JP7430097B2 - 偏光膜用接着組成物および偏光膜 - Google Patents
偏光膜用接着組成物および偏光膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7430097B2 JP7430097B2 JP2020067713A JP2020067713A JP7430097B2 JP 7430097 B2 JP7430097 B2 JP 7430097B2 JP 2020067713 A JP2020067713 A JP 2020067713A JP 2020067713 A JP2020067713 A JP 2020067713A JP 7430097 B2 JP7430097 B2 JP 7430097B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polarizing film
- polarizing
- layer
- adhesive composition
- protective layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims description 93
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims description 93
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 82
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 117
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 112
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 87
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 79
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 claims description 39
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 claims description 39
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 claims description 29
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 28
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical group N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 claims description 21
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 13
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 13
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical group O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 5
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 104
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 23
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 11
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 11
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 9
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 6
- -1 2-ethylhexyl Chemical group 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N Pyruvic acid Chemical compound CC(=O)C(O)=O LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 4
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-DYCDLGHISA-N deuterium hydrogen oxide Chemical compound [2H]O XLYOFNOQVPJJNP-DYCDLGHISA-N 0.000 description 3
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STOOUUMSJPLRNI-UHFFFAOYSA-N 5-amino-4-hydroxy-3-[[4-[4-[(4-hydroxyphenyl)diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-6-[(4-nitrophenyl)diazenyl]naphthalene-2,7-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC2=CC(S(O)(=O)=O)=C(N=NC=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N=NC=3C=CC(O)=CC=3)C(O)=C2C(N)=C1N=NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 STOOUUMSJPLRNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- ZBNARPCCDMHDDV-UHFFFAOYSA-N chembl1206040 Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C=C(S(O)(=O)=O)C(N=NC3=CC=C(C=C3C)C=3C=C(C(=CC=3)N=NC=3C(=CC4=CC(=CC(N)=C4C=3O)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O)C)=C(O)C2=C1N ZBNARPCCDMHDDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 2
