JP7422882B2 - リニアックにおける共振器周波数と位相のデジタルサンプリングによる制御 - Google Patents

リニアックにおける共振器周波数と位相のデジタルサンプリングによる制御 Download PDF

Info

Publication number
JP7422882B2
JP7422882B2 JP2022541801A JP2022541801A JP7422882B2 JP 7422882 B2 JP7422882 B2 JP 7422882B2 JP 2022541801 A JP2022541801 A JP 2022541801A JP 2022541801 A JP2022541801 A JP 2022541801A JP 7422882 B2 JP7422882 B2 JP 7422882B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
clock
input
delay
adc
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022541801A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2023510256A (ja
Inventor
キース イー. コバル,
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=74851805&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP7422882(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Publication of JP2023510256A publication Critical patent/JP2023510256A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7422882B2 publication Critical patent/JP7422882B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H7/00Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
    • H05H7/02Circuits or systems for supplying or feeding radio-frequency energy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32137Radio frequency generated discharge controlling of the discharge by modulation of energy
    • H01J37/32155Frequency modulation
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F1/00Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
    • G06F1/04Generating or distributing clock signals or signals derived directly therefrom
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/022Details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/08Ion sources; Ion guns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32137Radio frequency generated discharge controlling of the discharge by modulation of energy
    • H01J37/32146Amplitude modulation, includes pulsing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03LAUTOMATIC CONTROL, STARTING, SYNCHRONISATION OR STABILISATION OF GENERATORS OF ELECTRONIC OSCILLATIONS OR PULSES
    • H03L7/00Automatic control of frequency or phase; Synchronisation
    • H03L7/06Automatic control of frequency or phase; Synchronisation using a reference signal applied to a frequency- or phase-locked loop
    • H03L7/08Details of the phase-locked loop
    • H03L7/081Details of the phase-locked loop provided with an additional controlled phase shifter
    • H03L7/0812Details of the phase-locked loop provided with an additional controlled phase shifter and where no voltage or current controlled oscillator is used
    • H03L7/0814Details of the phase-locked loop provided with an additional controlled phase shifter and where no voltage or current controlled oscillator is used the phase shifting device being digitally controlled
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03MCODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
    • H03M1/00Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
    • H03M1/12Analogue/digital converters
    • H03M1/1205Multiplexed conversion systems
    • H03M1/121Interleaved, i.e. using multiple converters or converter parts for one channel
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03MCODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
    • H03M1/00Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
    • H03M1/12Analogue/digital converters
    • H03M1/124Sampling or signal conditioning arrangements specially adapted for A/D converters
    • H03M1/1245Details of sampling arrangements or methods
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H7/00Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
    • H05H7/14Vacuum chambers
    • H05H7/18Cavities; Resonators
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H7/00Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
    • H05H7/22Details of linear accelerators, e.g. drift tubes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H9/00Linear accelerators
    • H05H9/04Standing-wave linear accelerators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/04Means for controlling the discharge
    • H01J2237/047Changing particle velocity
    • H01J2237/0473Changing particle velocity accelerating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/31701Ion implantation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H7/00Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
    • H05H7/02Circuits or systems for supplying or feeding radio-frequency energy
    • H05H2007/025Radiofrequency systems

