、透過波長帯域における平均透過率は60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが更に好ましい。また、透過波長帯域の波長範囲は、最大透過率を示す波長を中心波長λt1とした場合、中心波長λt1±100nmであることが好ましく、中心波長λt1±75nmであることがより好ましく、中心波長λt1±50nmであることが更に好ましい。
誘電体多層膜は、透過波長帯域(好ましくは、最大透過率が90%以上の透過波長帯域)を1つのみ有していてもよく、複数有していてもよい。
本発明のイメージセンサは、色分離フィルタ層を含んでいてもよい。色分離フィルタ層としては着色画素を含むフィルタ層が挙げられる。着色画素の種類としては、赤色画素、緑色画素、青色画素、黄色画素、シアン色画素およびマゼンタ色画素などが挙げられる。色分離フィルタ層は2色以上の着色画素を含んでいてもよく、1色のみであってもよい。用途や目的に応じて適宜選択することができる。色分離フィルタ層としては、例えば、国際公開第2019/039172号に記載のフィルタを用いることができる。
また、色分離層が2色以上の着色画素を含む場合、各色の着色画素同士は隣接していてもよく、各着色画素間に隔壁が設けられていてもよい。隔壁の材質としては、特に限定はない。例えば、シロキサン樹脂、フッ素樹脂などの有機材料や、シリカ粒子などの無機粒子が挙げられる。また、隔壁は、タングステン、アルミニウムなどの金属で構成されていてもよい。
本発明のイメージセンサが赤外線透過フィルタ層と色分離層とを含む場合は、色分離層は赤外線透過フィルタ層とは別の光路上に設けられていることが好ましい。また、赤外線透過フィルタ層と色分離層は二次元配置されていることも好ましい。なお、赤外線透過フィルタ層と色分離層とが二次元配置されているとは、両者の少なくとの一部が同一平面上に存在していることを意味する。
本発明のイメージセンサは、平坦化層、下地層、密着層などの中間層、反射防止膜、レンズを含んでいてもよい。反射防止膜としては、例えば、国際公開第2019/017280号に記載の組成物から作製した膜を用いることができる。レンズとしては、例えば、国際公開第2018/092600号に記載の構造体を用いることができる。
本発明の光検出素子は、赤外域の波長の光に対して優れた感度を有している。このため、本発明のイメージセンサは、赤外線イメージセンサとして好ましく用いることができる。また、本発明のイメージセンサは、波長900~2000nmの光をセンシングするものとして好ましく用いることができ、長900~1600nmの光をセンシングするものとしてより好ましく用いることができる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
<PbS量子ドットの分散液の調製>
(PbS量子ドットの分散液)
フラスコ中に1.3mlのオレイン酸と、2mmolの酸化鉛と、19mLのオクタデセンを測りとり、真空下110℃で90分加熱することで、前駆体溶液を得た。その後、溶液の温度を95℃に調整し、次いで、系を窒素フロー状態にした。次いで、1mmolのヘキサメチルジシラチアンを5mLのオクタデセンと共に注入した。注入後すぐにフラスコを自然冷却し、30℃になった段階でヘキサン12mLを加え、溶液を回収した。溶液に過剰量のエタノールを加え、10000rpmで10分間遠心分離を行い、沈殿物をオクタンに分散させ、40mg/mLのPbS量子ドット分散液を得た。PbS量子ドット分散液の吸収測定から見積もったバンドギャップはおよそ1.33eVであった。
(光検出素子の作製)
[実施例1~4]
酸化インジウムスズ膜(第1の電極層)付き石英ガラス基板上に酸化チタン膜を20nmスパッタリングで成膜した。次に、上記のPbS量子ドットの分散液を上記基板に成膜した酸化チタン膜上に滴下し、2500rpmでスピンコートして、PbS量子ドット集合体膜を形成した(工程1)。次いで、このPbS量子ドット集合体膜上に、配位子溶液として、ヨウ化亜鉛25mmol/Lのメタノール溶液と、チオグリコール酸0.01体積%のメタノール溶液を滴下した後、10秒間静置し、2500rpmで20秒間スピンドライを行った。次いで、アセトニトリルをPbS量子ドット集合体膜上に滴下し、2500rpmで20秒間スピンドライを行い、PbS量子ドットに配位している配位子を、オレイン酸からチオグリコール酸およびヨウ化亜鉛に配位子交換した(工程2)。工程1と工程2とを1サイクルとする操作を10サイクル繰り返した後、窒素雰囲気中にて10時間乾燥して、配位子がオレイン酸からチオグリコール酸およびヨウ化亜鉛に配位子交換されたPbS量子ドット集合体膜である光電変換層を220nmの厚さで形成した。
次に、表1に記載の有機半導体を、膜厚が80nmになるように真空蒸着を行って正孔輸送層を形成した。
次いで、正孔輸送層上に、MoOを膜厚が10nmになるように真空蒸着を行った。次いで、MoO膜上に、Auを膜厚が100nmとなるように真空蒸着を行い、第2の電極層を形成した。
[比較例1~3]
表1に記載の有機半導体を用いて、膜厚が80nmになるように真空蒸着を行って正孔輸送層を形成し、Agを膜厚が100nmとなるように真空蒸着を行い、第2の電極層を形成した以外は実施例1と同様の操作を行い光検出素子を製造した。
化合物A:下記構造の化合物
化合物B:下記構造の化合物
化合物C:下記構造の化合物
化合物D:下記構造の化合物
化合物E:下記構造の化合物
<外部量子効率、暗電流の評価>
製造した光検出素子について半導体パラメータアナライザー(C4156、Agilent製)を用いて、外部量子効率(EQE)および暗電流をそれぞれ測定した。
まず、光を照射しない状態において0Vから-2Vまで電圧を掃引しながら電流-電圧特性(I-V特性)を測定し、-1Vでの電流値を暗電流として評価した。
続いて、940nmのモノクロ光を照射した状態で、0Vから-2Vまで電圧を掃引しながらI-V特性を測定した。-1Vを印加した状態での光電流値から、外部量子効率(EQE)を算出した。
表2に示すように、実施例の光検出素子は、比較例よりも外部量子効率が高く、かつ、暗電流が低かった。
上記実施例で得られた光検出素子を用い、国際公開第2016/186050号および国際公開第2016/190162号に記載の方法に従い作製した光学フィルタと共に公知の方法にてイメージセンサを作製し、固体撮像素子に組み込むことで、良好な可視、赤外撮像性能を有するイメージセンサを得ることができる。
各実施例において、光電変換層の半導体量子ドットをPbSe量子ドットに変更しても同様の効果が得られる。
各実施例において、第2の電極層を、AuのかわりにPdで形成した場合であっても、同様の効果が得られる。
1:光検出素子
11:第1の電極層
12:第2の電極層
13:光電変換層
21:電子輸送層
22:正孔輸送層

Claims (14)

  1. 第1の電極層と、
    第2の電極層と、
    第1の電極層と第2の電極層との間に設けられた光電変換層と、
    前記第1の電極層と前記光電変換層との間に設けられた電子輸送層と、
    前記光電変換層と前記第2の電極層との間に設けられた正孔輸送層と、を有し、
    前記光電変換層は、金属原子を含む半導体量子ドットの集合体および前記半導体量子ドットに配位する配位子を含み、前記配位子は、ハロゲン原子を含む配位子と配位部を2以上含む多座配位子とを含み、前記多座配位子は、式(D)~(F)のいずれかで表される配位子であり、
    前記正孔輸送層は、有機半導体を含み、前記有機半導体は式3-2で表される化合物であり、
    前記第2の電極層は、AuおよびPdから選ばれる少なくとも1種の金属原子を含む金属材料で構成されており、かつ、前記第2の電極層におけるAg原子の含有量が1質量%以下である、光検出素子。
    (式(D)中、XD1およびXD2はそれぞれ独立して、チオール基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基またはホスホン酸基を表し、
    D1は脂肪族炭化水素基を表す;
    式(E)中、XE1およびXE2はそれぞれ独立して、チオール基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基またはホスホン酸基を表し、
    E3は、S、OまたはNHを表し、
    E1およびLE2は、それぞれ独立して脂肪族炭化水素基を表す;
    式(F)中、XF1~XF3はそれぞれ独立して、チオール基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基またはホスホン酸基を表し、
    F4は、Nを表し、
    F1~LF3は、それぞれ独立して脂肪族炭化水素基を表す。)
    (式3-2中、Ar47~Ar52は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい芳香族複素環基、式3-aで表される基または式3-bで表される基を表し、
    f~Rhはそれぞれ独立して置換基を表し、
    m6~m8はそれぞれ独立して0~4の数を表す。)
    (式3-a中、Ri~Roはそれぞれ水素原子または置換基を表し、l3は0または1を表し、*は連結手を表す;
    式3-b中、Rp~Rvはそれぞれ水素原子または置換基を表し、l4は0または1を表し、*は連結手を表す。)
  2. 前記式3-2のAr47~Ar52の少なくとも一つは電子供与性基を有する、請求項1に記載の光検出素子。
  3. 前記電子供与性基がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基またはシリル基である、請求項2に記載の光検出素子。
  4. 前記第2の電極層は、AuまたはPdで構成されている、請求項1~3のいずれか1項に記載の光検出素子。
  5. 前記第2の電極層の仕事関数が4.6eV以上である、請求項1~のいずれか1項に記載の光検出素子。
  6. 前記半導体量子ドットはPb原子を含む、請求項1~のいずれか1項に記載の光検出素子。
  7. 前記半導体量子ドットはPbSを含む、請求項1~のいずれか1項に記載の光検出素子。
  8. 前記ハロゲン原子を含む配位子はヨウ素原子を含、請求項1~3のいずれか1項に記載の光検出素子。
  9. 前記半導体量子ドットはPb原子を含み、
    前記ハロゲン原子を含む配位子はヨウ素原子を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の光検出素子。
  10. 前記ハロゲン原子を含む配位子が無機ハロゲン化物である、請求項1~のいずれか1項に記載の光検出素子。
  11. 前記無機ハロゲン化物はZn原子を含む、請求項10に記載の光検出素子。
  12. フォトダイオード型の光検出素子である、請求項1~11のいずれか1項に記載の光検出素子。
  13. 請求項1~12のいずれか1項に記載の光検出素子を含むイメージセンサ。
  14. 赤外線イメージセンサである、請求項13に記載のイメージセンサ。
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