- 229940107700 pyruvic acid Drugs 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical group CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVERNFJXXRIVQN-XSDYUOFFSA-N 5-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-[(e)-2-[4-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-sulfophenyl]ethenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1N=NC(C=C1S(O)(=O)=O)=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N=NC=2C=CC(OCC)=CC=2)C=C1S(O)(=O)=O AVERNFJXXRIVQN-XSDYUOFFSA-N 0.000 description 1
- POHJIWSCJNKSOQ-UHFFFAOYSA-N 7-anilino-4-hydroxy-3-[[2-methoxy-5-methyl-4-[(4-sulfophenyl)diazenyl]phenyl]diazenyl]naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound COc1cc(N=Nc2ccc(cc2)S(O)(=O)=O)c(C)cc1N=Nc1c(O)c2ccc(Nc3ccccc3)cc2cc1S(O)(=O)=O POHJIWSCJNKSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- RHSCFNJCBGIZAS-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(=O)OCCCOP(=O)=O Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOP(=O)=O RHSCFNJCBGIZAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N Iodine aqueous Chemical compound [K+].I[I-]I DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSMYVTOQOOLQHP-UHFFFAOYSA-N Malondialdehyde Chemical compound O=CCC=O WSMYVTOQOOLQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFUQRRYHIHJMPB-DUCFOALUSA-L Sirius red 4B Chemical compound [Na+].[Na+].OS(=O)(=O)c1cc2cc(NC(=O)c3ccccc3)ccc2c([O-])c1\N=N\c1ccc(cc1)\N=N\c1ccc(cc1)S([O-])(=O)=O UFUQRRYHIHJMPB-DUCFOALUSA-L 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCSMJKASWLYICJ-UHFFFAOYSA-N Succinic aldehyde Chemical compound O=CCCC=O PCSMJKASWLYICJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N Tetrazine Chemical compound C1=CN=NN=N1 DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- HZBTZQVWJPRVDN-UHFFFAOYSA-J copper;disodium;5-[[4-[4-[[2,6-dioxido-3-[(2-oxido-5-sulfonatophenyl)diazenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-2-oxidobenzoate;hydron Chemical compound [H+].[H+].[Na+].[Na+].[Cu+2].C1=C([O-])C(C(=O)[O-])=CC(N=NC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N=NC=2C(=C(N=NC=3C(=CC=C(C=3)S([O-])(=O)=O)[O-])C=CC=2[O-])[O-])=C1 HZBTZQVWJPRVDN-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- YOQPKXIRWPWFIE-UHFFFAOYSA-N ctk4c8335 Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(=O)=O YOQPKXIRWPWFIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- PBOIUUROGJVVNC-UHFFFAOYSA-L disodium 2-hydroxy-5-[[4-[[2-methoxy-4-[(3-sulfonatophenyl)diazenyl]phenyl]carbamoylamino]phenyl]diazenyl]benzoate Chemical compound [Na+].[Na+].COc1cc(ccc1NC(=O)Nc1ccc(cc1)N=Nc1ccc(O)c(c1)C([O-])=O)N=Nc1cccc(c1)S([O-])(=O)=O PBOIUUROGJVVNC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OYUZMQYZGSMPII-UHFFFAOYSA-L disodium 4-hydroxy-7-[(5-hydroxy-6-phenyldiazenyl-7-sulfonatonaphthalen-2-yl)amino]-3-phenyldiazenylnaphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].Oc1c(N=Nc2ccccc2)c(cc2cc(Nc3ccc4c(O)c(N=Nc5ccccc5)c(cc4c3)S([O-])(=O)=O)ccc12)S([O-])(=O)=O OYUZMQYZGSMPII-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DSARWKALPGYFTA-UHFFFAOYSA-L disodium 4-hydroxy-7-[(5-hydroxy-6-phenyldiazenyl-7-sulfonatonaphthalen-2-yl)carbamoylamino]-3-phenyldiazenylnaphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC2=CC(NC(=O)NC=3C=C4C=C(C(N=NC=5C=CC=CC=5)=C(O)C4=CC=3)S([O-])(=O)=O)=CC=C2C(O)=C1N=NC1=CC=CC=C1 DSARWKALPGYFTA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KBYNUHYIJROEHL-UHFFFAOYSA-L disodium 7-amino-2-[[4-[N-[4-[(3-carboxy-4-oxidophenyl)diazenyl]phenyl]-C-hydroxycarbonimidoyl]phenyl]diazenyl]-3-sulfonaphthalen-1-olate Chemical compound [Na+].