JP7395530B2 - ジアミン化合物、該ジアミン化合物の製造方法及び該ジアミン化合物による製品 - Google Patents

ジアミン化合物、該ジアミン化合物の製造方法及び該ジアミン化合物による製品 Download PDF

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Description

本発明は、ジアミン化合物に関し、特に(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基((alkoxy-methylene) phenyl group)及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基 ((hydroxyl-methylene) phenyl group)からなる群より選ばれた官能基を有するジアミン化合物に関する。
ジアミン化合物は、例えばポリイミド(polyimide)、ポリベンゾイミダゾール(polybenzimidazole)などの機能性高分子材料の製造に広く使用されている。そのような機能性高分子材料は、様々の分野に使用されている。例えば、液晶表示装置の配向膜、プリント基板の銅箔基板の支持膜または軟性基板、半導体パッケージプロセスの絶縁膜及び配線膜などに使用することができる。
しかし、上記の分野において、機能性高分子材料の機械的強度に対する要求の高まりに応じて機械的強度を上げると、破壊伸び率が低くなり、展延性に対する要求を満たせなくなる問題点がある。
特許文献1には、式Aで表され、優れた抗腫瘍作用を有し、抗癌剤として有用であるジアミン化合物(ジフェノキシベンゼン誘導体)が開示されている。
式中、R、R、R、Rは同一または異なるもので、水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アシル基を表し、X、X、X、Xは同一または異なるもので、水素原子またはハロゲン原子を表す。
Figure 0007395530000001
しかし、特許文献1には、該ジアミン化合物で高分子材料を製造した場合の機械的強度または展延性などに関わる構造設計が全く開示または教示されていない。
特開平05-301849号明細書
上記問題点に鑑みて、本発明は、機械的強度及び展延性が共に優れる高分子材料を製造できるジアミン化合物の提供を目的とする。
上記目的を達成すべく、本発明は、
Figure 0007395530000002
以外の式1に示されるものであり、
Figure 0007395530000003
前記式中において、
、Rのそれぞれは、独立して単結合または2価の脂肪族基を表すものであり、
該2価の脂肪族基内の任意の―CH―は、Tに置換されることができ、
は、
Figure 0007395530000004
を表すものであり、
、R、Rのそれぞれは、独立して単結合、2価の炭化水素基(ヒドロカルビレン基、hydrocarbylene group)、アルキレンエーテル基、―S―、―O―、
Figure 0007395530000005
、―C(CF)―または―SO―を表すものであり、
、X、X、Xのそれぞれは、独立して―H、―CH―O―T、―OH、―COOH、アルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基(haloalkyl group)または芳香族基を表すものであり、且つ、X、X、X、Xのうち少なくとも1つが―CH―O―Tであり、
は、―Hまたは鎖式アルキル基を表すものであり、
m、nのそれぞれは、独立して0~6であり、
a、b、c、dのそれぞれは、独立して0~4であり、且つ、a、b、c、dのうち少なくとも1者が1~4であり、
mが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり、
nが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり、 Tが複数ある場合、各Tは相同または相異のものであって、且つ、互いに連接しなく、
が複数ある場合、各Tは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであるジアミン化合物を提供する。
また、本発明は、(a)式aに示される化合物と式bに示される化合物とを反応させて、式2に示される化合物を生成する工程と、
(b)式2に示される化合物を還元反応させて、式1に示される化合物を生成する工程と、を含み、
Figure 0007395530000006
前記式中において、
Rは、RまたはRを表すものであり、
、Rのそれぞれは、独立して単結合または2価の脂肪族基を表すものであり、
該2価の脂肪族基内の任意の―CH―は、Tに置換されることができ、
は、―O―、
Figure 0007395530000007