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Description

本開示の実施形態は、リニアック(LINAC)共振器素子から受信したアナログ波形をデジタル化し、そのアナログ波形の周波数及び位相を検出し、その波形の周波数及び位相を制御するシステムに関するものである。
半導体デバイスの製造には、複数の個別のかつ複雑なプロセスが伴う。これらのプロセスの一部では、イオンがワークピースに向かって加速される。これらのイオンは、幾つかの方法で加速させることができる。例えば、正電荷のイオンを引き付け、加速させるために電場が一般的に使用される。
特定の実施形態では、直線加速器(すなわちリニアック)が、これらのイオンを加速するために使用され得る。特定の実施形態では、リニアックは、各々がそこを通過するイオンを更に加速させる役割を果たす複数のRFキャビティを含む。リニアックは、各RFキャビティにそれぞれの共振周波数で電圧が印加されると、最適に動作し得る。
リニアックはイオンを加速させるのに有用であるが、その使用に伴う課題がある。例えば、特定の実施形態では、それぞれの共振器の効果を最大にするために、互いに一定の時間関係でキャビティに電圧を印加し得る。しかし、この時間関係を作り出し、維持することは困難である場合がある。
その結果、リニアックの各キャビティに印加される電圧とその結果得られる共振出力とを監視することが有利になり得る。更に、入力電圧の位相を経時的に監視する能力は、リニアックの性能を最大化するのに役立つ場合がある。しかし、これらの信号の位相を監視することは困難である場合がある。
したがって、リニアックの各キャビティに関連するアナログ電圧及び/又は電流の位相と周波数をデジタル的に測定できるシステムがあれば有利である。このシステムが、従来のアナログデジタル変換器を用いてサブナノ秒の解像度を達成できれば有益である。
入力アナログ波形の位相を測定し、制御するためのシステムが開示される。本システムは、入力アナログ波形をデジタル表現に変換するアナログデジタル変換器を備える。本システムはまた、ADCのサンプルクロックにプログラム可能な量の遅延を導入することを可能にするクロック遅延発生器を含む。本システムは更に、クロック遅延発生器によって用いられる遅延を操作し、ADCからの出力を記憶するコントローラを備える。次に、コントローラは、デジタル化表現を用いて、入力アナログ波形の周波数、その位相ドリフト、及びマスタークロックに対するその位相を決定することができる。次に、コントローラは、これらの決定に応じてRF発生器の出力を変更することができる。
一実施形態によれば、イオン注入システムが開示される。イオン注入システムは、イオンを発生させるイオン源と;イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と;キャビティのうちの1つに近接して配置されたピックアップループと;ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と;入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、ADCのためのサンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器と;処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラとを備え、コントローラは、ADCからの出力を記憶し、クロック遅延発生器によって用いられる遅延量を調整し、入力アナログ波形のデジタル化表現がメモリデバイスに作成されるまで、出力の記憶及び遅延量の調整を繰り返し行う。特定の実施形態では、デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である。幾つかの実施形態では、ADCの最大サンプルレートはデジタル化表現の解像度より低い。特定の実施形態では、イオン注入システムは、ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む入力と、出力と、第2のサンプルクロックとを含む第2のADCを更に備え、第2のサンプルクロックの位相はサンプルクロックとは異なる。特定の実施形態では、イオン注入システムは、RF発生器を備え、コントローラは、デジタル化表現に基づいてRF発生器の出力を変更する。特定の実施形態では、コントローラは、デジタル化表現を用いて入力アナログ波形の位相ドリフトを決定し、位相ドリフトを修正するためにRF発生器の周波数又は振幅を調整する。特定の実施形態では、コントローラは、マスタークロックと入力アナログ波形との間の位相遅延を測定し、所望の位相遅延を達成するためにRF発生器の周波数又は振幅を調整する。特定の実施形態では、イオン注入システムは、グローバルコントローラを備え、デジタル化表現が解析のためにグローバルコントローラに送信される。
別の実施形態によれば、イオン注入システムが開示される。イオン注入システムは、イオンを発生させるイオン源と;イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と;1又は複数のキャビティのうちの1つにおいて励起コイルを励起するための電気信号を供給するRF発生器と;励起コイルに供給される電気信号を表すアナログ励起電圧を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と;入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、ADCのサンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器と;処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラとを備え、コントローラは、ADCからの出力を記憶し、クロック遅延発生器によって用いられる遅延量を調整し、アナログ励起電圧のデジタル化表現がメモリデバイスに作成されるまで、出力の記憶及び遅延量の調整を繰り返し行う。特定の実施形態では、コントローラは、デジタル化表現を用いてアナログ励起電圧の位相ドリフトを決定し、位相ドリフトを修正するためにRF発生器の周波数又は振幅を調整する。幾つかの実施形態では、コントローラは、マスタークロックとデジタル化表現との間の位相遅延を測定し、所望の位相遅延を達成するためにRF発生器の周波数又は振幅を調整する。幾つかの実施形態では、デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である。特定の実施形態では、ADCの最大サンプルレートはデジタル化表現の解像度より低い。