[Na+].NC1=CC=C2C=C(C(N=NC3=CC=C(C=C3)C(=O)NC3=CC=C(C=C3)N=NC3=CC=C(O)C(=C3)C([O-])=O)=C(O)C2=C1)S([O-])(=O)=O KBYNUHYIJROEHL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LARMRMCFZNGNNX-UHFFFAOYSA-L disodium 7-anilino-3-[[4-[(2,4-dimethyl-6-sulfonatophenyl)diazenyl]-2-methoxy-5-methylphenyl]diazenyl]-4-hydroxynaphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].COc1cc(N=Nc2c(C)cc(C)cc2S([O-])(=O)=O)c(C)cc1N=Nc1c(O)c2ccc(Nc3ccccc3)cc2cc1S([O-])(=O)=O LARMRMCFZNGNNX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JCODDUJNTJDXSM-UHFFFAOYSA-L disodium 7-anilino-4-hydroxy-3-[[4-[4-[(1-hydroxy-4-sulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]naphthalene-2-sulfonate Chemical compound COC1=C(C=CC(=C1)C2=CC(=C(C=C2)N=NC3=C(C=C4C=C(C=CC4=C3[O-])NC5=CC=CC=C5)S(=O)(=O)O)OC)N=NC6=C(C7=CC=CC=C7C(=C6)S(=O)(=O)O)[O-].[Na+].[Na+] JCODDUJNTJDXSM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SUXCALIDMIIJCK-UHFFFAOYSA-L disodium;4-amino-3-[[4-[4-[(1-amino-4-sulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methylphenyl]-2-methylphenyl]diazenyl]naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(N=NC3=CC=C(C=C3C)C=3C=C(C(=CC=3)N=NC=3C(=C4C=CC=CC4=C(C=3)S([O-])(=O)=O)N)C)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 SUXCALIDMIIJCK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMDXMIHZUJPRHG-UHFFFAOYSA-N ethenyl decanoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OC=C CMDXMIHZUJPRHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N ethenyl formate Chemical compound C=COC=O GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N ethenyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OC=C BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940118019 malondialdehyde Drugs 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- FIXVWFINKCQNFG-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[(4-aminophenyl)diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC(N)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FIXVWFINKCQNFG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- QTTDXDAWQMDLOF-UHFFFAOYSA-J tetrasodium 3-[[4-[[4-[(6-amino-1-hydroxy-3-sulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]-6-sulfonatonaphthalen-1-yl]diazenyl]naphthalen-1-yl]diazenyl]naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].Nc1ccc2c(O)c(N=Nc3ccc(N=Nc4ccc(N=Nc5cc(c6cccc(c6c5)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)c5ccccc45)c4ccc(cc34)S([O-])(=O)=O)c(cc2c1)S([O-])(=O)=O QTTDXDAWQMDLOF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- WNQPPENQFWLADQ-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;4-hydroxy-5-[[4-[[4-[(8-hydroxy-3,6-disulfonatonaphthalen-1-yl)diazenyl]-2-methoxy-5-methylphenyl]carbamoylamino]-5-methoxy-2-methylphenyl]diazenyl]naphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(O)=C2C(N=NC3=C(C)C=C(C(=C3)OC)NC(=O)NC3=CC(C)=C(N=NC=4C5=C(O)C=C(C=C5C=C(C=4)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)C=C3OC)=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=C1 WNQPPENQFWLADQ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