を表すものであり、
Y、Y、Yは、脱離基を表すものであり、
Xは (Xまたは(Xを表すものであり、
、X、X、Xのそれぞれは、独立して―H、―CH―O―T、―OH、―COOH、アルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基または芳香族基を表すものであり、且つ、X、X、X、Xのうち少なくとも1つが―CH―O―Tであり、
は、―Hまたは鎖式アルキル基を表すものであり、
、R、Rのそれぞれは、独立して単結合、2価の炭化水素基、アルキレンエーテル基(alkylene ether group)、―S―、―O―、
Figure 0007395530000008
、―C(CF)―または―SO―を表すものであり、
m、nのそれぞれは、独立して0~6であり、
a、b、c、dのそれぞれは、独立して0~4であり、且つ、a、b、c、dのうち少なくとも1者が1~4であり、
mが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり、
nが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Tは相同または相異のものであって、且つ、互いに連接しなく、
が複数ある場合、各Tは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであるジアミン化合物の製造方法を提供する。
また、本発明は、(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれた官能基を有するジアミン化合物を含むジアミン組成成分を備えている重合体生成用組成物を提供する。
また、本発明は、(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれたジアミン残基を有する重合体を提供する。
また、本発明は、上記の重合体を含む樹脂組成物を提供する。
また、本発明は、上記の樹脂組成物により形成されたものである製品を提供する。
また、本発明は、上記の製品を含んでいる電子装置を提供する。
本発明のジアミン化合物は、側鎖に鎖式アルコキシル基メチレン基及びヒドロキシ基メチレン基からなる群より選ばれた官能基(即ち―CH―O―T)を有するので、該ジアミン化合物により生成された重合体が優れた伸び率を有する。従って、本発明のジアミン化合物により生成された重合体は、優れた機械的強度を維持しながら展延性も向上できる。
本発明の実施例1のジアミン化合物の核磁気共鳴スペクトルである。 本発明の実施例2のジアミン化合物の核磁気共鳴スペクトルである。 本発明の実施例3のジアミン化合物の核磁気共鳴スペクトルである。
本発明のジアミン化合物は、
Figure 0007395530000009
以外の式1に示されるものである。
Figure 0007395530000010
前記式中において、R、Rのそれぞれは、独立して単結合または2価の脂肪族基を表すものである。
該2価の脂肪族基内の任意の―CH―は、Tに置換されることができる。
は、―O―、
Figure 0007395530000011
を表すものである。
、R、Rのそれぞれは、独立して単結合、2価の炭化水素基、アルキレンエーテル基、―S―、―O―、
Figure 0007395530000012
、―C(CF)―または―SO―を表すものである。
、X、X、Xのそれぞれは、独立して―H、―CH―O―T、―OH、―COOH、アルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基または芳香族基を表すものであり、且つ、X、X、X、Xのうち少なくとも1つが―CH―O―Tである。
は、―Hまたは鎖式アルキル基を表すものである。
m、nのそれぞれは、独立して0~6である。
a、b、c、dのそれぞれは、独立して0~4であり、且つ、a、b、c、dのうち少なくとも1者が1~4である。
mが1より大きい場合(即ち、mが2~6である場合)、各Rは相同または相異のものである。
nが1より大きい場合(即ち、nが2~6である場合)、各Rは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Tは相同または相異のものであって、且つ、互いに連接しない。
が複数ある場合、各Tは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
2価の炭化水素基として、例えば2価の脂肪族基または2価の芳香族基などが挙げられるが、それらに限らない。
上記の2価の炭化水素基に挙げられた2価の脂肪族基として、例えばアルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基などが挙げられるが、それらに限らない。