別の実施形態によれば、イオン注入システムが開示される。イオン注入システムは、イオンを発生させるイオン源と;イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と;1又は複数のキャビティのうちの1つにおいて励起コイルを励起するための電気信号を供給するRF発生器と;キャビティのうちの1つに近接して配置されたピックアップループと;入力アナログ波形を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と;入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、ADCのためのサンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器と;処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラとを備える。特定の実施形態では、イオン注入システムは、ADCの入力と通信する出力を有し、ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む第1の入力と、励起コイルに供給される電気信号を表すアナログ励起電圧を含む第2の入力との2つの入力を有するアナログマルチプレクサを備える。特定の実施形態では、イオン注入システムは、励起コイルに供給される電気信号を表すアナログ励起電圧を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有する第2のアナログデジタル変換器(ADC)と、入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、第2のADCのためのサンプルクロックを含む出力とを有する第2のクロック遅延発生器とを備え、第2のADCの出力はコントローラへの入力を含み、ADCへの入力はピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む。特定の実施形態では、コントローラは、ADC及び第2のADCからの出力を記憶し、クロック遅延発生器及び第2のクロック遅延発生器によって用いられる遅延量を調整し、入力アナログ波形及びアナログ励起電圧のデジタル化表現がメモリデバイスに作成されるまで、出力の記憶及び遅延量の調整を繰り返し行う。特定の実施形態では、コントローラは、デジタル化表現を用いて、入力アナログ波形とアナログ励起電圧との間の位相差を決定し、位相差に基づいてRF発生器の周波数又は振幅を調整する。特定の実施形態では、デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である。特定の実施形態では、ADC及び第2のADCの最大サンプルレートはデジタル化表現の解像度より低い。
本開示のより良い理解のために、参照により本明細書に組み込まれる添付図面を参照する。
一実施形態に係る直線加速器、又はリニアックを用いたイオン注入システムを示すブロック図である。 一実施形態に係る監視制御回路を示す図である。 サブナノ秒の解像度を有するデジタル化波形を作成するためのシーケンスを示す図である。 A~Fは、図3のシーケンスを用いたデジタル化波形の作成を示す図である。 共振器コイルの周波数を決定し、制御するためのシーケンスを示す図である。 共振器コイルの位相を決定し、制御するためのシーケンスを示す図である。 A~Bは、2つの異なるシナリオにおける図6のシーケンスの結果を示す図である。 第2の実施形態に係る監視制御回路を示す図である。 第3の実施形態に係る監視制御回路を示す図である。
上述したように、直線加速器を用いて、イオンをワークピースに向かって加速させることができる。図1は、イオン注入システム1を示す図である。イオン注入システム1は、イオン源10を備える。イオン源10は、限定しないが、間接加熱カソード(IHC)源、ベルナス源、容量結合プラズマ源、誘導結合プラズマ源、又は他の任意の適切な装置等、任意の適切なイオン源であってよい。イオン源10は、それを通ってイオン源10からイオンが抽出され得る開孔を有する。これらのイオンは、イオン源10の外側に配置され且つ抽出開孔に近接する1又は複数の電極20に負の電圧を印加することによって、イオン源10から抽出され得る。電極20は、イオンが特定の時間に出て行くようにパルス化され得る。出て行くイオン群は、バンチと称され得る。
その後、イオンは、特定の質量電荷比を有するイオンを通過させる磁石であってよい質量分析器30に入ることができる。この質量分析器30を用いて、所望のイオンのみが分離される。その後、直線加速器40に入るのは、所望のイオンである。
直線加速器40は、1又は複数のキャビティ41を含む。各キャビティ41は、励起コイル45によって生じる電磁場によって電圧が印加され得る共振器コイル42を含む。励起コイル45は、それぞれの共振器コイル42と共にキャビティ41に配置される。励起コイル45は、RF信号であり得る励起電圧によって電圧が印加される。励起電圧は、それぞれのRF発生器44から供給され得る。すなわち、各励起コイル45に印加される励起電圧は、他の任意の励起コイル45に供給される励起電圧とは独立であり得る。各励起電圧は、好ましくは、それぞれのキャビティ41の共振周波数で変調される。励起電圧の大きさ及び位相は、RF発生器44と通信する監視制御回路100によって決定及び変更され得る。共振器コイル42をキャビティ41に配置することにより、振幅は同じままで、励起電圧の大きさを増加させることができる、又は位相をシフトさせることができる。
各キャビティ41内に、それぞれのチューナパドル46があってよい。チューナパドル46は、それ自体のキャビティ41内での位置を変更するように、アクチュエータと通信していてよい。チューナパドル46の位置は、キャビティ41の共振周波数に影響を与え得る。アクチュエータは、監視制御回路100によって制御され得る。
励起コイル45に励起電圧が印加されると、共振器コイル42に電圧が誘起される。その結果、各キャビティ41の共振器コイル42が、正弦波電圧で駆動される。各共振器コイル42は、それぞれの加速器電極43と電気的に通信していてよい。イオンは、各加速器電極43の開孔を通過する。
特定の加速器電極43内へのバンチの進入は、バンチが近づくと加速器電極43の電位が負になり、バンチが加速器電極43を通過すると正に切り替わるようなタイミングとする。こうすると、バンチは加速器電極43に入るときに加速され、出るときに反発される。この結果、バンチが加速される。このプロセスを、直線加速器40の各加速器電極43について繰り返し行う。各加速器電極はイオンの加速度を増加させ、測定することができる。
バンチは直線加速器40を出た後、ワークピース50に注入される。
当然ながら、イオン注入システム1は、リボンビームを生成するための静電スキャナ、四重極素子、ビームを加速又は減速させるための追加電極及び他の素子等の他の構成要素を含み得る。
特定の実施形態では、イオン注入システム1は、監視制御回路100も含む。特定の実施形態では、各キャビティ41に対して別々の監視制御回路100が存在する。図1には、単一の監視制御回路100のみを示す。しかし、これらの構成要素は、各キャビティ41に対して反復していてよい。例えば、各キャビティ41は、それぞれのRF発生器44と監視制御回路100とに関連付けられ得る。
各励起コイル45は、単一の共振周波数に同調される。これは、RF発生器44を用いて、チューナパドル46を操作することで達成される。
監視制御回路100は、キャビティ41のうちの1つに近接して又はその中に配置されたピックアップループ101を含む。キャビティ41の近傍又は内部の電磁場によって、ピックアップループ101に正弦波電圧が誘起される。ピックアップループ101は、単にループ状のワイヤであってよい、又はプリント基板であってよい。
特定の実施形態では、電流電圧変換器47を用いて、RF発生器44が励起コイル45に供給する電流を電圧に変換する。