また、カルボン酸変性のPVAとポリアミド/エピクロルヒドリンとの反応生成物を使用して偏光板の耐湿熱性を改善する方法も開示されている(特許文献2参照)。
本発明は上述のような課題を鑑みたものであり、偏光膜用接着組成物を介して偏光層に保護層を接着した偏光膜に関して、切断加工時における耐剥離性、および高温高湿環境下での耐水性をバランス良く発揮することができる技術を提供する。
[1]
ポリビニルアルコール(PVA)を含む偏光層と、トリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含む保護層とを接着する偏光膜用接着組成物であって、以下(a)~(d)の成分を含む、偏光膜用接着組成物。
(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)
(b)下記一般式(I)で示されるジアルデヒド構造を有する架橋剤
(上記一般式(I)中、nは1~6の整数を示す。)
(c)カルボン酸
(d)水
[2]
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤の含有率が0.1質量%以上10質量%以下であり、
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(c)カルボン酸の含有率が0.1質量%以上10質量%以下であり、
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(d)水の含有量が80質量%以上99質量%以下である、[1]に記載の偏光膜用接着組成物。
[3]
前記(c)カルボン酸が、多価カルボン酸である、[1]又は[2]に記載の偏光膜用接着組成物。
[4]
前記多価カルボン酸がクエン酸である、[3]に記載の偏光膜用接着組成物。
[5]
前記(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の平均重合度が300以上12000以下であり、前記(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の鹸化度が70以上99.99以下である、[1]乃至[4]のいずれか1つに記載の偏光膜用接着組成物。
[6]
前記(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤がグルタルアルデヒドである、[1]~[5]に記載の偏光膜用接着組成物。
[7]
ポリビニルアルコール(PVA)を含む偏光層と、
前記偏光層の一方の面を保護する第1保護層と、
前記偏光層と前記第1保護層とを接着する第1接着層と、
前記偏光層の他方の面を保護する第2保護層と、
前記偏光層と前記第2保護層とを接着する第2接着層と、
を備え、
前記第1保護層および前記第2保護層が、トリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含み、
前記第1接着層および前記第2接着層が、[1]乃至[6]のいずれか1つに記載の偏光膜用接着組成物の硬化物であり、
以下の条件で実施される温水浸漬検査の結果から得られる損傷指数Dが0mm以上0.5mm未満である、偏光膜。
(条件)
5cm角の試験片を作製し、5mm間隔で前記試験片の対角線方向に複数の貫通切れ込みを形成し、ビーカー内の60℃の温水に前記試験片を30分浸漬させたとき、前記貫通切れ込みについて切断箇所の保護層から浸食に伴って収縮した偏光層までの幅を測定し、その中で最大の値を損傷指数D(mm)とする。
[8]
前記第1保護層、前記第2保護層のいずれか一方の保護層が、トリアセチルセルロース(TAC)を含み、他方の保護層がトリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含む[7]に記載の偏光膜。
未変性のポリビニルアルコール(PVA)としては、たとえば、ポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。変性ポリビニルアルコールとしては、ビニルエステル単量体と、これと共重合可能な単量体との共重合体を鹸化して得られたものや、アセトアセチル変性PVAのように、未変性のポリビニルアルコールを変性することによって得られるものが挙げられる。
(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の鹸化度の下限を上記範囲とすることにより、(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の溶解時の未溶解物量を削減することが可能である。(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の鹸化度の上限を上記範囲とすることにより、(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の溶解時のハンドリング性が向上する。
ここで、(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の鹸化度は、JIS K 6726(1994)に従って測定される。
(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤は、下記一般式(I)で示される化合物である。
偏光膜用接着組成物全体に対する(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤の含有率の下限は、0.1質量%以上が好ましく、0.5質量%以上がより好ましく、1.0質量%以上がさらに好ましい。一方、(b)ジアルデヒド構造からなる架橋剤の含有率の上限は、10質量%以下が好ましく、9質量%以下がより好ましく、8質量%以下がさらに好ましく、6質量%以下がよりいっそう好ましい。
当該架橋剤の含有率の下限を上記範囲とすることにより、(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の架橋性を十分に高め、ひいては、後述する偏光層と保護層との接着力をより高めるとともに、偏光膜を作製したときの耐水性を高め、ひいては、高温高湿環境下での接着層の耐溶出性を高めることができる。一方、当該架橋剤の含有率の上限を上記範囲とすることにより、適切な架橋反応時間に調節が可能である。
(c)カルボン酸は、反応促進剤として用いられ、(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤による架橋作用を高める役割を担う。(c)カルボン酸は、1価カルボン酸としては、ピルビン酸が好ましい。多価カルボン酸として、たとえば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、フマル酸、マレイン酸、セバシン酸、アゼライン酸、アジピン酸、クエン酸、グルタル酸、酒石酸、イタコン酸、トリメリト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸などが挙げられる。(c)カルボン酸は好ましくは多価カルボン酸である。このうち、多価カルボン酸として、リンゴ酸、クエン酸が好ましく、その中でもクエン酸が最も好ましく用いられる。(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤に加えて、(c)カルボン酸を含むことで架橋性をより高めることができる。