アルキレン基として、例えば鎖式アルキレン基またはシクロアルキレン基などが挙げられるが、それらに限らない。
鎖式アルキレン基として、例えば直鎖アルキレン基または分岐アルキレン基などが挙げられるが、それらに限らない。
直鎖アルキレン基として、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基(propylene、-CHCHCH-、プロパン-1,3-ジイル基)、1,4-ブチレン基(1,4-butylene、-CHCHCHCH-、ブタン-1,4-ジイル基)、1,5-ペンチレン基(1,5-pentylene、-CHCHCHCHCH-、ペンタン-1,5-ジイル基)または1,6-ヘキサメチレン基(1,6-hexamethylene、-CHCHCHCHCHCH-、ヘキサン-1,6-ジイル基)などが挙げられるが、それらに限らない。
分岐アルキレン基として、例えば2-メチル基-エチレン基、1-メチルエタン-1,1-ジイル(プロパン-2,2-ジイル)、1-エチル基-プロピレン基、1,1-ジメチル基-プロピレン基、1,2-ジメチル基-プロピレン基、2,2-ジメチル基-プロピレン基、1-エチル基-1-メチル基-プロピレン基、1-エチル基-2-メチル基-プロピレン基、1,1,2-トリメチル基-プロピレン基、1,2,2-トリメチル基-プロピレン基、1-メチル基-プロピレン基、2-メチル基-プロピレン基、2-メチル基-1,4-ブチレン基、1-メチル基-1,5-ペンチレン基、2-メチル基-1,5-ペンチレン基、3-メチル基-1,5-ペンチレン基、4-メチル基-1,5-ペンチレン基、1-エチル基-1,4-ブチレン基、2-エチル基-1,4-ブチレン基、1,1-ジメチル基-1,4-ブチレン基、1,2-ジメチル基-1,4-ブチレン基、1,3-ジメチル基-1,4-ブチレン基、2,2-ジメチル基-1,4-ブチレン基、2,3-ジメチル基-1,4-ブチレン基、3,3-ジメチル基-1,4-ブチレン基または2-メチル基-1,5-ペンチレン基などが挙げられるが、それらに限らない。
シクロアルキレン基として、例えばシクロプロピレン基、1-エチル基-シクロプロピレン基、2-エチル基-シクロプロピレン基、1-プロピル基-シクロプロピレン基、2-プロピル基-シクロプロピレン基、1-イソプロピル基-シクロプロピレン基、2-イソプロピル基-シクロプロピレン基、1,2-ジメチル基-シクロプロピレン基、2,3-ジメチル基-シクロプロピレン基、1-エチル基-2-メチル基-シクロプロピレン基、2-エチル基-1-メチル基-シクロプロピレン基、2-エチル基-2-メチル基-シクロプロピレン基、2-エチル基-3-メチル基-シクロプロピレン基、1,2,2-トリメチル基-シクロプロピレン基、1,2,3-トリメチル基-シクロプロピレン基、2,2,3-トリメチル基-シクロプロピレン基、シクロブチレン基、1-メチル基-シクロブチレン基、2-メチル基-シクロブチレン基、3-メチル基-シクロブチレン基、1-エチル基-シクロブチレン基、2-エチル基-シクロブチレン基、3-エチル基-シクロブチレン基、1,2-ジメチル基-シクロブチレン基、1,3-ジメチル基-シクロブチレン基、2,2-ジメチル基-シクロブチレン基、2,3-ジメチル基-シクロブチレン基、2,4-ジメチル基-シクロブチレン基、3,3-ジメチル基-シクロブチレン基、シクロペンチレン基、1-メチル基-シクロペンチレン基、2-メチル基-シクロペンチレン基、3-メチル基-シクロペンチレン基、シクロヘキサメチレン基またはメチル基-シクロヘキサメチレン基などが挙げられるが、それらに限らない。
アルケニレン基として、例えばエテン-1,1-ジイル基(
Figure 0007395530000013
)、ビニレン基(-CH=CH-)、ビニレン基-メチレン基(-CH=CH-CH-、propene-1,3-diyl)、1-メチル基-ビニレン基、ビニレン基-エタン-1,1-ジイル基 (
Figure 0007395530000014
)、ビニレン基-エチレン基(-CH=CH-CH-CH-)、ビニレン基-プロパン-1,2-ジイル基、ビニレン基プロピレンジイル基、ビニレン基-1,4-ブチレン基、ビニレン基-ブタン-1,2-ジイル基、ビニレン基-1-ヘプテン-1,2-ジイル基(
Figure 0007395530000015
)またはビニレン基-1-デセン-1,2-ジイル基などが挙げられるが、それらに限らない。
アルキニレン基として、例えばエチニレン基、エチニレン基-メチレン基(
Figure 0007395530000016
)、エチニレン基-エタン-1,1-ジイル基(
Figure 0007395530000017
)、エチニレン基-エチレン基(
Figure 0007395530000018
)、エチニレン基プロパン-1,2-ジイル基、エチニレン基-プロピレン基、エチニレン基-1,4-ブチレン基、エチニレン基-ブタン-1,2-ジイル基、エチニレン基-1-ヘプテン-1,2-ジイル基(