また、グローバルコントローラ90も図示されている。グローバルコントローラ90は、複数の監視制御回路100と通信していてよい。グローバルコントローラ90は、イオン注入システム1の他の部分によって使用されるマスタークロックを作成し得る。グローバルコントローラ90は、処理装置91及びメモリデバイス92を含み得る。処理装置91は、マイクロプロセッサ、信号プロセッサ、カスタマイズされたフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、又は他の適切な装置であってよい。このメモリデバイス92は、FLASH ROM、電気的に消去可能なROM、又は他の適切なデバイス等の不揮発性メモリであってよい。他の実施形態では、メモリデバイス92は、RAM又はDRAM等の揮発性メモリであってよい。メモリデバイス92は、グローバルコントローラ90が本明細書に記載のタスクを実行することを可能にする命令を含む。
図2は、監視制御回路100の第1の実施形態を示す図である。
監視制御回路100は、前置増幅器110を含む。前置増幅器110は、ピックアップループ101に誘起された正弦波信号を増幅するために用いられる。例えば、前置増幅器110の出力111は、0~10ボルトの間、又は±5ボルトの間の電圧であってよい。他の実施形態では、前置増幅器110の出力111は、異なる範囲の電圧を有し得る。この出力111は、入力アナログ波形と称され得る。
前置増幅器110の出力111は、アナログデジタル変換器(ADC)130への入力として機能し得る。ADC130は、前置増幅器110から受信された入力アナログ波形をサンプリングし、そのアナログ波形のデジタル表現を生成する。デジタル表現は、特定の実施形態では、8、12又は16ビット表現であってよい。ADC130は、クロック遅延発生器120からの出力123に基づいてアナログ波形をサンプリングする。
更に、前置増幅器110の出力111は、ゼロクロス検出器115への入力として機能し得る。ゼロクロス検出器115は、オペアンプ、オプトカプラ、又は他の任意の適切な方法を用いて構築され得る。ゼロクロス検出器115は、入力アナログ波形が正又は負のいずれかの方向にゼロボルトを横切るたびに、遷移を有する出力116を作成する。
更に、監視制御回路100は、コントローラ150を含む。コントローラ150は、処理装置151と、関連するメモリデバイス152とを含み得る。このメモリデバイス152は、処理装置151によって実行されると、コントローラ150が本明細書に記載の機能を実行することを可能にする命令を含む。処理装置151は、マイクロプロセッサ、信号プロセッサ、カスタマイズされたフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、又は他の適切な装置であってよい。このメモリデバイス152は、FLASH ROM、電気的に消去可能なROM、又は他の適切なデバイス等の不揮発性メモリであってよい。他の実施形態では、メモリデバイス152は、RAM又はDRAM等の揮発性メモリであってよい。コントローラ150は、ADC130から受信したデータを記憶するための第2のメモリデバイス153、及び他の関連回路を含み得る。
例えば、一実施形態では、クロック遅延発生器120へのクロック信号121は、マスタークロックであってよい。このマスタークロックは、入力アナログ波形に対して既知の関係を有し得る。例えば、マスタークロックの周波数は、2、4又は別の倍数等の、入力アナログ波形の周波数の倍数であり得る。他の実施形態では、入力アナログ波形の各周期に対し、マスタークロックはN周期であり得る。マスタークロックは、実装態様に応じて、25MHz~200MHzの間の周波数を有し得る。
コントローラ150はまた、クロック遅延発生器120がクロック信号121に付加すべき遅延量を示す1又は複数の制御信号122をクロック遅延発生器120に供給する。クロック遅延発生器120は、デジタル制御された遅延線であってよく、制御信号122を用いて付加されるべき遅延量を示す。例えば、複数の制御信号122は、マルチビットバイナリ値を形成していてよく、その値は、遅延を示すものである。他の実施形態では、クロック遅延発生器120へシリアルデータストリームを送信する1つの制御信号があり得る。
前述のように、クロック遅延発生器120へのクロック信号121は、マスタークロックであってよい。コントローラ150によって制御信号122が供給され、制御信号122は入力信号に付加されるべき遅延量を表す。最後に、クロック遅延発生器120からの出力123は、コントローラ150によって指定された量だけ遅延されたクロック信号121である。
制御信号122をクロック遅延発生器120へ供給することに加えて、コントローラ150は、ADC130から出力131を受信する。この出力131は、第2のメモリデバイス153に記憶されてよく、以下により詳細に説明するように、サブナノ秒の解像度を有する入力アナログ波形のデジタルバージョンを作成するために使用される。
最後に、コントローラ150は、RF発生器44を制御するために使用される出力154を供給し得る。オプションとして、コントローラ150は、チューナパドル46を制御するために使用される第2の出力155も有し得る。所望により、グローバルコントローラ90によって、入力アナログ波形のデジタルバージョンも読み出され得る。グローバルコントローラ90は、欠陥等の異常についてデジタルバージョンを分析し得る。
コントローラ150は、ピックアップループ101からの入力アナログ波形が周期的であると仮定する。したがって、コントローラ150は、1つの周期で波形の全体を取り込もうとするのではなく、複数の周期に渡って波形を取り込む。このプロセスを図3に示し、その結果を図4A~図4Fに示す。
例えば、クロック遅延発生器120への入力信号が、入力アナログ波形の周波数のN倍以上の周波数を有するマスタークロックであると仮定する。したがって、入力アナログ波形のN個のサンプルを各周期に取得することが可能である。また、クロック遅延発生器120によって付加される遅延は、最小遅延時間、又はTdの倍数であると仮定する。コントローラ150は、ボックス300に示すように、ゼロクロス検出器115からのゼロクロスの指示があるまで待機する。これを用いて、収集期間の開始が示される。収集期間中、コントローラ150は、入力アナログ波形を再構築するために十分な数のデジタル化サンプルを収集する。例えば、入力されるアナログ波形が25MHzの周波数を有する場合、0.4ナノ秒間隔で配置された100個のサンプルを使用して、入力アナログ波形を再構成することができる。このように、デジタル化波形は、ADC130の最小サンプル時間より小さい解像度を有する。
更に、サンプル時間を更に短縮することができる。一実施形態では、デジタル化サンプルを取得するために、2つ以上のADCが使用される。これら2つ以上のADCは、入力アナログ波形の異なる値を取り込むために、異なる遅延で動作し得る。別の言い方をすれば、第2のADCに供給されるサンプルクロックの位相は、ADC130に供給されるサンプルクロックの位相とは異なるということである。別の実施形態では、マスタークロックの両方の遷移を用いて、ADC130のサンプルレートを2倍にすることができる。これは、1つのADCを用いて、又はADC130とは反対の遷移でサンプリングする第2のADCを用いて達成され得る。これらのアプローチを用いて、デジタル化表現の解像度を増加させることができる、デジタル化表現を作成する時間を短縮することができる、又はその両方が可能である。