中でも、(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤として、グルタルアルデヒドが用いられる場合、(c)カルボン酸としてクエン酸を用いることが好ましい。グルタルアルデヒドとクエン酸の組み合わせにより、架橋性をさらに高めることができる。
偏光膜用接着組成物全体に対する(c)カルボン酸の含有率の下限は0.1質量%以上が好ましく、0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上がさらに好ましい。また、(c)カルボン酸の含有率の上限は10質量%以下が好ましく、9質量%以下がより好ましく、8質量%以下がさらに好ましく、6質量%以下がよりいっそう好ましい。
(c)カルボン酸の含有率の下限を上記範囲とすることにより、(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の架橋性をより一層高め、ひいては、後述する偏光層と保護層との接着力をより高めるとともに、偏光膜を作製したときの耐水性を高め、ひいては、高温高湿環境下での耐水性を高めることができる。一方、(c)カルボン酸の含有率の上限を上記範囲とすることにより、偏光膜の製造に適したポットライフを有する偏光膜用接着組成物が得られる。
(d)水は、純水または脱イオン水であることが好ましい。本実施形態の偏光膜用接着組成物は(d)水を含むことにより、(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)が溶解するとともに、(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤および(c)カルボン酸が適度に溶解あるいは分散した水溶液となる。このため、後述する偏光層や保護層に対する偏光膜用接着組成物の濡れ性が向上するとともに、加熱により上記架橋剤による(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の架橋反応が速やかに進行し、所望の接着力を得ることができる。
(d)水の含有率の下限を上記範囲とすることにより、偏光膜用接着組成物の塗布性やハンドリング性を高めつつ、接着組成物の接着力を十分に高めることができる。一方、(d)水の含有率の上限を上記範囲とすることにより、偏光膜用接着組成物の接着力が高めることができる。
(d)水の含有率を上記範囲とすることにより、偏光膜用接着組成物の接着力が高くなる理由として、以下のように推察される。すなわち、偏光膜用接着組成物を塗布した直後は、水に分散した状態で(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)、(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤および(c)カルボン酸が共存する。その後、徐々に水が乾燥し、偏光膜用接着組成物中の成分(a)~(c)の濃度が低濃度から高濃度に変換するという過程を経ることにより、偏光膜用接着組成物の接着力が高まり、ひいては、偏光膜を切断加工したときの耐剥離性、および高温高湿環境下での接着層の耐水性をバランス良く発揮するといった性能が得られるような好適な架橋構造が得られたものと考えられる。
以下各層の詳細について説明する。
偏光層20は、具体的にはポリビニルアルコール(PVA)を含む。
また、本実施形態で使用する偏光層20(偏光素子ともいう。)は、偏光素子としての機能を有するものであれば、限定されず、公知の偏光素子を用いることができるが、例えば、有機高分子フィルムを一軸方向に延伸しヨウ素など二色性色素を吸着配向させた偏光素子、また、PVA(ポリビニルアルコール)系樹脂のフィルムより脱水反応を誘起させたり、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸反応により、ポリエンを形成させたポリエン系偏光素子、分子内にカチオン基を含有する変性PVAからなるPVA系フィルムの表面および/または内部に二色性色素を有する偏光素子などが挙げられる。
染料は、公知の方法によって製造できる染料を使用してもよく、公知の方法としては、例えば、特開平3-12606号公報に記載の方法、又は特開昭59-145255号公報の記載の方法などが挙げられる。
第1保護層40は、偏光層20の一方の主表面に後述する第1接着層30を介して積層されている。
一方、第1保護層40の厚さの上限は、偏光膜10の薄膜化を図る観点から、200μm以下が好ましく、150μm以下がより好ましく、100μm以下がさらに好ましい。
第1接着層30は、偏光層20の一方の主表面と第1保護層40との間に介在している。第1接着層30は、上述した偏光膜用接着組成物の硬化物である。
第1接着層30を用いて偏光層20と第1保護層40とを接着する方法としては、上述した偏光膜用接着組成物を用いて偏光層20に第1保護層40を貼り合わせ、加熱により水分を乾燥除去すると共に架橋反応を行わせる方法が挙げられる。加熱条件は、使用する架橋剤の種類や量に応じて、適宜最適な条件が設定される。たとえば、偏光膜用接着組成物中にグルタルアルデヒドとクエン酸を用いた場合の加熱条件は、40℃以上100℃以下で1分以上20分以下である。加熱温度を40℃以上とすることにより、前述の貼り合わせ後、接着組成物の水分を十分に除去できる。これは、偏光層及び保護層間の密着力に影響する。また、100℃以下とすることにより、前述の貼り合わせ後、内在する水分が除去されるよりも早く加熱され蒸し焼き状態を起こし偏光層20の光学特性の劣化を招くことをより好適に抑制できる。
第2保護層42は、偏光層20の他方の主表面に後述する第2接着層32を介して積層されている。第2保護層42に用いられる樹脂材料および第2保護層42の厚さは、第1保護層40と同様である。ただし、第2保護層42の厚さは、第1保護層40の厚さと同一である必要はなく、上述した第1保護層40の厚さの範囲内で使用環境により適宜最適化することができる。
第2接着層32の組成および第2接着層32の厚さは、第1接着層30と同様である。ただし、第2接着層32の厚さは、第1接着層30の厚さと同一である必要はなく、上述した第1接着層30の厚さの範囲内で使用環境により適宜最適化することができる。
偏光膜10における高温高湿下における第1及び第2の保護層と偏光層の耐水性の評価は、例えば、温度60℃湿度90%、あるいは温度80℃湿度90%試験器に投入し経時での各層の剥がれ状態を観察してもよいし、または、以下(条件)に記載する温水浸漬検査を行う効率的に接着強度を判定することができる。
(条件)
5cm角の偏光膜の試験辺を作製し、5mm間隔で前記試験辺の対角線方向に複数の貫通切れ込みを形成し、ビーカー内の60℃の温水に前記試験片を30分浸漬させる。複数の貫通切れ込みについて切断箇所の保護層から浸食に伴って収縮した偏光層までの幅を測定し、その中で最大の値を損傷指数D(mm)とする。前記の損傷指数D(mm)は、損傷がないときを0mmで示す。