Figure 0007395530000019
)またはエチニレン基-1-デセン-1,2-ジイル基などが挙げられるが、それらに限らない。
アルキレンエーテル基として、例えば-(T)-O-が挙げられるが、それらに限らない。この中で、tは1以上、Tはアルキレン基である。該アルキレン基は上記のアルキレン基の説明と同じであるので、説明を省略する。
、X、X、Xに挙げられたアルキル基として、例えば鎖式アルキル基またはシクロアルキル基などが挙げられるが、それらに限らない。
鎖式アルキル基として、例えば直鎖アルキル基または分岐アルキル基などが挙げられるが、それらに限らない。
直鎖アルキル基として、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基またはヘキシル基などが挙げられるが、それらに限らない。
分岐アルキル基として、例えばイソプロピル基、1-エチル基-プロピル基、1-エチル基-1-メチル基-n-プロピル基、1-エチル基-2-メチル基-n-プロピル基、1,1-ジメチル基-プロピル基、1,2-ジメチル基-プロピル基、2,2-ジメチル基-プロピル基、1,1,2-トリメチル基-n-プロピル基、1,2,2-トリメチル基-n-プロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、1-エチル基-n-ブチル基、2-エチル基-n-ブチル基、1-メチル基-ブチル基、2-メチル基-ブチル基、3-メチル基-ブチル基、1,1-ジメチル基-n-ブチル基、1,2-ジメチル基-n-ブチル基、1,3-ジメチル基-n-ブチル基、2,2-ジメチル基-n-ブチル基、2,3-ジメチル基-n-ブチル基、3,3-ジメチル基-n-ブチル基、イソペンチル基、1-メチル基-ペンチル基、2-メチル基-ペンチル基、3-メチル基-ペンチル基または4-メチル基-ペンチル基などが挙げられるが、それらに限らない。
シクロアルキル基として、例えばシクロプロピル基、1-メチル基-シクロプロピル基、2-メチル基-シクロプロピル基、1,2-ジメチル基-シクロプロピル基、2,3-ジメチル基-シクロプロピル基、1-エチル基-シクロプロピル基、2-エチル基-シクロプロピル基、1-プロピル基-シクロプロピル基、2-プロピル基-シクロプロピル基、1-イソプロピル基-シクロプロピル基、2-イソプロピル基-シクロプロピル基、1-エチル基-2-メチル基-シクロプロピル基、2-エチル基-1-メチル基-シクロプロピル基、2-エチル基-2-メチル基-シクロプロピル基、2-エチル基-3-メチル基-シクロプロピル基、1,2,2-トリメチル基-シクロプロピル基、1,2,3-トリメチル基-シクロプロピル基、1-メチル基-シクロブチル基、2-メチル基-シクロブチル基、3-メチル基-シクロブチル基、1-エチル基-シクロブチル基、2-エチル基-シクロブチル基、3-エチル基-シクロブチル基、1,2-ジメチル基-シクロブチル基、1,3-ジメチル基-シクロブチル基、2,2-ジメチル基-シクロブチル基、2,3-ジメチル基-シクロブチル基、2,4-ジメチル基-シクロブチル基、3,3-ジメチル基-シクロブチル基、2,2,3-トリメチル基-シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、1-メチル基-シクロペンチル基、2-メチル基-シクロペンチル基、3-メチル基-シクロペンチル基またはシクロヘキシル基などが挙げられるが、それらに限らない。
ハロゲン原子として、例えばフッ素または塩素などが挙げられるが、それらに限らない。
ハロアルキル基として、鎖式ハロアルキル基またはシクロハロアルキル基などが挙げられ、より具体的に例えば-CF、-CHF、-CFHまたは-CClなどが挙げられるが、それらに限らない。
芳香族基として、例えばフェニル基、ハロゲンに置換されたフェニル基またはハロアルキル基に置換されたフェニル基などが挙げられるが、それらに限らなく、該ハロゲン及び該ハロアルキル基は、上記のハロゲン原子及びハロアルキル基の説明と同じので、説明を省略する。
、Rに挙げられた2価の脂肪族基として、例えばアルキレン基、アルケニレン基、置換基に置換されたアルケニレン基、アルキニレン基または置換基に置換されたアルキニレン基などが挙げられるが、それらに限らない。該置換基として、例えばアルキル基などが挙げられるが、それらに限らなく、該アルキル基は上記のアルキル基の説明と同じので、説明を省略し、また、該アルキレン基は上記のアルキレン基の説明と同じので、説明を省略する。
ジアミン化合物により生成された重合体がより優れた破壊伸び率を持つようにするために、ジアミン化合物に複数の-CH-O-Tを有することが好ましい。
ジアミン化合物に複数の-CH-O-Tを有する場合、一部の実施形態において、Tは、鎖式アルキル基であり、より具体的には―CHである。
