JP7425484B2 - 蒸発性材料を格納するためのカートリッジおよびその方法 - Google Patents
蒸発性材料を格納するためのカートリッジおよびその方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7425484B2 JP7425484B2 JP2020568235A JP2020568235A JP7425484B2 JP 7425484 B2 JP7425484 B2 JP 7425484B2 JP 2020568235 A JP2020568235 A JP 2020568235A JP 2020568235 A JP2020568235 A JP 2020568235A JP 7425484 B2 JP7425484 B2 JP 7425484B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cartridge
- housing
- gas permeable
- evaporable
- permeable member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 115
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 144
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 138
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 46
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 8
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 21
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 17
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 16
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 15
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 15
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 13
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 13
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 13
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 5
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 5
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 5
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 5
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 description 4
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 4
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
本出願は、2018年6月8日に出願された米国仮出願第62/682,726号の利益および優先権を主張し、その内容は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
(項目1)
薄膜を堆積させるためのシステムであって、前記システムは、
(i)蒸発性材料を受け入れるためのレセプタクルを画定し、蒸気がカートリッジから排出されることを可能にするように構成された開口を画定するカートリッジであって、
(a)前記レセプタクルと前記開口との間の蒸気経路に配置されたガス透過性部材と、
(b)前記ガス透過性部材と前記開口との間の蒸気経路に配置されたバッフルとを備えるカートリッジと;
(ii)前記カートリッジを加熱して前記蒸発性材料を蒸発させ、それにより第1の蒸気ストリームを生成するように構成された加熱要素とを備え、
前記システムは、前記第1の蒸気ストリームを前記ガス透過性部材上に凝縮させて、その上に中間コーティングを形成するように構成され、
前記システムは、前記中間コーティングを再蒸発させて第2の蒸気ストリームを生成するように構成され、前記第2の蒸気ストリームは、前記開口を通して排出される、システム。
(項目2)
前記システムが、前記蒸発性材料を第1の温度で加熱して第1の蒸気ストリームを生成するように構成され、また前記中間コーティングを第2の温度で加熱して前記第2の蒸気ストリームを生成するように構成され、前記第2の温度は、前記第1の温度よりも低い、項目1に記載のシステム。
(項目3)
前記バッフルが、前記ガス透過性部材と前記開口との間の直接的な見通し線を阻害するように構成される、項目1または2に記載のシステム。
(項目4)
前記カートリッジが、ハウジングをさらに備え、前記レセプタクル、前記ガス透過性部材、および前記バッフルが、前記ハウジングの内側に配置される、項目1から3のいずれか一項に記載のシステム。
(項目5)
前記カートリッジが、前記ハウジングに取り付けられたキャップ部分をさらに備え、前記キャップ部分は、前記開口を画定し、前記開口は、前記レセプタクルと流体連通して蒸気が前記カートリッジから排出されることを可能にする、項目4に記載のシステム。
(項目6)
前記カートリッジが、前記ハウジングと前記ガス透過性部材との間の熱伝導を阻害するように構成される、項目4または5に記載のシステム。
(項目7)
前記カートリッジが、その中に前記ガス透過性部材を受け入れるための空洞を画定する空洞部分をさらに備える、項目4から6のいずれか一項に記載のシステム。
(項目8)
前記空洞部分が、前記ハウジングの内側に配置され、前記空洞部分が、前記ハウジングの壁から離間している、項目7に記載のシステム。
(項目9)
前記空洞部分が、前記ハウジング内の中央に配置されている、項目8に記載のシステム。
(項目10)
前記カートリッジが、前記空洞部分を含むスリーブをさらに備え、前記スリーブは、前記ハウジングに取り付けられている、項目7から9のいずれか一項に記載のシステム。
(項目11)
前記空洞が、前記空洞部分の第1の開口を介して前記レセプタクルと流体連通しており、前記レセプタクル内で生成された前記第1の蒸気ストリームが前記空洞内の前記ガス透過性部材に入射することを可能にする、項目7から10のいずれか一項に記載のシステム。
(項目12)
