JP7406748B2 - 化学メッキ法 - Google Patents
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Description
この化学メッキ法では、前処理に界面活性剤を含有した洗浄液を使用し、基材の表面に付着した油脂分やごみを除去しているため、廃液が発生し、また、界面活性剤の成分が表面に残留することでメッキむらが発生するという問題があった。
特許文献1には、樹脂基材の表面に、平均粒径が0.1μm~100μmのオゾンの微細気泡を含むオゾン水を接触させて、基材表面を改質する表面改質処理を施した上で、この基材表面に無電解めっきにより金属層を形成する方法が開示されている。
特許文献2には、ナノファイバーを無電解めっき処理して導電性ナノファイバーを製造するに際し、10nm以上50μm以下の平均気泡径を有する微細気泡が含有された微細気泡含有無電解めっき液を用いる方法が開示されている。
しかし、特許文献1、2の技術はいずれも、還元剤を積極的に使用しており、上記した問題が発生するおそれがある。
前記基材の表面に、空気及び水素のいずれか一方又は双方からなる直径100nm未満のナノバブルを1億個/mL~40億個/mL含むメッキ溶液を用いて金属メッキ処理を行う。
従って、洗浄処理後の廃液の処理が不要となるので、作業性よく経済的にメッキ製品を製造できると共に、界面活性剤の成分が基材表面に残留することによるメッキむらの発生をなくすことができるので、良好な品質のメッキ製品を製造できる。
本発明の一実施の形態に係る化学メッキ法は、非金属製の基材の表面を、窒素(N2)、空気、及び、水素(H2)のいずれか1又は2以上のナノバブルを含む洗浄液を用いて洗浄処理した後、この基材の表面に金属メッキ処理を行う方法である。以下、詳しく説明する。
ここで、基材が樹脂製の場合、基材は、例えば、金型を用いた射出成形等により成形される成形品であり、この成形品に金属メッキ層が形成された製品とは実質的に同一形状のものである(形状については、ガラス製の基材も同様)。
なお、金属メッキ層が形成された製品には、例えば、家電製品(部品)や自動車部品等があるが、これに限定されるものではない。
上記した基材に対して洗浄処理を行う。
洗浄処理には、窒素、空気、及び、水素のいずれか1(単独)又は2以上(組み合わせ)のナノバブルを含む洗浄液を用いる。
このナノバブルは、従来公知の装置で製造可能な超微細気泡であり、マイクロバブルより更に小さく、直径が数百nm以下の気泡を意味する。なお、洗浄処理の効果を高めるため、ナノバブルの直径は、100nm以下(好ましくは100nm未満、更に好ましくは50nm以下)程度にするのがよい。一方、下限値については、特に限定されるものではないが、例えば、10nm程度である。
このナノバブルを含む洗浄液の製造方法としては、例えば、基材を投入する容器内に貯留した溶媒でナノバブルを発生させる方法、容器内に貯留した溶媒にナノバブルを含む溶媒を供給する方法等がある。なお、溶媒には、前記した界面活性剤以外の成分(例えば、他の洗浄剤等)が含まれてもよい。
なお、基材の洗浄処理に要する時間は、基材の材質や表面状態によって適宜変更できるが、例えば、10分以下(好ましくは5分以下、更には好ましくは3分以下)程度でよい。
これにより、基材の洗浄処理を実施できる。
次に、洗浄処理が終了した基材に対して、従来公知の触媒付与処理を行う。
この触媒付与処理は、後述する金属メッキ処理を行うためのメッキ成長の種を付着させる処理であり、金属メッキ処理で使用する還元剤の種類によって、使用する触媒を種々選択できる。例えば、還元剤に次亜リン酸を使用する場合、触媒には、パラジウム(Pd)を使用できるが、例えば、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)等の鉄族元素や白金族元素を使用することもできる。なお、還元剤は、次亜リン酸に限定されるものではなく、例えば、ホルムアルデヒド等の従来公知の還元剤を使用することもでき、この場合、使用する触媒も還元剤の種類に応じて種々選択できる。
続いて、触媒付与処理が終了した基材を水洗処理した後、この基材に対して金属メッキ処理を行う。
この金属メッキ処理は、基材の表面に金属メッキ膜を形成するための処理であり、形成する金属メッキ膜の種類としては、例えば、ニッケル、コバルト、銅(Cu)、及び、スズ(Sn)のいずれか1又は2以上の合金、金(Au)、白金(Pt)、銀(Ag)等がある。
なお、メッキ溶液に含まれるナノバブルの量は、メッキ溶液に含まれる還元剤の量を従来よりも低減できる量であればよく、前記した洗浄液と同様、例えば、溶媒1mL中にナノバブルが数億個(1~40億個、更には1~5億個)程度含まれればよい。
上記した方法で基材の表面に金属メッキ膜を形成した後は、水洗処理と乾燥処理(熱処理)を施すことで、製品が得られる。なお、上記した金属メッキ処理、水洗処理、及び、乾燥処理は、必要なメッキ厚が得られるまで、複数回繰り返し行ってもよい。
ここでは、化学メッキ対象物にプラスチック片(非金属製の基材の一例)を使用し、本発明の効果を検討した。
まず、洗浄液を製造した。
具体的には、窒素、空気、水素のナノバブルをそれぞれ含む3種類の洗浄液(ナノ窒素水、ナノ空気水、及び、ナノ水素水)を製造した。
そして、上記したプラスチック片を各洗浄液に1分間浸漬させた。
このニッケルメッキ処理には、従来使用されているナノバブルを含まない通常のニッケルメッキ浴と、空気又は水素のナノバブルを含む2種類のニッケルメッキ溶液を、それぞれ使用した。なお、ナノバブルを含む各ニッケルメッキ溶液で使用する還元剤の量は、通常使用する量の10質量%に低減した。
一方、各種ナノバブルを含むニッケルメッキ溶液を用い、80℃にてニッケルメッキ処理を行った場合、空気のナノバブルを含むニッケルメッキ溶液では、極めて良好かつ金属光沢の良いニッケルメッキ膜の生成を確認できた。これは、ニッケルメッキ膜内のリンの残留が極めて少なく、良好な光沢を達成できたことによる。
なお、水素のナノバブルを含むニッケルメッキ溶液については、ニッケルメッキ膜の良好な生成は無かった。しかし、これは、水素のナノバブルによる強力な洗浄効果により、前記したパラジウム粒がプラスチック片の表面から取れてしまったことによるものであり、ニッケルメッキ溶液に含まれる水素のナノバブルの量を調整することで、上記した問題は解消された。
参考までに、窒素のナノバブルを含むニッケルメッキ溶液では、ニッケル等の金属粒子が液中で生成するため、窒素の使用は適切でないことが分かった。
前記実施の形態においては、基材に対して洗浄処理と触媒付与処理を順次行った後、金属メッキ処理を行った場合について説明したが、金属メッキ処理を行う前に、下地メッキ処理を行う(下地メッキ層を形成する)こともできる。
Claims (2)
- 非金属製の基材の表面を、窒素、空気、及び、水素のいずれか1又は2以上のナノバブルを含む洗浄液を用いて洗浄処理した後、
前記基材の表面に、空気及び水素のいずれか一方又は双方からなる直径100nm未満のナノバブルを1億個/mL~40億個/mL含むメッキ溶液を用いて金属メッキ処理を行うことを特徴とする化学メッキ法。 - 請求項1記載の化学メッキ法において、前記基材は樹脂製又はガラス製であることを特徴とする化学メッキ法。
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