実施形態に係る偏光膜10の製造方法は、周知の製膜方法を適用することができる。たとえば、偏光層20の一方の面に偏光膜用接着組成物を塗布したのち、第1保護層40を貼り付ける。これと同時に、偏光層20の他方の面に偏光膜用接着組成物を塗布したのち、第2保護層42を貼り付ける。偏光層20に偏光膜用接着組成物を介して第1保護層40および第2保護層42が積層された積層体をローラを用いて貼り合わせる。この後、60℃、10分間の加熱処理により、偏光膜用接着組成物を硬化させることにより、第1保護層40/第1接着層30/偏光層20/第2接着層32/第2保護層42がこの順で積層された偏光膜が製造される。
以下、参考形態の例を付記する。
1. ポリビニルアルコール(PVA)を含む偏光層と、トリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含む保護層とを接着する偏光膜用接着組成物であって、以下(a)~(d)の成分を含む、偏光膜用接着組成物。
(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)
(b)下記一般式(I)で示されるジアルデヒド構造を有する架橋剤
(上記一般式(I)中、nは1~6の整数を示す。)
(c)カルボン酸
(d)水
2. 前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤の含有率が0.1質量%以上10質量%以下であり、
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(c)カルボン酸の含有率が0.1質量%以上10質量%以下であり、
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(d)水の含有量が80質量%以上99質量%以下である、1.に記載の偏光膜用接着組成物。
3. 前記(c)カルボン酸が、多価カルボン酸である、1.又は2.に記載の偏光膜用接着組成物。
4. 前記多価カルボン酸がクエン酸である、3.に記載の偏光膜用接着組成物。
5. 前記(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の平均重合度が300以上12000以下であり、前記(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の鹸化度が70以上99.99以下である、1.乃至4.のいずれか1つに記載の偏光膜用接着組成物。
6. 前記(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤がグルタルアルデヒドである、1.乃至5.のいずれか1つに記載の偏光膜用接着組成物。
7. ポリビニルアルコール(PVA)を含む偏光層と、
前記偏光層の一方の面を保護する第1保護層と、
前記偏光層と前記第1保護層とを接着する第1接着層と、
前記偏光層の他方の面を保護する第2保護層と、
前記偏光層と前記第2保護層とを接着する第2接着層と、
を備え、
前記第1保護層および前記第2保護層が、トリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含み、
前記第1接着層および前記第2接着層が、1.乃至6.のいずれか1つに記載の偏光膜用接着組成物の硬化物であり、
以下の条件で実施される温水浸漬検査の結果から得られる損傷指数Dが0mm以上0.5mm未満である、偏光膜。
(条件)
5cm角の試験片を作製し、5mm間隔で前記試験片の対角線方向に複数の貫通切れ込みを形成し、ビーカー内の60℃の温水に前記試験片を30分浸漬させたとき、前記貫通切れ込みについて切断箇所の保護層から浸食に伴って収縮した偏光層までの幅を測定し、その中で最大の値を損傷指数D(mm)とする。
8. 前記第1保護層、前記第2保護層のいずれか一方の保護層が、トリアセチルセルロース(TAC)を含み、他方の保護層がトリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含む、7.に記載の偏光膜。
(接着層の作製)
表1に示す成分および含有率に従い、各成分を混合し、攪拌することにより実施例1の偏光膜用接着組成物1を作製した。
ここで、樹脂の重合度および鹸化度は、JIS K 6726(1994)に定められた方法によって求めた。
表1中、使用した化合物は以下の通りである。
PVA:デンカポバールK-17C、デンカ株式会社製
架橋剤:n=0:グリオキザール、アゼリスジャパン株式会社製
架橋剤:n=3:グルタルアルデヒド、東京化成工業株式会社製
クエン酸:富士フィルム和光純薬株式会社製
リンゴ酸:東京化成工業株式会社製
ピルビン酸:東京化成工業株式会社製
塩酸:富士フィルム和光純薬株式会社製
各成分および含有率を表1に示したものとしたことを除き、実施例1と同様な手順で各例の偏光膜用接着組成物を得た。
(偏光層の作製)
厚さ75μmの長尺ポリビニルアルコールフィルム(クラレ社製、VF-PS)をガイドロールにて連続搬送し、30℃の水浴中に浸漬させて1.5倍に膨潤させ、かつ延伸処理して2倍の延伸倍率とした後、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の染色浴(30℃)に浸漬して染色処理すると共に延伸処理して3倍の延伸倍率とし、ついでそれをホウ酸とヨウ化カリウムを添加した酸性浴(60℃)中で架橋処理すると共に延伸処理して6.5倍の延伸倍率とし、50℃で5分間乾燥させて偏光層(厚さ:30μm)を得た。
得られた偏光層の一方の面に、第1接着層となる偏光膜用接着組成物1を塗布し、第1保護層としてTACフィルム(富士フイルム社製、TG-60、厚さ:60μm)を貼り付けた。これと同時に、偏光層の他方の面に、第2接着層となる偏光膜用接着組成物1を塗布し、第2保護層としてTACフィルム(富士フイルム社製、TG-60、厚さ:60μm)を貼り付け、積層体を作製した。当該積層体を60℃、10分間、加熱し、第1接着層および第2接着層の偏光膜用接着組成物1を硬化させ、偏光膜を得た。いずれのTACフィルムも25℃の2N(規定)の水酸化ナトリウム水溶液に10分間浸漬することにより基材表面を処理したものを使用した。各接着層に用いた組成物および層構成を表2に示す。
表2に示す層構成としたことを除き、実施例1と同様な手順で実施例10~19、比較例7~19の各偏光膜を作製した。COPフィルムは接着組成物と貼り合わせる面を3m/minの速度で0.35kWの電力でコロナ処理したものを使用した。
表2中、上述のTACフィルム以外の第二保護層の材料は以下の通りである。
アクリル:大倉工業社製、OXIS-FZ、厚さ40μm
COP:日本ゼオン社製、ゼオノア ZB12、厚さ40μm
PC:帝人社製、パンライト PC-2151、厚さ125μm
実施例9~19および比較例7~19の偏光膜について切断加工時の耐剥離性を調べた。具体的には、実施例9~19および比較例7~19の各偏光膜を用いて、5cm角の試験片を作製し、当該試験片の対角線方向に複数の貫通切れ込みを形成した。複数の貫通切れ込みが形成された試験片について、損傷指数D2が0.5mm未満である場合を耐剥離性が良(○)とし、損傷指数D2が0.5mm以上である場合を耐剥離性が不良(×)とした。