前記第2の蒸気ストリームが前記開口を通して排出される前に、前記空洞部分内で生成された前記第2の蒸気ストリームを前記バッフルに入射するように方向付けるための第2の開口部が前記空洞部分に提供されている、項目11に記載のシステム。
(項目13)
前記ガス透過性部材が、有孔部材、メッシュ、ふるい、多孔質部材、またはそれらの2つ以上の任意の組み合わせを含む、項目1から12のいずれか一項に記載のシステム。
(項目14)
前記レセプタクル内に配置された蒸発性材料をさらに備える、項目1から13のいずれか一項に記載のシステム。
(項目15)
前記蒸発性材料が、蒸発性コーティングであり、前記蒸発性コーティングは、非水平に配向したキャリア表面上に配置される、項目14に記載のシステム。
(項目16)
前記キャリア表面は、実質的に垂直に配向している、項目15に記載のシステム。
(項目17)
前記ハウジングが、前記キャリア表面を提供する、項目15または16に記載のシステム。
(項目18)
前記蒸発性材料が、単一のモノリシック構造である、項目14に記載のシステム。
(項目19)
前記蒸発性材料が、実質的に垂直に配向した表面および非垂直に配向した表面を備え、前記実質的に垂直に配向した表面に対応する表面積は、前記非垂直に配向した表面に対応する表面積よりも大きい、項目18に記載のシステム。
(項目20)
前記蒸発性材料と前記ハウジングとの間にギャップが提供される、項目18または19に記載のシステム。
(項目21)
前記蒸発性材料の前記実質的に垂直に配向した表面と前記ハウジングとの間にギャップが提供される、項目19に記載のシステム。
(項目22)
前記蒸発性材料が、無機材料を含む、項目14から21のいずれか一項に記載のシステム。
(項目23)
前記蒸発性材料が、フラーレンを含む、項目14から21のいずれか一項に記載のシステム。
(項目24)
前記フラーレンが、C 60 、C 70 、C 76 、C 84 、またはそれらの2つ以上の任意の混合物を含む、項目23に記載のシステム。
(項目25)
前記蒸発性材料が、金属を含む、項目14から21のいずれか一項に記載のシステム。
(項目26)
前記蒸発性材料が、アルミニウム、銀、銅、マグネシウム、イッテルビウム、亜鉛、カドミウム、またはそれらの2つ以上の任意の混合物を含む、項目25に記載のシステム。
(項目27)
前記蒸発性材料が、マグネシウムを含む、項目25に記載のシステム。
(項目28)
薄膜の堆積に使用するためのカートリッジであって、
(i)蒸発性材料を受け入れるためのレセプタクルを画定し、蒸気が前記カートリッジから排出されることを可能にするように構成された開口を画定する本体と;
(ii)前記レセプタクルと前記開口との間の蒸気経路における前記本体の内側に配置されたガス透過性部材と;
(iii)前記ガス透過性部材と前記開口との間の蒸気経路における前記本体の内側に配置されたバッフルとを備えるカートリッジ。
(項目29)
前記本体が、ハウジングを含み、前記レセプタクル、前記ガス透過性部材、および前記バッフルが、前記ハウジングの内側に配置される、項目28に記載のカートリッジ。
(項目30)
前記本体が、前記ハウジングに取り付けられたキャップ部分をさらに備え、前記キャップ部分は、前記開口を画定し、前記開口は、蒸気が前記カートリッジから排出されることを可能にするために、前記レセプタクルと流体連通している、項目29に記載のカートリッジ。
(項目31)
前記ガス透過性部材が、前記ハウジングの内側に配置され、前記ハウジングの壁から離間している、項目29または30に記載のカートリッジ。
(項目32)
前記ガス透過性部材が、前記ハウジング内の中央に配置される、項目31に記載のカートリッジ。
(項目33)
前記ガス透過性部材が、有孔部材、メッシュ、ふるい、多孔質部材、またはそれらの2つ以上の任意の組み合わせを含む、項目28~32のいずれか一項に記載のカートリッジ。
(項目34)
前記レセプタクル内に配置された前記蒸発性材料をさらに備える、項目28から33のいずれか一項に記載のカートリッジ。
Claims (30)
- 薄膜を堆積させるためのシステムであって、前記システムは、
蒸発性材料を受け入れるためのレセプタクルを画定するカートリッジであって、前記カートリッジは、蒸気が前記カートリッジから排出されることを可能にするように構成された開口を画定し、前記カートリッジは、
前記レセプタクルと前記開口との間の蒸気経路に配置されたガス透過性部材と、
前記ガス透過性部材と前記開口との間の蒸気経路に配置されたバッフルと
を備える、カートリッジと、
前記カートリッジを加熱して前記蒸発性材料を蒸発させ、それにより第1の蒸気ストリームを生成するように構成された加熱要素と
を備え、
前記システムは、前記第1の蒸気ストリームを前記ガス透過性部材上に凝縮させて、その上に中間コーティングを形成するように構成され、
前記システムは、前記中間コーティングを再蒸発させて第2の蒸気ストリームを生成するように構成され、前記第2の蒸気ストリームは、前記開口を通して排出され、
前記カートリッジが、ハウジングをさらに備え、前記レセプタクル、前記ガス透過性部材、および前記バッフルが、前記ハウジングの内側に配置され、
前記カートリッジが、前記ハウジングに取り付けられたキャップ部分をさらに備え、前記キャップ部分は、前記開口を画定し、前記開口は、前記レセプタクルと流体連通して蒸気が前記カートリッジから排出されることを可能にする、システム。 - 前記システムが、前記蒸発性材料を第1の温度で加熱して第1の蒸気ストリームを生成するように構成され、また前記中間コーティングを第2の温度で加熱して前記第2の蒸気ストリームを生成するように構成され、前記第2の温度は、前記第1の温度よりも低い、請求項1に記載のシステム。
- 前記バッフルが、前記ガス透過性部材と前記開口との間の直接的な見通し線を阻害するように構成される、請求項1または2に記載のシステム。
- 前記カートリッジが、前記ハウジングと前記ガス透過性部材との間の熱伝導を阻害するように構成される、請求項1に記載のシステム。
- 前記カートリッジが、その中に前記ガス透過性部材を受け入れるための空洞を画定する空洞部分をさらに備える、請求項1~4のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記空洞部分が、前記ハウジングの内側に配置され、前記空洞部分が、前記ハウジングの壁から離間している、請求項5に記載のシステム。
- 前記空洞部分が、前記ハウジング内の中央に配置されている、請求項6に記載のシステム。
- 前記カートリッジが、前記空洞部分を含むスリーブをさらに備え、前記スリーブは、前記ハウジングに取り付けられている、請求項5~7のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記空洞が、前記空洞部分の第1の開口を介して前記レセプタクルと流体連通しており、前記レセプタクル内で生成された前記第1の蒸気ストリームが前記空洞内の前記ガス透過性部材に入射することを可能にする、請求項5~8のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記第2の蒸気ストリームが前記開口を通して排出される前に、前記空洞部分内で生成された前記第2の蒸気ストリームを前記バッフルに入射するように方向付けるための第2の開口部が前記空洞部分に提供されている、請求項9に記載のシステム。