一部の実施形態において、m+n≧1であり、更には1≦m+n≦8である。
一部の実施形態において、R及びRは、それぞれ―O―である。
一部の実施形態において、X及びXは、いずれも―CH―O―Tではない。
一部の実施形態において、a+b+c+dが2以上である場合、X、X、X、Xのうち少なくとも1つは、―CH―O―Tであり、且つ、他のX、X、X、Xのうち少なくとも1つは、アルキル基、ハロゲン原子またはハロアルキル基を表すものである。
また、本発明のジアミン化合物は、側鎖に鎖式アルコキシル基メチレン基及びヒドロキシ基メチレン基からなる群より選ばれた官能基(即ち―CH―O―T)を有し、即ち、本発明のジアミン化合物は、(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれた官能基を有する。
本発明の実施形態のおいて、式1に示されるジアミン化合物は、以下の式1-1~式1-9に示される化合物のいずれかである。
Figure 0007395530000020
Figure 0007395530000021
本発明のジアミン化合物の製造方法は、(a)式aに示される化合物と式bに示される化合物とを反応させて、式2に示される化合物を生成する工程と、(b)式2に示される化合物を還元反応させて、式1に示される化合物を生成する工程と、を含む。
Figure 0007395530000022
前記式中において、Rは、RまたはRを表すものである。
、Rのそれぞれは、独立して単結合または2価の脂肪族基を表すものである。
該2価の脂肪族基内の任意の―CH―は、Tに置換されることができる。
は、―O―、
Figure 0007395530000023
を表すものである。
Y、Y、Yは、脱離基を表すものである。
Xは (Xまたは(Xを表すものである。
、X、X、Xのそれぞれは、独立して―H、―CH―O―T、―OH、―COOH、アルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基または芳香族基を表すものであり、且つ、X、X、X、Xのうち少なくとも1つが―CH―O―Tである。
は、―Hまたは鎖式アルキル基を表すものである。
、R、Rのそれぞれは、独立して単結合、2価の炭化水素基、アルキレンエーテル基、―S―、―O―、
Figure 0007395530000024
、―C(CF)―または―SO―を表すものである。
m、nのそれぞれは、独立して0~6である。
a、b、c、dのそれぞれは、独立して0~4であり、且つ、a、b、c、dのうち少なくとも1者が1~4である。
mが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものである。
nが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Tは相同または相異のものであって、且つ、互いに連接しない。
が複数ある場合、各Tは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
が複数ある場合、各Xは相同または相異のものである。
脱離基として、例えばハロゲン原子などが挙げられるが、それらに限らない。
一部の実施形態において、工程(a)は、アルカリ触媒が存在する環境で行う。
アルカリ触媒として、例えば炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは炭酸水素ナトリウムなどが挙げられるが、それらに限らない。
一部の実施形態において、工程(a)は、溶媒が存在する環境で行う。
工程(a)における溶媒として、例えば極性溶媒などが挙げられるが、それらに限らない。
工程(a)における極性溶媒として、例えばN,N―ジメチルアセトアミド(N,N-dimethylacetamide)、1-メチル-2-ピロリジンオン(1-Methyl-2-pyrrolidone、略称NMP)、γ-ブチロラクトン(γ-butyrolactone、略称GBL)、N,N-ジエチルホルムアミド(N,N-diethylformamide)、ジメチルスルホキシド(dimethyl sulfoxide)、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが挙げられるが、それらに限らない。
一部の実施形態において、工程(a)は、温度範囲が70℃~140℃の環境で行う。
一部の実施形態において、工程(b)は、触媒及び還元剤が存在する環境で還元反応を行って、ニトロ基をアミノ基に還元させる。
触媒として、例えばパラジウム炭素触媒またはプラチナ触媒などが挙げられるが、それらに限らない。
還元剤として、例えばヒドラジン(hydrazine)またはギ酸アンモニウム(ammonium formate)などが挙げられるが、それらに限らない。