比較例18については、接着組成物調整後、10分後に接着組成物の粘度が上昇し、偏光膜作成が不可であったことから、評価結果を「ゲル化」とした。
評価結果を表2に示す。
実施例9~19および比較例7~19の偏光膜について、高温高湿下での耐溶出性を評価する目的で、以下の条件で温水浸漬検査を実施し、耐溶出性を示す指標として、損傷指数D(mm)を算出した。損傷指数D(mm)が0.5mm未満である場合に、偏光膜の耐溶出性が良好であるとされる。
(条件)
5cm角の試験辺を作製し、5mm間隔で前記試験辺の対角線方向に複数の貫通切れ込みを形成し、ビーカー内の60℃の温水に前記試験片を30分浸漬させた。複数の貫通切れ込みについて切断箇所の保護層から浸食に伴って収縮した偏光層までの幅を測定し、その中で最大の値を損傷指数D(mm)とした。
比較例18については、接着組成物調整後、10分後に接着組成物の粘度が上昇し、偏光膜作成が不可であったことから、評価結果を「ゲル化」とした。
評価結果を表2に示す。
20 偏光層
30 第1接着層
32 第2接着層
40 第1保護層
42 第2保護層
Claims (7)
- ポリビニルアルコール(PVA)を含む偏光層と、トリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含む保護層とを接着する偏光膜用接着組成物であって、以下(a)~(d)の成分を含む偏光膜用接着組成物であり、
(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)
(b)下記一般式(I)で示されるジアルデヒド構造を有する架橋剤
(c)カルボン酸
(d)水
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の含有率が3質量%以上であり、
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤の含有率が0.1質量%以上1.0質量%以下であり、
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(c)カルボン酸の含有率が0.1質量%以上1.5質量%以下であり、
前記偏光膜用接着組成物全体に対する前記(d)水の含有量が80質量%以上95質量%以下である、偏光膜用接着組成物。 - 前記(c)カルボン酸が、多価カルボン酸である、請求項1に記載の偏光膜用接着組成物。
- 前記多価カルボン酸がクエン酸である、請求項2に記載の偏光膜用接着組成物。
- 前記(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の平均重合度が300以上12000以下であり、前記(a)変性または未変性のポリビニルアルコール(PVA)の鹸化度が70以上99.99以下である、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の偏光膜用接着組成物。
- 前記(b)ジアルデヒド構造を有する架橋剤がグルタルアルデヒドである、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の偏光膜用接着組成物。
- ポリビニルアルコール(PVA)を含む偏光層と、
前記偏光層の一方の面を保護する第1保護層と、
前記偏光層と前記第1保護層とを接着する第1接着層と、
前記偏光層の他方の面を保護する第2保護層と、
前記偏光層と前記第2保護層とを接着する第2接着層と、
を備え、
前記第1保護層および前記第2保護層が、トリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含み、
前記第1接着層および前記第2接着層が、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の偏光膜用接着組成物の硬化物であり、
以下の条件で実施される温水浸漬検査の結果から得られる損傷指数Dが0mm以上0.5mm未満である、偏光膜。
(条件)
5cm角の試験片を作製し、5mm間隔で前記試験片の対角線方向に複数の貫通切れ込みを形成し、ビーカー内の60℃の温水に前記試験片を30分浸漬させたとき、前記貫通切れ込みについて切断箇所の保護層から浸食に伴って収縮した偏光層までの幅を測定し、その中で最大の値を損傷指数D(mm)とする。 - 前記第1保護層、前記第2保護層のいずれか一方の保護層が、トリアセチルセルロース(TAC)を含み、他方の保護層がトリアセチルセルロース(TAC)、高延伸PET、シクロオレフィンポリマー(COP)およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの高分子材料を含む、請求項6に記載の偏光膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020067713A JP7430097B2 (ja) | 2020-04-03 | 2020-04-03 | 偏光膜用接着組成物および偏光膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020067713A JP7430097B2 (ja) | 2020-04-03 | 2020-04-03 | 偏光膜用接着組成物および偏光膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021162820A JP2021162820A (ja) | 2021-10-11 |
JP7430097B2 true JP7430097B2 (ja) | 2024-02-09 |
Family
ID=78004940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020067713A Active JP7430097B2 (ja) | 2020-04-03 | 2020-04-03 | 偏光膜用接着組成物および偏光膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7430097B2 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006321835A (ja) | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Fujifilm Holdings Corp | セルロース混合エステルフィルムおよびその製造方法 |
JP2010043158A (ja) | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Nitto Denko Corp | 偏光板用接着剤、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
JP2010077385A (ja) | 2008-03-18 | 2010-04-08 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 架橋剤、架橋高分子、およびそれらの用途 |
CN101793992A (zh) | 2009-01-30 | 2010-08-04 | 日东电工株式会社 | 层叠薄膜的制造方法 |
