JP7438783B2 - 磁性基体、コイル部品、及び電子機器 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 80
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 118
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 116
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims description 112
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 68
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 47
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 41
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 39
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 37
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 19
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 18
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 32
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 32
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 28
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 26
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 6
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229910000952 Be alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- -1 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 2
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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図1は、本願発明の第1の実施形態に係る磁性基体を示す断面図である。図1では、第1の実施形態に係る磁性基体100の一部を拡大して図示している。図1を参照して、複数の金属磁性粒子10が絶縁性を有する結合部11を介して結合され、これにより絶縁性を有する磁性基体100が形成されている。結合部11の存在は、例えば磁性基体100の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)により5000倍程度で撮影した撮影像においてコントラスト(明度)の違いとして認識できる。
第1の実施形態に係る磁性基体の製造方法の一例を説明する。まず、複数の金属磁性粒子と樹脂組成物と溶剤とを混合して磁性体ペーストを調整する。ここで、樹脂組成物は、バインダー樹脂と、バインダー樹脂に溶解し、Si、Al、Cr、Mg、Ti、及びZrのうちの少なくとも一つの元素を有するレジネートと、を含む。レジネートは、例えばSiを有する場合では、(R-SiO1.5)nの構造(R:有機官能基)を有するシルセスキオキサン、Si-O-Si構造を有するシロキサン、又はこれら以外のSi-O骨格(Si-O構造)を有する化合物、若しくはこれらの混合物を用いることができる。その他には、M-ORの構造(M:Si、Al、Cr、Mg、Ti、及び/又はZr、R:有機官能基)を有するアルコキシドをレジネートとして用いることができる。バインダー樹脂に溶解しているレジネートは、バインダー樹脂中にフィラー等の固相として存在するのではなく、ゾルゲル状を含む半固相又は液相として存在している。バインダー樹脂に溶解しているレジネートは、一般的なメッシュ(ふるい)ではバインダー樹脂から分離できない。
図2は、本願発明の第2の実施形態に係る磁性基体を示す断面図である。図2では、第2の実施形態に係る磁性基体200の一部を拡大して図示している。図2を参照して、金属磁性粒子10の表面の少なくとも一部を覆って絶縁膜である酸化膜12が設けられている。金属磁性粒子10は、第1の実施形態と同様とすることができる。例えば鉄を主成分とする軟磁性粒子であり、合金粒子であってもよいし、純鉄粒子であってもよい。結合部11は、Si、Al、Cr、Mg、Ti、及びZrのうちの少なくとも一つの元素の酸化物と炭素とを含む非晶質の混合物からなり、複数の金属磁性粒子10の表面の酸化膜12に接して設けられ、酸化膜12同士を結合部11を介して結合することで、これら複数の金属磁性粒子10を結合している。酸化膜12は、例えばSi、Al、Cr、Mg、Ti、及びZrのうちの少なくとも一つの元素の酸化物を含んでいてもよいし、金属磁性粒子10を構成する元素の酸化物を含んでいてもよい。酸化膜12は、レジネート由来の炭素をほとんど含まないことから意図せずに含む場合を除いて膜中には炭素を実質的に含まず、例えば炭素の割合は1wt%以下である。酸化膜12と結合部11は含有する炭素の割合によって明確に区別し得る。