最初に、コントローラ150は、制御信号122を第1の遅延時間に設定し得る。この第1の遅延時間は、最小の許容遅延、又は1×Tdを表し得る。他の実施形態では、異なる第1の遅延時間が使用され得る。
したがって、ADC130は、1×Tdであってよい第1の遅延時間に等しい時間において、入力アナログ波形のデジタル表現を提供することになる。この時間に取られた第1のサンプルを、図4Aに示す。コントローラ150は、ボックス310に示すように、この第1の遅延時間を用いて複数のサンプルを受信し得る。例えば、コントローラ150は、この遅延を用いてN個のサンプルを受信し得る。この実施形態では、コントローラ150は、値:
サンプル(n)=sin(Fπn/N+(1×Td)+φ)
を有するN個のサンプルを受信することになる。
上記式において、Fは入力アナログ波形の周波数、nはサンプル数、1×Tdは制御信号122によって示される遅延、φはマスタークロックとゼロクロスの位相差である。
ゼロクロスにも同期され得る後の時間に、コントローラ150は、次に、ボックス320に示すように、2×Td等の異なる遅延を提供するように制御信号122を変更することができる。
したがって、ADC130は、次に、Fπn/N+(2×Td)+φに等しい時間における入力アナログ波形のデジタル値表現を得ることになる。
マスタークロックが入力アナログ波形の周波数の倍数である場合、特定のサンプル(サンプル(n))はサンプル(n-N)からちょうど2つの遅延時間の差だけオフセットされることになる。つまり、この例では、サンプル(n)は、サンプル(n-N)から1×Tdの位相だけオフセットしている。したがって、第2の遅延で取られたサンプルは、図4Bに示すように、前のサンプルに時間的に近いものとなる。この例では、コントローラ150は、ボックス330に示すように、この遅延を用いてN個のサンプルを受信することができる。
したがって、コントローラ150は、絶対時間を用いるのではなく、相対時間(すなわち、モジュロFπ)を用いて波形を作成する。図4C~図4Eは、コントローラ150が、それぞれ3×Td、4×Td及び5×Tdに等しい遅延で、入力アナログ波形を再構成し続ける様子を示している。十分なサンプルが収集されると、ボックス340に示すように、収集期間が終了する。
このようにして、図4Fに示すように、入力アナログ波形のデジタルバージョンをサブナノ秒の解像度で作成することができる。
更に、図4A~図4Eでは、各遅延時間に対して1つのサンプルしか追加されていないが、マスタークロックが入力アナログ波形よりも高い周波数であれば、複数のサンプルが追加され得ることを理解すべきである。
例えば,入力アナログ波形の周波数が25MHz,マスタークロックが100MHzで,N=4と仮定する。マスタークロック間の位相差はφであると仮定する。また、最小時間遅延は0.5nsと仮定する。従って、ゼロクロス後、コントローラ150は4つのサンプル:
Sample(n)=sin(Fπn/N+(1Td)+φ)
を取り込むことになり、
sin(2πn/4+0.5ns+φ)に換算される。
したがって、最初の4つのサンプルは次のようになる:
サンプル(1)=sin(π/2+0.5ns+φ);
サンプル(2)=sin(π+0.5ns+φ);
サンプル(3)=sin(3π/2+0.5ns+φ);及び、
サンプル(4)=sin(2π+0.5ns+φ)。
その後、遅延は2Td、又は1.0nsに変更される。従って、次の4つのサンプルは次のようになる。
サンプル(5)=sin(π/2+1.0ns+φ);
サンプル(6)=sin(π+1.0ns+φ);
サンプル(7)=sin(3π/2+1.0ns+φ);及び
サンプル(8)=sin(2π+1.0ns+φ)。
これは、遅延がπ/2になるまで続き、その時点で波形のすべてのポイントが埋まることになる。
コントローラ150は、これらのデジタル値の各々を第2のメモリ153に記憶し得る。特定の実施形態では、デジタル値は、波形中のそれらの時間を示すアドレスの場所に記憶される。このようにして、デジタル化サンプルが、時間的順序で記憶され得る。
更に、特定の実施形態では、クロック遅延発生器120は、Nで割った入力アナログ波形の周期と少なくとも同じ大きさの遅延を導入することが可能であり得る。
したがって、マスタークロックが入力アナログ波形の周波数の4倍の周波数で動作すると仮定すると、コントローラ150は、入力アナログ波形のわずか25周期で100個のサンプルを有するデジタル化波形を生成することが可能であり得る。入力アナログ波形が12.5MHzの周波数を有する場合、これは、サンプルが約0.8ナノ秒の間隔になることを意味する。200個のサンプルを用いてデジタル化波形を作成した場合、サンプルは0.4ナノ秒の間隔になり得る。
したがって、デジタル化サンプルは、入力アナログ波形をサブナノ秒の解像度で非常に正確に表現し得る。
このデジタル化波形は、様々な方法で利用することができる。まず、デジタル化波形は、入力アナログ波形の周期を非常に正確に決定することを可能にする。したがって、入力アナログ波形の周期が予期したものと異なる場合、コントローラ150は、出力154を操作して、RF発生器44の周波数を変更することができる。その後、コントローラ150は、上述のプロセスを再び繰り返して、入力アナログ波形の新たな周期を決定し得る。
このように、一実施形態では、デジタル化波形を用いて、入力アナログ波形の周波数を確認する。そのシーケンスを図5に示す。まず、ボックス500に示すように、図3に示すシーケンス等を用いてデジタル化波形が収集される。次に、ボックス510に示すように、デジタル化波形の周期が決定される。これは、2つのゼロクロス間のサンプル数、2つのピーク間のサンプル数、又は他のパラメータを用いてカウントすることによって行うことができる。次に、サンプル数が、マスタークロックの周波数に基づく時間又は周波数に変換される。次に、コントローラ150は、周波数が正しいか否かを決定し得る。周波数が正しい場合、それ以上の動作は行われず、ボックス530に示すようにプロセスは終了する。しかしながら、周波数が正しくない場合、コントローラ150は出力154を操作して、RF発生器44の周波数を変更することができる。セトリング時間の後、コントローラ150は、次に、周波数が正しくなるまでこのプロセスを繰り返す。
更に、コントローラ150は、デジタル化サンプルを用いて、小さい位相シフト又はドリフトを検出し得る。図6に、入力アナログ波形の位相シフトを決定するためにコントローラ150が用いるシーケンスを示す。まず、ボックス600に示すように、コントローラ150は、図3で説明したように、第1のデジタル化波形を取得し得る。次に、コントローラ150は、所定時間待機し得る。その後、コントローラ150は、ボックス610に示すように、第2のデジタル化波形を取得する。次に、コントローラ150は、ボックス620に示すように、これら2つのデジタル化波形間の位相差を算出する。例えば、入力アナログ波形の周波数がマスタークロックの1/Nに正確に等しい場合、両方のデジタル化波形は、ノイズを考慮して、同一になる。しかし、入力アナログ波形の周波数がマスタークロックの1/Nに正確に等しくない場合、第1のデジタル化サンプルと第2のデジタル化サンプルの開始位相は異なることになる。更に、第1のデジタル化波形のピーク及びゼロクロスは、第2のデジタル化波形のピーク及びゼロクロスと同じ位置ではなくなる。一実施形態では、コントローラ150は、2つのデジタル化波形間のオフセットを、サンプル数の関数として決定する。サンプル数の差にマスタークロックの周期を乗じれば、2つのデジタル化波形間の位相差が示される。図7Bに示すように位相が一致する場合、それ以上の動作は行われず、ボックス640に示すようにシーケンスは完了する。図7Aに示すように位相が一致しない場合、コントローラ150は、ボックス630に示すように、RF発生器44の周波数又は振幅を変更し得る。セトリング時間の後、コントローラ150は、次に、周波数が正しくなるまでこのプロセスを繰り返す。