一部の実施形態において、工程(b)は、溶媒が存在する環境で行う。
工程(b)における溶媒として、例えば極性溶媒などが挙げられるが、それらに限らない。
工程(b)における極性溶媒として、例えば水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、1-メチル-2-ピロリジンオン、γ-ブチロラクトン、N,N-ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられるが、それらに限らない。
一部の実施形態において、工程(b)は、温度範囲が50℃~80℃の環境で行う。
<重合体>
本発明の重合体は、(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれたジアミン残基を有する。
該ジアミン残基は、(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれた官能基を有するジアミン化合物に由来するものである。
重合体は、側鎖に鎖式アルコキシル基メチレン基及びヒドロキシ基メチレン基からなる群より選ばれた官能基を有するので、メチレン基が重合体の各分子間の架橋性基(crosslinking group)として機能しやすい。例えば、酸性環境または加熱の環境で、重合体の1つの分子のフェニル基が重合体の他の分子のメチレン基を攻撃して、炭化水素オキシ基またはヒドロキシ基をメチレン基から脱離させる。そして、重合体の1つの分子のフェニル基が重合体の他の分子のメチレン基に結合するので、鎖式アルコキシル基メチレン基及びヒドロキシ基メチレン基は、重合体の各分子間の結合を向上する機能を有し、それにより重合体の破壊伸び率が上がる。
重合体として、例えばポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリエステルイミド(Poly(ester-imide))、ポリアミック酸エステル(polyamic ester、polyamic acid ester)、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾイミダゾールまたはこれら重合体の成分と他の成分とにより生成された共重合体などが挙げられるが、それらに限らない。
ポリアミック酸として、例えば式iに示される繰り返し単位を有する重合体などが挙げられるが、それらに限らない。
Figure 0007395530000025
式i中において、
4価の炭化水素基、または、該4価の炭化水素基中の任意の-CH -が例えば-O-などの置換基に置換された4価の基である。
、R、R、R、R、X、X、X、X、m、n、a、b、c及びdは、上記の説明と同じので、説明を省略する。
4価の炭化水素基として、例えば4価の芳香族基または4価の脂肪族基などが挙げられるが、それらに限らない。
置換された4価の基として、例えば
Figure 0007395530000026
などが挙げられるが、それらに限らない。
ポリイミドとして、例えば式iiに示される繰り返し単位を有する重合体などが挙げられるが、それらに限らない。
Figure 0007395530000027
式ii中において、
4価の炭化水素基、または、該4価の炭化水素基中の任意の-CH -が例えば-O-などの置換基に置換された4価の基である。
、R、R、R、R、X、X、X、X、m、n、a、b、c及びdは、上記の説明と同じので、説明を省略する。
4価の炭化水素基として、例えば4価の芳香族基または4価の脂肪族基などが挙げられるが、それらに限らない。該置換された4価の基は、上記の置換された4価の基の説明と同じので、説明を省略する。
ポリベンゾオキサゾール前駆体として、例えば式iiiに示される繰り返し単位を有する重合体などが挙げられるが、それらに限らない。
Figure 0007395530000028
式iii中において、
は2価の炭化水素基である。
a及びbのそれぞれは、独立して0~3である。
及びRは、単結合である。
、R、R、X、X、X、X、m、n、c及びdは、上記の説明と同じので、説明を省略する。
2価の炭化水素基として、例えば2価の芳香族基または2価の脂肪族基などが挙げられるが、それらに限らない。
好ましく、2価の炭化水素基は2価の芳香族基である。
<重合体生成用組成物>
重合体生成用組成物は、ジアミン組成成分を備えている。該ジアミン組成成分は、(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれた官能基を有するジアミン化合物を含む。
(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基または(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基を有するジアミン化合物として、例えば上記の式1に示されるジアミン化合物などが挙げられるが、それらに限らない。