なお、酸化膜12の表面の結合部11と接していない部分には、酸化膜12とは別途に形成されたレジネート由来の炭素が存在した膜を有していてもよい。このレジネート由来の炭素を有する膜は、結合には関与していないが、結合部11と同様の組成である。酸化膜12と、酸化膜12の表面のレジネート由来の炭素を有する膜とは、含有する炭素の割合によって明確に区別し得る。酸化膜12は非晶質の場合でもよいし結晶質の場合でもよいし両者が存在していてもよい。酸化膜12の存在は、例えば磁性基体200の断面を走査型電子顕微鏡により5000倍程度で撮影した撮影像においてコントラスト(明度)の違いとして認識できる。酸化膜12の組成は、例えば磁性基体200の断面を走査型電子顕微鏡により3000倍から20000倍程度で撮影し、エネルギー分散型X線分析によるZAF法によって確認することができる。その他の構成は第1の実施形態と同じであるため説明を省略する。
第2の実施形態に係る磁性基体の製造方法の一例を説明する。まず、第1の実施形態と同じ金属磁性粒子を用意し、その表面に酸化膜を形成する。酸化膜は、ゾルゲル法等の湿式法によって金属磁性粒子の表面に形成してもよいし、金属磁性粒子に対して熱処理を行うことで金属磁性粒子の表面に形成してもよい。一例として、金属磁性粒子とエタノールとアンモニア水を含む液中に、TEOS(テトラエトキシシラン)とエタノールと水を含む処理液を混合して混合液を作製し、この混合液を撹拌した後にろ過することで、表面に酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を形成してもよい。また、酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子に対して熱処理を行ってもよい。熱処理は、還元雰囲気下において400℃~800℃で20分~60分間行ってもよい。なお、上記以外の方法の例えばCVD法、PVD法、又はALD法等によって金属磁性粒子の表面に酸化膜を形成してもよい。その後、第1の実施形態で説明した方法と同じ方法によって、表面に酸化膜が形成された金属磁性粒子と樹脂組成物と溶剤とを混合して磁性体ペーストを調整する。これ以降の工程は第1の実施形態と同じであるため説明を省略する。
図3は、本願発明の第3の実施形態に係るコイル部品を示す斜視図である。図4は、本願発明の第3の実施形態に係るコイル部品を示す分解斜視図である。図4では、図示の便宜上、外部電極を省略している。図3及び図4では、コイル部品として様々な回路で受動素子として用いられる積層インダクタの例を示す。
第3の実施形態に係るコイル部品の製造方法の一例を説明する。まず、第1の実施形態で説明した方法と同じように、複数の金属磁性粒子と樹脂組成物と溶剤とを混合して調整した磁性体ペーストをフィルム上に塗布し、これを乾燥させることで磁性体膜を形成する。必要に応じて磁性体膜の所定の位置に例えばレーザを用いて貫通孔を形成する。磁性体膜上に例えばスクリーン印刷等によって銀ペースト又は銅ペースト等の導体ペーストを塗布し、これを熱風乾燥機等の乾燥機で乾燥させることで導体パターンの前駆体を形成する。磁性体膜上に例えばスクリーン印刷等の印刷法によって上述した磁性体ペーストを塗布し、これを乾燥機で乾燥させることで導体パターンの周りに磁性体膜を形成する。その後、フィルムを剥離する。これにより、導体パターンが設けられた磁性体層が形成される。
図5は、本願発明の第4の実施形態に係るコイル部品を示す側面図である。図5を参照して、コイル部品400は、磁性基体100と、コイル周回部70と、外部電極52、53と、を備える。磁性基体100の形状は、ドラムコア、Tコア、Iコア等であってもよく、特に限定されない。磁性基体100の形状の例としてドラムコアの場合を例示する。磁性基体100は、巻芯部60と、巻芯部60の軸方向の一方の端部に設けられた鍔部61と、巻芯部60の他方の端部に設けられた鍔部62と、を備える。なお、磁性基体100の形状によって鍔部61及び鍔部62の一方もしくは両方がない場合がある。巻芯部60は、例えば断面形状が略長方形形状をしているが、六角形又は八角形等の多角形形状であってもよいし、円形状又は楕円形状等であってもよい。コイル部品400の「長さ」方向、「幅」方向、及び「厚さ」方向をそれぞれ、図5において「L」方向、「W」方向、及び「T」方向と図示している。コイル部品400は、例えば、長さ寸法(L軸方向の寸法)が3.2mm、幅寸法(W軸方向の寸法)が2.5mm、厚さ寸法(T軸方向の寸法)が2.5mmである。
第4の実施形態に係るコイル部品の製造方法の一例を説明する。まず、第1の実施形態で説明した方法と同じように、複数の金属磁性粒子と樹脂組成物と溶剤とを混合して磁性体ペーストを調整する。磁性体ペーストを金型のキャビティ内に充填してプレス成形することでドラム型をした成形体を形成する。必要に応じてこの成形体に対してバリ取りを行ってもよい。この成形体に対して第1の実施形態で説明した熱処理を行う。この熱処理によって、金属磁性粒子10の表面に結合部11が結合され、複数の金属磁性粒子10が結合部11を介して結合したドラムコアである磁性基体100が形成される。その後、磁性基体100に被覆導線71を巻回してコイル周回部70を形成し、被覆導線71の両端部の被覆を剥離する。その後、例えばペースト印刷、めっき、又はスパッタリング等の薄膜プロセスで用いられる方法によって、磁性基体100に被覆導線71に接続される外部電極52、53を形成する。