- 前記ガス透過性部材が、有孔部材、メッシュ、ふるい、多孔質部材、またはそれらの2つ以上の任意の組み合わせを含む、請求項1~10のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記レセプタクル内に配置された蒸発性材料をさらに備える、請求項1~11のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、蒸発性コーティングであり、前記蒸発性コーティングは、非水平に配向したキャリア表面上に配置される、請求項12に記載のシステム。
- 前記キャリア表面は、実質的に垂直に配向している、請求項13に記載のシステム。
- 前記ハウジングが、前記キャリア表面を提供する、請求項13または14に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、単一のモノリシック構造である、請求項12に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、実質的に垂直に配向した表面および非垂直に配向した表面を備え、前記実質的に垂直に配向した表面に対応する表面積は、前記非垂直に配向した表面に対応する表面積よりも大きい、請求項16に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料と前記ハウジングとの間にギャップが提供される、請求項16または17に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料の前記実質的に垂直に配向した表面と前記ハウジングとの間にギャップが提供される、請求項17に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、無機材料を含む、請求項12~19のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、フラーレンを含む、請求項12~19のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記フラーレンが、C60、C70、C76、C84、またはそれらの2つ以上の任意の混合物を含む、請求項21に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、金属を含む、請求項12~19のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、アルミニウム、銀、銅、マグネシウム、イッテルビウム、亜鉛、カドミウム、またはそれらの2つ以上の任意の混合物を含む、請求項23に記載のシステム。
- 前記蒸発性材料が、マグネシウムを含む、請求項23に記載のシステム。
- 薄膜の堆積に使用するためのカートリッジであって、
蒸発性材料を受け入れるためのレセプタクルを画定し、蒸気が前記カートリッジから排出されることを可能にするように構成された開口を画定する本体と、
前記レセプタクルと前記開口との間の蒸気経路における前記本体の内側に配置されたガス透過性部材と、
前記ガス透過性部材と前記開口との間の蒸気経路における前記本体の内側に配置されたバッフルと
を備え、前記本体が、ハウジングを含み、前記レセプタクル、前記ガス透過性部材、および前記バッフルが、前記ハウジングの内側に配置され、
前記本体が、前記ハウジングに取り付けられたキャップ部分をさらに備え、前記キャップ部分は、前記開口を画定し、前記開口は、前記レセプタクルと流体連通して蒸気が前記カートリッジから排出されることを可能にする、カートリッジ。 - 前記ガス透過性部材が、前記ハウジングの内側に配置され、前記ハウジングの壁から離間している、請求項26に記載のカートリッジ。
- 前記ガス透過性部材が、前記ハウジング内の中央に配置される、請求項27に記載のカートリッジ。
- 前記ガス透過性部材が、有孔部材、メッシュ、ふるい、多孔質部材、またはそれらの2つ以上の任意の組み合わせを含む、請求項26~28のいずれか一項に記載のカートリッジ。
- 前記レセプタクル内に配置された前記蒸発性材料をさらに備える、請求項26~29のいずれか一項に記載のカートリッジ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862682726P | 2018-06-08 | 2018-06-08 | |
US62/682,726 | 2018-06-08 | ||
PCT/IB2019/054788 WO2019234715A1 (en) | 2018-06-08 | 2019-06-07 | Cartridge for containing an evaporable material and method therefor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021527165A JP2021527165A (ja) | 2021-10-11 |
JP7425484B2 true JP7425484B2 (ja) | 2024-01-31 |
Family
ID=68770743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020568235A Active JP7425484B2 (ja) | 2018-06-08 | 2019-06-07 | 蒸発性材料を格納するためのカートリッジおよびその方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7425484B2 (ja) |
KR (1) | KR20210018923A (ja) |
CN (1) | CN112384638A (ja) |
WO (1) | WO2019234715A1 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006225758A (ja) | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
JP2016502734A (ja) | 2012-11-06 | 2016-01-28 | オーティーアイ ルミオニクス インコーポレーテッドOti Lumionics Inc. | 導電性コーティングを表面に堆積する方法 |