ジアミン組成成分は、他のジアミン化合物を更に含む。
他のジアミン化合物として、例えば4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル[4,4’-bis(4-aminophenoxy)biphenyl、略称APBP]、4,4’-ビス(4-アミノ-2-トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル{4-[4-[4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenoxy]phenyl]phenoxy]-3-(trifluoromethyl)aniline、略称6fapbp}、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン{2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane、略称BAPP}、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル(4,4’-diaminodiphenyl ether、略称ODA)、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン[2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane、略称BisAPAF]、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン{(2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane、略称6FBAPP}、2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミン[2,2’-dimethyl-(1,1’-biphenyl)-4,4’-diamine]、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン[2,2’-bis(trifluoromethyl)-(1,1’-biphenyl)-4,4’-diamine]、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン[9,9-bis(3-fluoro-4-aminophenyl)fluorene]、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン[1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene]、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン[1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene]、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン[1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene]、ビス(2-トリフルオロメチル-4-アミノフェノキシ)ベンゼン[bis(2-trifluoromethyl-4-aminophenoxy)benzene]または3,3’-ジヒドロキシベンジジン(3,3’-dihydroxybenzidine)などが挙げられるが、それらに限らない。
重合体により高い伸び率を持たせるために、ジアミン組成成分における全ての組成成分のそれぞれのモルの和が1の場合、(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれた官能基を有するジアミン化合物のモルの和が0.1以下にあることが好ましく、0.05以下にあることがより好ましい。即ち、ジアミン組成成分における(鎖式アルコキシル基メチレン基)フェニル基及び(ヒドロキシ基メチレン基)フェニル基からなる群より選ばれた官能基を有するジアミン化合物のモルの和と、ジアミン組成成分における全ての組成成分のモルの和との比は、0.1以下にあることが好ましく、0.05以下にあることがより好ましい。
重合体生成用組成物は、アミノ基と反応できるモノマーを更に含む。
モノマーは、一種類または多種類を混合して使用することができる。モノマーとして、例えば二無水物(dianhydride)、カルボン酸化合物、カルボン酸エステル化合物、アルデヒド化合物、塩化アシル化合物(acyl chloride compound)またはイソシアネート (isocyanate) 化合物などが挙げられるが、それらに限らない。