図6は、本願発明の第5の実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。図6では、図の明瞭化のために、半田82にハッチングを付している。図6を参照して、電子機器500は、回路基板80と、回路基板80に実装された第3の実施形態のコイル部品300と、を備える。コイル部品300は、外部電極50、51が半田82によって回路基板80の電極81に接合されることで、回路基板80に実装されている。これにより、信頼性が向上したコイル部品300を備えた電子機器500が得られる。
実施例1の磁性基体を以下の方法により作製した。原料粒子として組成比がシリコン:3.5wt%、クロム:2.5wt%、鉄:94wt%で平均粒子径が5μmの金属磁性粒子を用い、この金属磁性粒子と樹脂組成物と溶剤とを混合して磁性体ペーストを調整した。樹脂組成物は、バインダー樹脂としてのポリビニルブチラール(PVB)樹脂と、レジネートとしてのジメトキシジフェニルシランと、を含む構成とした。溶剤にはトルエンを用いた。レジネートは金属磁性粒子の重量に対しSiO2重量換算で0.6wt%となるように添加した。この磁性体ペーストをPETフィルム上に塗布し、80℃で乾燥させて、PETフィルム上に磁性体膜を形成した。その後、PETフィルムを剥離して、60μm~70μmの厚さの磁性体層を形成した。
円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を9000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を8000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を5000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を2000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を1000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を2ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を用いて磁性体ペーストを調整した点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。酸化シリコン膜はゾルゲル法によって形成した。
表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を用いて磁性体ペーストを調整した点、及び、円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を9000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を用いて磁性体ペーストを調整した点、及び、円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を8000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を用いて磁性体ペーストを調整した点、及び、円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を5000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を用いて磁性体ペーストを調整した点、及び、円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を2000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を用いて磁性体ペーストを調整した点、及び、円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を1000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子を用いて磁性体ペーストを調整した点、及び、円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を3ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
比較例では、表面に厚さ20nmの酸化シリコン膜が形成された金属磁性粒子とポリビニルブチラール(PVB)樹脂(バインダー樹脂)とトルエン(溶剤)とを混合した磁性体ペーストを調整した。すなわち、比較例ではレジネートを用いずに磁性体ペーストを調整した。また、円板試料、トロイダル試料、及び短冊状試料に対して700℃で且つ窒素に酸素を加えて酸素濃度を5000ppmとした雰囲気下で1時間の熱処理を行った。これらの点以外は、実施例1と同じ方法で各形状の磁性基体を作製した。
[体積抵抗率]
円板形状の磁性基体の上面及び下面に銀ペーストを塗布して乾燥させることで電極を形成した。この電極を用いて測定した電気抵抗と、実際に採寸して求めた体積と、から体積抵抗率を算出した。
[抗折強度]
短冊形状の磁性基体に対する三点曲げ強度試験から算出した。
[比透磁率]
キーサイト・テクノロジー社製のRFインピーダンス/マテリアル・アナライザE4991Aを用い、トロイダル形状の磁性基体の透磁率を測定することで比透磁率を算出した。
[モル比]
円板形状の磁性基体を厚さ方向に沿って切断して断面を露出させ、この断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影し、エネルギー分散型X線分析(EDS)によるZAF法で、金属磁性粒子を結合させる結合部の組成を分析した。そして、結合部中に含まれるシリコン(Si)のモル量に対する結合部中に含まれる炭素(C)のモル量の割合をモル比として算出した。
11 結合部
12 酸化膜
20、26 カバー層
21~25 磁性体層
30 コイル導体
31~35 導体パターン
50~53 外部電極
60 巻芯部
61、62 鍔部
70 コイル周回部
71 被覆導線
80 回路基板
81 電極
82 半田
100、200 磁性基体
300、400 コイル部品
500 電子機器
Claims (8)
- 複数の金属磁性粒子と、
前記複数の金属磁性粒子を結合させる結合部と、を備え、
前記結合部は、シリコン、アルミニウム、クロム、マグネシウム、チタン、及びジルコニウムのうちの少なくとも1つの元素の酸化物と炭素とを含む非晶質の混合物からなり、
前記結合部の前記非晶質の混合物はシリコンの酸化物を主成分に含み、
前記結合部中に含まれるシリコンのモル量を1とした場合に対し、前記結合部中に含まれる炭素のモル量の割合であるモル比は0.4以上である、磁性基体。 - 前記結合部中に含まれるシリコンのモル量を1とした場合に対し、前記結合部中に含まれる炭素のモル量の割合であるモル比は5以下である、請求項1に記載の磁性基体。
- 前記結合部中に含まれるシリコン、アルミニウム、クロム、マグネシウム、チタン、及びジルコニウムの合計モル量を1とした場合に対し、前記結合部中に含まれる炭素のモル量の割合であるモル比は5以下である、請求項1または2に記載の磁性基体。
- 前記結合部中に含まれるシリコン、アルミニウム、クロム、マグネシウム、チタン、及びジルコニウムの合計モル量を1とした場合に対し、前記結合部中に含まれる炭素のモル量の割合であるモル比は0.4以上である、請求項1から3のいずれか一項に記載の磁性基体。
- 前記複数の金属磁性粒子の表面の少なくとも一部を覆い、膜中に炭素を実質的に含まない酸化膜を備え、
前記結合部は、前記酸化膜同士を前記結合部を介して結合させることにより、前記複数の金属磁性粒子を結合させる、請求項1から4のいずれか一項に記載の磁性基体。 - 前記複数の金属磁性粒子は鉄を主成分とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の磁性基体。
- 請求項1から6のいずれか一項に記載の磁性基体と、
前記磁性基体に設けられているコイル導体と、を備える、コイル部品。 - 請求項7に記載のコイル部品と、
前記コイル部品が実装されている回路基板と、を備える電子機器。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020025658A JP7438783B2 (ja) | 2020-02-18 | 2020-02-18 | 磁性基体、コイル部品、及び電子機器 |
US17/151,063 US11515074B2 (en) | 2020-02-18 | 2021-01-15 | Magnetic base body, coil component, and electronic device |
US17/972,441 US11830658B2 (en) | 2020-02-18 | 2022-10-24 | Method for manufacturing coil component with magnetic base body formed using metal magnetic grains and resinate |
JP2024020319A JP2024040433A (ja) | 2020-02-18 | 2024-02-14 | 積層インダクタ及び積層インダクタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020025658A JP7438783B2 (ja) | 2020-02-18 | 2020-02-18 | 磁性基体、コイル部品、及び電子機器 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024020319A Division JP2024040433A (ja) | 2020-02-18 | 2024-02-14 | 積層インダクタ及び積層インダクタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021132077A JP2021132077A (ja) | 2021-09-09 |
JP7438783B2 true JP7438783B2 (ja) | 2024-02-27 |
Family
ID=77272984
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020025658A Active JP7438783B2 (ja) | 2020-02-18 | 2020-02-18 | 磁性基体、コイル部品、及び電子機器 |
JP2024020319A Pending JP2024040433A (ja) | 2020-02-18 | 2024-02-14 | 積層インダクタ及び積層インダクタの製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024020319A Pending JP2024040433A (ja) | 2020-02-18 | 2024-02-14 | 積層インダクタ及び積層インダクタの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11515074B2 (ja) |
JP (2) | JP7438783B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014143301A (ja) | 2013-01-24 | 2014-08-07 | Tdk Corp | 磁芯およびコイル型電子部品 |