JP2017008309A (ja) | 2015-06-22 | 2017-01-12 | 日本合成化学工業株式会社 | 偏光板用接着剤組成物、それを用いた偏光板 |
JP2017019960A (ja) | 2015-07-14 | 2017-01-26 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感圧式接着剤、感圧式接着フィルム、およびそれを用いた光学積層体 |
JP2017032813A (ja) | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 日本合成化学工業株式会社 | 偏光板用接着剤組成物、それを用いた偏光板 |
-
2020
- 2020-04-03 JP JP2020067713A patent/JP7430097B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006321835A (ja) | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Fujifilm Holdings Corp | セルロース混合エステルフィルムおよびその製造方法 |
JP2010077385A (ja) | 2008-03-18 | 2010-04-08 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 架橋剤、架橋高分子、およびそれらの用途 |
JP2010043158A (ja) | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Nitto Denko Corp | 偏光板用接着剤、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
CN101793992A (zh) | 2009-01-30 | 2010-08-04 | 日东电工株式会社 | 层叠薄膜的制造方法 |
JP2017008309A (ja) | 2015-06-22 | 2017-01-12 | 日本合成化学工業株式会社 | 偏光板用接着剤組成物、それを用いた偏光板 |
JP2017019960A (ja) | 2015-07-14 | 2017-01-26 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感圧式接着剤、感圧式接着フィルム、およびそれを用いた光学積層体 |
JP2017032813A (ja) | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 日本合成化学工業株式会社 | 偏光板用接着剤組成物、それを用いた偏光板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021162820A (ja) | 2021-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6188187B2 (ja) | ヨウ素系偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 | |
JP4849563B2 (ja) | 偏光板およびその製造方法 | |
WO2010061706A1 (ja) | ヨウ素系偏光フィルム及びその製造方法 | |
JP6741477B2 (ja) | 偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルム、及び画像表示装置 | |
JP2019219528A (ja) | 偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルム、及び画像表示装置 | |
JP2013218106A (ja) | 偏光子、その製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 | |
KR101969636B1 (ko) | 편광판 세트 및 액정 패널 | |
WO2018190180A1 (ja) | 偏光板、画像表示装置および該画像表示装置の製造方法 | |
CN107132606B (zh) | 偏振板组及液晶面板 | |
JP2006106016A (ja) | 偏光板及びその製造方法 | |
TW201930063A (zh) | 積層體 | |
KR20160092473A (ko) | 편광자의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 편광자 | |
JP7430097B2 (ja) | 偏光膜用接着組成物および偏光膜 | |
KR102551181B1 (ko) | 편광자 보호용 수지 조성물 및 해당 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판 | |
KR102159366B1 (ko) | 투명 수지층 부착 편보호 편광 필름의 제조 방법, 점착제층 부착 편광 필름의 제조 방법, 및 화상 표시 장치의 제조 방법 | |
KR101781308B1 (ko) | 편광판 세트 및 액정 패널 | |
WO2021131237A1 (ja) | 画像表示装置および光学部材のセット | |
KR102609171B1 (ko) | 편광판용 접착제 조성물, 편광판 및 광학 표시 장치 | |
KR101748531B1 (ko) | 편광판 세트 및 액정 패널 | |
WO2019188735A1 (ja) | 偏光子の製造方法 | |
WO2022239508A1 (ja) | 光学積層体 | |
KR101674116B1 (ko) | 편광판 | |
JP5083810B2 (ja) | 偏光板およびその製造方法 | |
JP2007256501A (ja) | 偏光板 | |
JP2009151179A (ja) | 偏光板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20201124 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20230201 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20230201 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230629 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230711 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230926 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231019 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7430097 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |