JP2023510256A - リニアックにおける共振器周波数と位相のデジタルサンプリングによる制御 - Google Patents
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Abstract
Description
サンプル(n)=sin(F*2*π*n/N+(1×Td)+φ)
を有するN個のサンプルを受信することになる。
Sample(n)=sin(F*2*π*n/N+(1*Td)+φ)
を取り込むことになり、
sin(2*π*n/4+0.5ns+φ)に換算される。
サンプル(1)=sin(π/2+0.5ns+φ);
サンプル(2)=sin(π+0.5ns+φ);
サンプル(3)=sin(3π/2+0.5ns+φ);及び、
サンプル(4)=sin(2π+0.5ns+φ)。
サンプル(5)=sin(π/2+1.0ns+φ);
サンプル(6)=sin(π+1.0ns+φ);
サンプル(7)=sin(3π/2+1.0ns+φ);及び
サンプル(8)=sin(2π+1.0ns+φ)。
Claims (20)
- イオン注入システムであって、
イオンを発生させるイオン源と、
前記イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と、
前記キャビティのうちの1つに近接して配置されたピックアップループと、
前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と、
入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記ADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器と、
処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラと
を備え、
前記コントローラは、
前記ADCからの前記出力を記憶し、前記クロック遅延発生器によって用いられる前記遅延量を調整し、かつ
前記入力アナログ波形のデジタル化表現が前記メモリデバイスに作成されるまで、前記出力の記憶及び前記遅延量の調整を繰り返し行う、
イオン注入システム。 - 前記デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である、請求項1に記載のイオン注入システム。
- 前記ADCの最大サンプルレートは前記デジタル化表現の解像度より低い、請求項2に記載のイオン注入システム。
- 前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む入力と、出力と、第2のサンプルクロックとを有する第2のADCを更に備え、前記第2のサンプルクロックの位相は前記サンプルクロックとは異なる、請求項1に記載のイオン注入システム。
- RF発生器を更に備え、前記コントローラは、前記デジタル化表現に基づいて前記RF発生器の出力を変更する、請求項1に記載のイオン注入システム。
- 前記コントローラは、前記デジタル化表現を用いて前記入力アナログ波形の位相ドリフトを決定し、前記位相ドリフトを修正するために前記RF発生器の周波数又は振幅を調整する、請求項5に記載のイオン注入システム。
- 前記コントローラは、マスタークロックと前記入力アナログ波形との間の位相遅延を測定し、所望の位相遅延を達成するために前記RF発生器の周波数又は振幅を調整する、請求項5に記載のイオン注入システム。
- グローバルコントローラを更に備え、前記デジタル化表現が解析のために前記グローバルコントローラに送信される、請求項1に記載のイオン注入システム。
- イオン注入システムであって、
イオンを発生させるイオン源と、
前記イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と、
前記1又は複数のキャビティのうちの1つにおいて励起コイルを励起するための電気信号を供給するRF発生器と、
前記励起コイルに供給される前記電気信号を表すアナログ励起電圧を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と、
入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記ADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器と、
処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラと
を備え、
前記コントローラは、
前記ADCからの前記出力を記憶し、
前記クロック遅延発生器によって用いられる前記遅延量を調整し、
前記アナログ励起電圧のデジタル化表現が前記メモリデバイスに作成されるまで、前記出力の記憶及び前記遅延量の調整を繰り返し行う、
イオン注入システム。 - 前記コントローラは、前記デジタル化表現を用いて前記アナログ励起電圧の位相ドリフトを決定し、前記位相ドリフトを修正するために前記RF発生器の周波数又は振幅を調整する、請求項9に記載のイオン注入システム。
- 前記コントローラは、マスタークロックと前記デジタル化表現との間の位相遅延を測定し、所望の位相遅延を達成するために前記RF発生器の周波数又は振幅を調整する、請求項9に記載のイオン注入システム。
- 前記デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である、請求項9に記載のイオン注入システム。
- 前記ADCの最大サンプルレートは前記デジタル化表現の解像度より低い、請求項12に記載のイオン注入システム。
- イオン注入システムであって、
イオンを発生させるイオン源と、
前記イオンをワークピースに向かって加速させる直線加速器であって、1又は複数のキャビティを含む直線加速器と、
前記1又は複数のキャビティのうちの1つにおいて励起コイルを励起するための電気信号を供給するRF発生器と、
前記キャビティのうちの1つに近接して配置されたピックアップループと、
入力アナログ波形を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有するアナログデジタル変換器(ADC)と、
入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記ADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有するクロック遅延発生器と、
処理装置とメモリデバイスとを含むコントローラと
を備える、イオン注入システム。 - 前記ADCの前記入力と通信する出力を有し、かつ、前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む第1の入力と、前記励起コイルに供給される前記電気信号を表すアナログ励起電圧を含む第2の入力との2つの入力を有する、アナログマルチプレクサを更に備える、請求項14に記載のイオン注入システム。
- 前記励起コイルに供給される前記電気信号を表すアナログ励起電圧を含む入力と、出力と、サンプルクロックとを有する第2のアナログデジタル変換器(ADC)と、
入力クロックと、遅延量を決定する制御入力と、前記第2のADCのための前記サンプルクロックを含む出力とを有する第2のクロック遅延発生器と
を更に備え、
前記第2のADCの前記出力は前記コントローラへの入力を含み、前記ADCへの前記入力は前記ピックアップループから作成された入力アナログ波形を含む、請求項14に記載のイオン注入システム。 - 前記コントローラは、
前記ADC及び前記第2のADCからの前記出力を記憶し、
前記クロック遅延発生器及び前記第2のクロック遅延発生器によって用いられる遅延を調整し、
前記入力アナログ波形及び前記アナログ励起電圧のデジタル化表現が前記メモリデバイスに作成されるまで、前記出力の記憶及び前記遅延の調整を繰り返し行う、請求項16に記載のイオン注入システム。 - 前記コントローラは、前記デジタル化表現を用いて、前記入力アナログ波形と前記アナログ励起電圧との間の位相差を決定し、前記位相差に基づいて前記RF発生器の周波数又は振幅を調整する、請求項17に記載のイオン注入システム。
- 前記デジタル化表現の解像度は1ナノ秒未満である、請求項17に記載のイオン注入システム。
- 前記ADC及び前記第2のADCの最大サンプルレートは、前記デジタル化表現の解像度より低い、請求項19に記載のイオン注入システム。
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