更に、コントローラ150は、入力アナログ波形の位相をマスタークロックに対して調節し得る。上述したように、特定の加速器電極43へのバンチの進入は、バンチが近づくと加速器電極43の電位が負になり、バンチが加速器電極43を通過するときに正に切り替わるようなタイミングに設定される。こうすることで、バンチは加速器電極43に入るときに加速され、出るときに反発される。この効果を最大限にするためには、各加速器電極43の位相が適切に相関している必要がある。
したがって、コントローラ150は、デジタル化波形を用いて誘導電圧の位相を決定し得る。例えば、デジタル化波形をマスタークロック信号と比較して、位相を決定し得る。
別の言い方をすれば、ゼロクロス後、コントローラ150は、クロック遅延発生器120に対する遅延時間を変更することにより、デジタル化波形を収集する。しかし、そのデジタル化波形の開始は、最小の遅延時間を有する入力アナログ波形の値を反映する。この値を次に用いて、その時点のデジタル化表現の位相を決定することができる。入力アナログ波形の周波数と振幅がわかれば、デジタル化表現の任意点の位相は、位相=sin-1(値/A)として容易に求めることができ、上記式において、値はデジタル化波形の値であり、Aは最大振幅である。この位相を、入力アナログ波形の周波数の基づく絶対時間遅延に変換することができる。あるいは、次のゼロクロスまでのサンプル数を用いて、マスタークロックと入力アナログ波形との間の位相遅延(又は位相リード)を決定することができる。
各コントローラ150は、グローバルコントローラ90から所望の位相を指示され得る。次に、コントローラ150は、この位相を達成しようとする。例えば、コントローラ150は、RF発生器44の周波数を調整し得る。別の実施形態では、コントローラ200は、キャビティ41のチューナパドル46の位置を変更して、誘導電圧の所望の位相を調整し得る。
上記の説明では、ピックアップループ101から受信した入力アナログ波形に関する監視制御回路100の動作について説明したが、更なる機能も可能である。
例えば、監視制御回路100は、励起コイル45に供給される励起電流を監視することもできる。まず、上述したように、電流は、電流電圧変換器47を用いて電圧に変換される。その後、アナログ励起電圧は、監視制御回路100への入力として供給される。その後、アナログ励起電圧は、ピックアップループ101からのアナログ波形に関して上述したのと同様の方法でデジタル化され得る。これは、様々な方法で達成され得る。
まず、図8に示すように、アナログマルチプレクサ114を用いて、ピックアップループ101からの入力アナログ波形と、電流電圧変換器47からのアナログ励起電圧とを選択し得る。このように、コントローラ150は、アナログマルチプレクサ114への選択入力を操作することによって、2つの入力のうちの1つを選択することができる。コントローラ150は次に、アナログマルチプレクサ114を操作することによって、これら両方のアナログ波形のデジタル化表現を生成することができる。
あるいは、図9に示すように、第2のADC930、第2のクロック遅延発生器920、及び第2のゼロクロス検出器915を含むことにより、監視制御回路100がアナログ励起電圧をデジタル化するのを可能にすることができる。このデジタル化は、上述したのと同じ方法で行われ得る。
デジタル化励起電圧を用いて、RF発生器44の周波数を求めることができ、マスタークロックに対するアナログ励起電圧の位相を決定することができる。周波数及び位相情報は、図5及び図6に関して上述したアルゴリズムを用いて取得することができる。
更に、コントローラ150は、ピックアップループ101からの入力アナログ波形をアナログ励起電圧と比較することもできる。例えば、アナログ励起電圧とピックアップループ101からの入力アナログ波形との間の位相差は、上述した技法を用いて決定され得る。一実施形態では、これら2つの波形間の位相差は、マスタークロックに対する各信号の位相差を決定することによって算出される。別の実施形態では、これら2つの波形間の位相差は、2つのデジタル化表現を比較することによって算出される。この位相差を用いて、RF発生器44の振幅及び/又は周波数を制御することができる。
上記の開示は、通常の動作について説明したものである。しかし、他の要因も考慮され得る。例えば、デジタル化波形は、欠陥が発生したことを示す場合がある。欠陥が発生した場合、コントローラ150は、グローバルコントローラ90に情報を提供し得る。グローバルコントローラ90は、コントローラ150に対して、共振キャビティ41を再調整するように指示し得る、又は他の何らかの動作を起こし得る。
更に、温度変化、キャビティ真空、及び振動が、キャビティ41の自然共振周波数に影響を与える可能性がある。コントローラ150は、入力アナログ波形の周波数と位相を連続的に監視することができる。その最大振幅における位相又は周波数の変化は、自然共振周波数のドリフトを示す可能性がある。コントローラ150は、修正措置を開始し得る。例えば、一実施形態では、コントローラ150は、キャビティ41でチューナパドル46を移動させて、共振周波数を再取得することができる。コントローラ150は、共振周波数の全ての変化をグローバルコントローラ90に報告し得る。その後、グローバルコントローラ90は、コントローラ200に何らかの修正措置をとるよう指示し得る。
本システムには多くの利点がある。受信アナログ信号をサブナノ秒の解像度で監視できるため、デジタルコントローラが様々な判断を下し、様々な修正措置を講じることが可能になる。以前は、アナログ回路を用いて位相を決定することがあり、その場合、校正及び再校正が必要で、精度が低下していた。更に、このアプローチでは、入力アナログ波形の1又は複数の周期を取り込み、欠陥等の異常を分析することが可能である。また、サブナノ秒の解像度により、コントローラが1ナノ秒未満の位相ドリフトを観察することができる。したがって、リニアックの精度と効率を向上させることができる。
本開示は、本明細書に記載の特定の実施形態によって範囲が限定されるものではない。実際に、本明細書に記載されたものに加えて、本開示の他の様々な実施形態及び変更が、前述の説明及び添付の図面から当業者に明らかになるであろう。したがって、そのような他の実施形態及び変更は、本開示の範囲内に含まれるものとする。更に、本開示を、本明細書で特定の目的のための特定の環境における特定の実装態様の文脈で説明してきたが、当業者であれば、その有用性がそれらに限定されず、本開示が、任意の数の目的のための任意の数の環境で有益に実装され得ることを認識するであろう。したがって、以下に示す特許請求の範囲は、本明細書に記載の本開示の全域と主旨を考慮して解釈されるべきである。