JP2018501406A (ja) | 2014-12-19 | 2018-01-18 | タタ、スティール、ネダーランド、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップTata Steel Nederland Technology Bv | 蒸気流から粒子を除去するためのフィルターデバイス |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5104695A (en) * | 1989-09-08 | 1992-04-14 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for vapor deposition of material onto a substrate |
-
2019
- 2019-06-07 KR KR1020217000540A patent/KR20210018923A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-06-07 WO PCT/IB2019/054788 patent/WO2019234715A1/en active Application Filing
- 2019-06-07 JP JP2020568235A patent/JP7425484B2/ja active Active
- 2019-06-07 CN CN201980035551.2A patent/CN112384638A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006225758A (ja) | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
JP2016502734A (ja) | 2012-11-06 | 2016-01-28 | オーティーアイ ルミオニクス インコーポレーテッドOti Lumionics Inc. | 導電性コーティングを表面に堆積する方法 |
JP2018501406A (ja) | 2014-12-19 | 2018-01-18 | タタ、スティール、ネダーランド、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップTata Steel Nederland Technology Bv | 蒸気流から粒子を除去するためのフィルターデバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019234715A1 (en) | 2019-12-12 |
KR20210018923A (ko) | 2021-02-18 |
JP2021527165A (ja) | 2021-10-11 |
CN112384638A (zh) | 2021-02-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5848822B2 (ja) | 気相蒸着システム及び供給ヘッド | |
JP2004052113A (ja) | 加熱容器とそれを利用した蒸着装置 | |
TWI421367B (zh) | 成膜裝置、蒸發治具及測定方法 | |
JP5877245B2 (ja) | 気相蒸着方法及び気相蒸着装置 | |
JP5877244B2 (ja) | 気相蒸着材料ソース及びその作製方法 | |
US4748313A (en) | Apparatus by the continuous vaporization of inorganic compositions by means of a photon-generating thermal source of radiation heat | |
JP6324609B1 (ja) | 固体材料容器およびその固体材料容器に固体材料が充填されている固体材料製品 | |
JP2008121098A (ja) | 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置 | |
TW200904998A (en) | Deposition source, deposition apparatus, and forming method of organic film | |
JPWO2011071064A1 (ja) | 有機薄膜の成膜装置および有機材料成膜方法 | |
WO2005113857A1 (en) | Bubbler for constant vapor delivery of a solid chemical | |
EP1713948A2 (en) | Vacuum deposition method and sealed-type evaporation source apparatus for vacuum deposition | |
KR20220116523A (ko) | 고체 및 액체 재료를 위한 증기 전달 시스템 | |
JP7425484B2 (ja) | 蒸発性材料を格納するためのカートリッジおよびその方法 | |
US20180274083A1 (en) | Centrifugal evaporation sources | |
JPH07157868A (ja) | 抵抗加熱型蒸発源及びそれを用いる薄膜形成方法 | |
JPH05214537A (ja) | 固体昇華用の気化器 | |
KR101772621B1 (ko) | 하향식 증발기 및 하향식 증발 증착 장치 | |
TWI791534B (zh) | 沉積oled之方法 | |
WO2007081298A1 (fr) | Procédé de production de matériau contenant du carbone par évaporation sous vide par bombardement électronique de carbone puis par condensation sur un substrat et dispositif de mise en oeuvre de ce procédé | |
KR20200087874A (ko) | 개선된 앰플 증발기 및 용기 | |
KR100829736B1 (ko) | 진공 증착장치의 가열용기 | |
CN116368257A (zh) | 用于涂覆眼镜片的气相沉积方法、物理气相沉积系统及用于物理气相沉积的坩埚 | |
JP6282852B2 (ja) | 蒸着装置、成膜方法及び有機el装置の製造方法 | |
JPH09209126A (ja) | 真空蒸着装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230920 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231221 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240112 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7425484 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |