JP7468078B2 - 造形装置及び造形方法 - Google Patents
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Description
図1は、実施の形態の立体造形装置(造形装置の一例)の上面図である。図2は、実施の形態の立体造形装置の一部を切り欠いて示す側面図である。図3は、実施の形態の立体造形装置の粉体槽の断面図である。図4は、実施の形態の立体造形装置の要部の斜視図である。図5は、実施の形態の立体造形装置の粉体槽及び液体吐出ユニット50の斜視図である。
次に、図6は、実施の形態の立体造形装置のハードウェア構成を示すブロック図である。この図6において、立体造形装置601の制御部500は、CPU(Center Processing Unit)501、ROM(Read Only Memory)502、RAM(Random Access Memory)503、NVRAM(Non Volatile Random Access Memory)504を有している。CPU501は、立体造形装置601全体の制御を行う。ROM502には、CPU501に立体造形制御を実行させるための造形プログラム等の各種プログラムの他、固定データ等が記憶されている。RAM503は、造形データ等を一時的に記憶する。NVRAM504は、装置の電源が遮断されている間もデータを保持する不揮発性メモリとなっている。主に、CPU501、ROM502及びRAM503で主制御部500Aが形成されている。
図7は、造形物の造形動作の流れを示す図である。図7(a)は、造形槽22の造形ステージ24上に、1層目の造形層30が形成されている状態を示している。この造形層30上に次の造形層30を形成する場合、図7(a)に示すように、供給槽21の供給ステージ23をZ1方向に上昇させ、造形槽22の造形ステージ24をZ2方向に下降させる。このとき、造形槽22の上面(粉体層表面)と平坦化ローラ12の下部(下方接線部)との間隔がΔt1となるように造形ステージ24の下降距離を設定する。この間隔Δt1が次に形成する粉体層31の厚さに相当する。一例ではあるが、間隔Δt1は、数十~100μm程度であることが好ましい。
ここで、比較例となる立体造形装置の造形時において、造形液10の液滴が着弾した際の粉面の挙動を図8に示す。図8は、造形液10の液滴10aと造形用粉末の粉体20を拡大して模式的に示した図である。
次に、実施の形態の立体造形装置における液滴吐出制御を、図9を用いて説明する。図9(a)は、粉体層31に液体吐出ヘッド52から吐出された造形液10の液滴10aを滴下したときの図であり、図9(b)は粉体層31上に、液滴10aが着弾したときの図である。図9(c)は、2滴目の液滴10bを滴下したときの図であり、図9(d)は供給槽21から平坦化ローラ12によって造形槽22に移送供給され、堆積されたときの図である。
1.粉体層を形成する粉体層形成ステップと、
2.粉体層に造形液を吐出する第1の造形液吐出ステップと、
3.第1の造形液吐出ステップにより造形液が吐出された領域と少なくとも一部が重なる領域に、第1の造化液吐出ステップにより吐出された造形液よりも高い運動エネルギーの造形液を吐出する第2の造形液吐出ステップと、を実行する。これにより、上述の効果を得ることができる。
以下に、このような立体造形装置の試作実験結果を示す。この試作実験には、粉体10として、シリコン系のアルミ合金(AlSi10Mg)を用いた。また、チャートのサイズは、主走査方向を40mm、副走査方向を20mm、積層方向を5mmとした。そして、以下の表1~表11に示す造形条件で造形物の造形を行った。
以上の説明から明らかなように、実施の形態の立体造形装置は、積層された粉体に造形液を吐出して固めることで造形物を造形する造形液噴射方式の立体造形装置において、1画素に対して、1滴目の造形液の運動エネルギーを、2滴目以降の造形液の運動エネルギーよりも小さくする。
5 造形ユニット
7 ベース部材
10 造形液
11 粉体槽
12 平坦化ローラ
13 粉体除去板
20 粉体
21 供給槽
22 造形槽
23 供給ステージ
24 造形ステージ
25 往復移動機構
29 余剰粉体受け槽
30 造形層
31 粉体層
50 液体吐出ユニット
51 キャリッジ
52 液体吐出ヘッド
54 ガイド部材
55 ガイド部材
60 タンク
61 メンテナンス機構
62 キャップ
63 ワイパ
71 ガイド部材
72 スライダ部
500 制御部
500A 主制御部
501 CPU
508 ヘッド駆動制御部
Claims (13)
- 粉体層を形成する粉体層形成部と、
前記粉体層に造形液を吐出する造形液吐出部と、
後から吐出される前記造形液よりも低い運動エネルギーの前記造形液を、先に吐出するように、前記造形液吐出部を吐出制御する吐出制御部と、を有し、
前記吐出制御部は、二滴目の前記造形液を、一滴目の前記造形液が吐出された領域と少なくとも一部が重なる領域に吐出する、造形装置。 - 前記吐出制御部は、一滴目の前記造形液の吐出量が、二滴目の前記造形液の吐出量よりも少なくなるように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項1に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、一滴目の前記造形液の吐出速度が、二滴目の前記造形液の吐出速度よりも遅くなるように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項1に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、前記造形液の任意の液滴をn滴目(nは自然数)としたとき、前記n滴目の運動エネルギーが、n+1滴目の運動エネルギーより低くなるように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項1に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、前記造形液の任意の液滴をn滴目(nは自然数)としたとき、前記n滴目の吐出速度が、n+1滴目の吐出速度より遅くなるように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項4に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、前記造形液の任意の液滴をn滴目(nは自然数)としたとき、前記n滴目の吐出量が、n+1滴目の吐出量より少なくなるように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項4に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、前記造形液の一滴目及び二滴目を、別のスキャンで吐出するように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項1から請求項6のうち、いずれか一項に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、前記造形液の一滴目の吐出量に対応する解像度が、二滴目に対応する解像度よりも高くなるように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項1から請求項7のうち、いずれか一項に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、二滴目の吐出量に対応する前記造形液吐出部の主走査方向の解像度よりも、一滴目の吐出量に対応する前記造形液吐出部の主走査方向の解像度の方が高くなるように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項8に記載の造形装置。 - 前記吐出制御部は、一滴目の前記造形液と、二滴目の前記造形液とで、異なる種類の造形液を吐出するように、前記造形液吐出部を吐出制御すること
を特徴とする請求項1から請求項9のうち、いずれか一項に記載の造形装置。 - 前記一滴目の比重が二滴目よりも小さいこと
を特徴とする請求項10に記載の造形装置。 - 前記一滴目の表面エネルギーが前記二滴目よりも小さいこと
を特徴とする請求項10に記載の造形装置。 - 粉体層を形成する粉体層形成ステップと、
前記粉体層に造形液を吐出する第1の造形液吐出ステップと、
前記第1の造形液吐出ステップにより造形液が吐出された領域と少なくとも一部が重なる領域に、第1の造化液吐出ステップにより吐出された前記造形液よりも高い運動エネルギーの前記造形液を吐出する第2の造形液吐出ステップと、
を有する造形方法。
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