Claims (20)

  1. イオン注入システムであって、
    イオンを発生させるイオン源と、
    前記イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と、
    前記キャビティのうちの1つに近接して配置されたピックアップループと、
    前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と、
    入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記ADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器であって、出力される前記ADCのための前記サンプルクロックは、前記入力クロックを前記遅延量だけ遅延させたクロックである、クロック遅延発生器と、
    処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラと
    を備え、
    前記コントローラは、
    前記ADCからの前記出力を記憶し、前記クロック遅延発生器によって用いられる前記遅延量を調整し、かつ
    前記入力アナログ波形のデジタル化表現が前記メモリデバイスに作成されるまで、前記出力の記憶及び前記遅延量の調整を繰り返し行う、
    イオン注入システム。
  2. 前記デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である、請求項1に記載のイオン注入システム。
  3. 前記ADCの最大サンプルレートは前記デジタル化表現の解像度より低い、請求項2に記載のイオン注入システム。
  4. 前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む入力と、出力と、第2のサンプルクロックとを有する第2のADCを更に備え、前記第2のサンプルクロックの位相は前記サンプルクロックとは異なる、請求項1に記載のイオン注入システム。
  5. 前記1又は複数のキャビティのうちの1つにおいて励起コイルを励起するための電気信号を供給するRF発生器を更に備え、前記コントローラは、前記デジタル化表現に基づいて前記RF発生器の出力を変更する、請求項1に記載のイオン注入システム。
  6. 前記コントローラは、前記デジタル化表現を用いて前記入力アナログ波形の位相ドリフトを決定し、前記位相ドリフトを修正するために前記RF発生器の周波数を調整する、請求項5に記載のイオン注入システム。
  7. 前記コントローラは、マスタークロックと前記入力アナログ波形との間の位相遅延を測定し、所望の位相遅延を達成するために前記RF発生器の周波数を調整する、請求項5に記載のイオン注入システム。
  8. グローバルコントローラを更に備え、前記デジタル化表現が解析のために前記グローバルコントローラに送信される、請求項1に記載のイオン注入システム。
  9. イオン注入システムであって、
    イオンを発生させるイオン源と、
    前記イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と、
    前記1又は複数のキャビティのうちの1つにおいて励起コイルを励起するための電気信号を供給するRF発生器と、
    前記励起コイルに供給される前記電気信号を表すアナログ励起電圧を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と、
    入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記ADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器であって、出力される前記ADCのための前記サンプルクロックは、前記入力クロックを前記遅延量だけ遅延させたクロックである、クロック遅延発生器と、
    処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラと
    を備え、
    前記コントローラは、
    前記ADCからの前記出力を記憶し、
    前記クロック遅延発生器によって用いられる前記遅延量を調整し、
    前記アナログ励起電圧のデジタル化表現が前記メモリデバイスに作成されるまで、前記出力の記憶及び前記遅延量の調整を繰り返し行う、
    イオン注入システム。
  10. 前記コントローラは、前記デジタル化表現を用いて前記アナログ励起電圧の位相ドリフトを決定し、前記位相ドリフトを修正するために前記RF発生器の周波数を調整する、請求項9に記載のイオン注入システム。
  11. 前記コントローラは、マスタークロックと前記デジタル化表現との間の位相遅延を測定し、所望の位相遅延を達成するために前記RF発生器の周波数を調整する、請求項9に記載のイオン注入システム。
  12. 前記デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である、請求項9に記載のイオン注入システム。
  13. 前記ADCの最大サンプルレートは前記デジタル化表現の解像度より低い、請求項12に記載のイオン注入システム。
  14. イオン注入システムであって、
    イオンを発生させるイオン源と、
    前記イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と、
    前記1又は複数のキャビティのうちの1つにおいて励起コイルを励起するための電気信号を供給するRF発生器と、
    前記キャビティのうちの1つに近接して配置されたピックアップループと、
    前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と、
    入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記ADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器であって、出力される前記ADCのための前記サンプルクロックは、前記入力クロックを前記遅延量だけ遅延させたクロックである、クロック遅延発生器と、
    処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラと
    を備える、イオン注入システム。
  15. 記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む第1の入力と、前記励起コイルに供給される前記電気信号を表すアナログ励起電圧を含む第2の入力との2つの入力を有し、かつ、前記ADCの前記入力として前記ADCに供給される出力を有する、アナログマルチプレクサを更に備える、請求項14に記載のイオン注入システム。
  16. 前記励起コイルに供給される前記電気信号を表すアナログ励起電圧を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有する第2のアナログデジタル変換器(ADC)と、
    入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記第2のADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有する第2のクロック遅延発生器であって、出力される前記第2のADCのための前記サンプルクロックは、前記入力クロックを前記遅延量だけ遅延させたクロックである、第2のクロック遅延発生器
    を更に備え、
    前記第2のADCの前記出力は前記コントローラへの入力を含み、前記ADCへの前記入力は前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む、請求項14に記載のイオン注入システム。
  17. 前記コントローラは、
    前記ADC及び前記第2のADCからの前記出力を記憶し、
    前記クロック遅延発生器及び前記第2のクロック遅延発生器によって用いられる遅延を調整し、
    前記入力アナログ波形及び前記アナログ励起電圧のデジタル化表現が前記メモリデバイスに作成されるまで、前記出力の記憶及び前記遅延の調整を繰り返し行う、請求項16に記載のイオン注入システム。
  18. 前記コントローラは、前記デジタル化表現を用いて、前記入力アナログ波形と前記アナログ励起電圧との間の位相差を決定し、前記位相差に基づいて前記RF発生器の周波数を調整する、請求項17に記載のイオン注入システム。
  19. 前記デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である、請求項17に記載のイオン注入システム。
  20. 前記ADC及び前記第2のADCの最大サンプルレートは、前記デジタル化表現の解像度より低い、請求項19に記載のイオン注入システム。
JP2022541801A 2020-01-09 2020-12-11 リニアックにおける共振器周波数と位相のデジタルサンプリングによる制御 Active JP7422882B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/738,021 2020-01-09
US16/738,021 US10943767B1 (en) 2020-01-09 2020-01-09 Digital sampling to control resonator frequency and phase in a LINAC
PCT/US2020/064441 WO2021141722A1 (en) 2020-01-09 2020-12-11 Digital sampling to control resonator frequency and phase in a linac

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023510256A JP2023510256A (ja) 2023-03-13
JP7422882B2 true JP7422882B2 (ja) 2024-01-26

Family

ID=74851805

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022541801A Active JP7422882B2 (ja) 2020-01-09 2020-12-11 リニアックにおける共振器周波数と位相のデジタルサンプリングによる制御

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10943767B1 (ja)
JP (1) JP7422882B2 (ja)
KR (1) KR20220123438A (ja)
CN (1) CN114946276A (ja)
TW (1) TWI767479B (ja)
WO (1) WO2021141722A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11555791B2 (en) * 2019-12-03 2023-01-17 Corning Incorporated Chamber for vibrational and environmental isolation of thin wafers
US11476087B2 (en) * 2020-08-03 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Ion implantation system and linear accelerator having novel accelerator stage configuration
US11825590B2 (en) * 2021-09-13 2023-11-21 Applied Materials, Inc. Drift tube, apparatus and ion implanter having variable focus electrode in linear accelerator
US11856685B2 (en) 2021-09-20 2023-12-26 Applied Materials, Inc. Stiffened RF LINAC coil inductor with internal support structure

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003535439A (ja) 2000-05-30 2003-11-25 アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド 共振器及び増幅器の統合システム
US20040256578A1 (en) 2002-11-11 2004-12-23 Applied Materials, Inc. Ion implanter and a method of implanting ions
JP2007265966A (ja) 2006-01-18 2007-10-11 Axcelis Technologies Inc デジタル周波数合成およびデジタル位相合成を応用して電極電圧の位相を制御する高エネルギーイオン注入装置、並びに、電極電圧の位相を正確に較正する方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040227106A1 (en) * 2003-05-13 2004-11-18 Halling Alfred M. System and methods for ion beam containment using localized electrostatic fields in an ion beam passageway
US6949895B2 (en) * 2003-09-03 2005-09-27 Axcelis Technologies, Inc. Unipolar electrostatic quadrupole lens and switching methods for charged beam transport
US20080128641A1 (en) * 2006-11-08 2008-06-05 Silicon Genesis Corporation Apparatus and method for introducing particles using a radio frequency quadrupole linear accelerator for semiconductor materials
DE102007027069B3 (de) * 2007-06-12 2008-10-23 Texas Instruments Deutschland Gmbh Elektronische Vorrichtung und Verfahren zur chipintegrierten Zeitversatzmessung
US8514007B1 (en) * 2012-01-27 2013-08-20 Freescale Semiconductor, Inc. Adjustable power splitter and corresponding methods and apparatus
US9429624B2 (en) * 2014-04-17 2016-08-30 Colin Patrick O'Flynn Synchronous sampling of internal state for investigation of digital systems
US9774299B2 (en) * 2014-09-29 2017-09-26 Nxp Usa, Inc. Modifiable signal adjustment devices for power amplifiers and corresponding methods and apparatus
JP6662549B2 (ja) * 2016-11-21 2020-03-11 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 イオン注入方法およびイオン注入装置
KR20180058243A (ko) * 2016-11-23 2018-06-01 주식회사 현택 선형가속기의 rf 파워 모니터링 시스템

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003535439A (ja) 2000-05-30 2003-11-25 アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド 共振器及び増幅器の統合システム
US20040256578A1 (en) 2002-11-11 2004-12-23 Applied Materials, Inc. Ion implanter and a method of implanting ions
JP2007265966A (ja) 2006-01-18 2007-10-11 Axcelis Technologies Inc デジタル周波数合成およびデジタル位相合成を応用して電極電圧の位相を制御する高エネルギーイオン注入装置、並びに、電極電圧の位相を正確に較正する方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
岩井瑛人 他,「次世代放射光施設入射器におけるMTCA.4規格を用いたデジタルLLRFシステムの評価」,第16回日本加速器学会年会アブストラクト集,2019年,p.130-134

Also Published As

Publication number Publication date
CN114946276A (zh) 2022-08-26
KR20220123438A (ko) 2022-09-06
TWI767479B (zh) 2022-06-11
WO2021141722A1 (en) 2021-07-15
US10943767B1 (en) 2021-03-09
JP2023510256A (ja) 2023-03-13
TW202143279A (zh) 2021-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7422882B2 (ja) リニアックにおける共振器周波数と位相のデジタルサンプリングによる制御
JP3761223B2 (ja) 四重極イオントラップ内での周波数変調を利用した選択イオン分離方法
US4220854A (en) Method for the contactless measurement of the potential waveform in an electronic component and apparatus for implementing the method
US20100193684A1 (en) Quadrupole mass spectrometer
JP3084750B2 (ja) 質量分析装置において減少した振幅変動を持つ広帯域信号及びフィルター済ノイズ信号を発生する方法
JPH03506098A (ja) フーリエ変換による質量分光のための任意励起スペクトラムを発生する装置及び方法
EP1222680A2 (en) Methods and apparatus for driving a quadrupole ion trap device
JP7373656B2 (ja) 絶縁されたライナック共振器ピックアップ回路
CA3166860A1 (en) Time-domain analysis of signals for charge detection mass spectrometry
JP4009325B2 (ja) イオントラップ質量分光計の操作方法
RU2222025C2 (ru) Устройство и способ преобразования потока носителей заряда в частотный сигнал
US20070162232A1 (en) Analysis methods, analysis device waveform generation methods, analysis devices, and articles of manufacture
GB2461965A (en) Evaluation and correction of frequency mass spectra
JP4506260B2 (ja) イオン蓄積装置におけるイオン選別の方法
JP2005071826A (ja) 質量分析装置
JPH04500270A (ja) 信号の経過を非同期的に測定する方法及び装置
JPH1027570A (ja) 四重極質量分析装置
JP5293562B2 (ja) イオントラップ質量分析装置
JP6637393B2 (ja) 四重極型質量分析計及び質量分析方法
JP3551091B2 (ja) イオントラップ形質量分析装置及びその制御方法
Steinmann et al. Continuous Bunch-by-Bunch Reconstruction of Short Detector Pulses
Durickovic et al. RF cavity phase calibration using electromagnetic pickups
JP7074214B2 (ja) 質量分析装置
Bruker et al. Beam test of a harmonic kicker cavity
Podobedov Beam Dynamics Measurements with New Generation BPMs

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220824

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230725

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240116

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7422882

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150