JP2017183631A (ja) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 太陽誘電株式会社 | 磁性体およびそれを有するコイル部品 |
WO2017170901A1 (ja) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 三菱マテリアル株式会社 | シリカ系絶縁被覆圧粉磁心およびその製造方法と電磁気回路部品 |
JP2019009307A (ja) | 2017-06-26 | 2019-01-17 | 太陽誘電株式会社 | 磁性材料、電子部品及び磁性材料の製造方法 |
JP2020167296A (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 太陽誘電株式会社 | Feを主成分とする金属磁性粒子を含む磁性基体及び当該磁性基体を含む電子部品 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060008706A1 (en) * | 2004-07-09 | 2006-01-12 | Takitaro Yamaguchi | Rechargeable lithium battery |
WO2014024976A1 (ja) | 2012-08-10 | 2014-02-13 | 株式会社村田製作所 | 磁性体組成物、及びコイル部品 |
JP2014196554A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-10-16 | Ntn株式会社 | 磁心用粉末および圧粉磁心、並びに磁心用粉末および圧粉磁心の製造方法 |
KR20160000329A (ko) * | 2014-06-24 | 2016-01-04 | 삼성전기주식회사 | 적층 인덕터, 적층 인덕터의 제조방법 및 적층 인덕터의 실장 기판 |
KR20180022879A (ko) * | 2015-08-04 | 2018-03-06 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 리튬 이온 이차 전지의 음극용의 합재 페이스트, 리튬 이온 이차 전지용의 음극, 리튬 이온 이차 전지용의 음극의 제조 방법 및 리튬 이온 이차 전지 |
US10622129B2 (en) * | 2016-06-30 | 2020-04-14 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Magnetic material and electronic component |
JP2019153614A (ja) | 2018-02-28 | 2019-09-12 | 株式会社豊田中央研究所 | 圧粉磁心とその製造方法および磁心用粉末 |
-
2020
- 2020-02-18 JP JP2020025658A patent/JP7438783B2/ja active Active
-
2021
- 2021-01-15 US US17/151,063 patent/US11515074B2/en active Active
-
2022
- 2022-10-24 US US17/972,441 patent/US11830658B2/en active Active
-
2024
- 2024-02-14 JP JP2024020319A patent/JP2024040433A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014143301A (ja) | 2013-01-24 | 2014-08-07 | Tdk Corp | 磁芯およびコイル型電子部品 |
JP2017183631A (ja) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 太陽誘電株式会社 | 磁性体およびそれを有するコイル部品 |
WO2017170901A1 (ja) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 三菱マテリアル株式会社 | シリカ系絶縁被覆圧粉磁心およびその製造方法と電磁気回路部品 |
JP2019009307A (ja) | 2017-06-26 | 2019-01-17 | 太陽誘電株式会社 | 磁性材料、電子部品及び磁性材料の製造方法 |
JP2020167296A (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 太陽誘電株式会社 | Feを主成分とする金属磁性粒子を含む磁性基体及び当該磁性基体を含む電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230068049A1 (en) | 2023-03-02 |
JP2024040433A (ja) | 2024-03-25 |
US11830658B2 (en) | 2023-11-28 |
JP2021132077A (ja) | 2021-09-09 |
US20210257147A1 (en) | 2021-08-19 |
US11515074B2 (en) | 2022-11-29 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230824 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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