二無水物として、例えばポリイミドの製造に使用する二無水物が挙げられるが、それらに限らない。
また、二無水物として、例えば4,4‘-(4,4’-イソプロピリデンジフェノキシ)ビス(無水フタル酸) [4,4‘-(4,4’-isopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride)、略称BPADA]または4,4‘-オキシジフタル酸無水物(4,4’-oxydiphthalic anhydride、略称ODPA)などが挙げられるが、それらに限らない。
カルボン酸として、例えばポリベンゾイミダゾール、ポリアミック酸エステルの製造に使用するカルボン酸が挙げられるが、それらに限らない。
また、カルボン酸として、例えばギ酸または
Figure 0007395530000029
などが挙げられるが、それらに限らない。
アルデヒドとして、例えばポリベンゾイミダゾールの製造に使用するアルデヒドが挙げられるが、それらに限らない。
また、アルデヒドとして、例えばベンズアルデヒドが挙げられるが、それらに限らない。
塩化アシル化合物として、例えばポリベンゾオキサゾールの製造に使用する塩化アシル化合物が挙げられるが、それらに限らない。
また、塩化アシル化合物として、例えばフタロイルクロリド(phthaloyl chloride)、イソフタロイルクロリド(isophthaloyl chloride)、テレフタロイルクロライド(terephthaloyl chloride)及びそれらの組み合わせが挙げられるが、それに限らない。
<樹脂組成物>
本発明の樹脂組成物は、上記の重合体を含む。
更に、樹脂組成物の応用分野及び必要に応じて、溶媒を更に含む。
該溶媒は、一種類または多種類を混合して使用することができる。該溶媒として、例えばγ-ブチロラクトンまたは1-メチル-2-ピロリジンオンなどが挙げられるが、それらに限らない。
更に、樹脂組成物の応用分野及び必要に応じて、開始剤を更に含む。
開始剤は、一種類または多種類を混合して使用することができる。開始剤として、例えば光開始剤(photoinitiator)または熱開始剤(thermal initiator)などが挙げられるが、それらに限らない。
光重合開始剤として、例えばBASF社製のIrgacure(登録商標)OXE-01{1-[4-(フェニルチオ)フェニル]オクタン-1,2-ジオン=2-(O-ベンゾイルオキシム)、1,2-Octanedione, 1-[4-(phenylthio) phenyl]-, 2-(o-benzoyloxime) }、Irgacure(登録商標)OXE-02、Irgacure(登録商標)TPO-LまたはIrgacure(登録商標)819などが挙げられるが、それらに限らない。
更に、樹脂組成物の応用分野及び必要に応じて、反応性モノマーを更に含む。
該反応性モノマーは、一種類または多種類を混合して使用することができる。該反応性モノマーとして、例えばエチレン性単量体(ethylenic monomer)が挙げられるが、それらに限らない。
エチレン性単量体として、例えば2,2‘-[エチレンビス(オキシ)]ビスエタノールジアクリラート(triethylene glycol diacrylate)、トリプロピレングリコ-ルジメタクリレート(tripropylene glycol dimethacrylate)、トリプロピレングリコールジアクリラート(tripropylene glycol diacrylate)、ヘキサン-1,6-ジオールビス(2-メチルアクリラート)(1,6-hexanediol dimethacrylate)、1,6-ビス(アクリロイルオキシ)ヘキサン(Hexamethylene diacrylate、ジアクリル酸1,6-ヘキサンジオール)、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート(Ethoxylated bisphenol A dimethacrylate、EO変性ビスフェノールAジメタクリレート)またはEO変性ビスフェノールAジアクリレート(ethoxylated (10) bisphenol A diacrylate)などが挙げられるが、それらに限らない。 更に、樹脂組成物の応用分野及び必要に応じて、例えば、樹脂組成物の塗布性(coating properties)を上げるために、界面活性剤を更に含む。
界面活性剤として、例えばレベリング剤が挙げられるが、それらに限らない。
レベリング剤は、一種類または多種類を混合して使用することができる。レベリング剤として、例えばエポキシ基を有するケイ素含有材料、アミノ基を有するケイ素含有材料またはフッ素系材料などが挙げられるが、それらに限らない。
樹脂組成物に含む成分の種類により、樹脂組成物は、半導体パッケージプロセス、表示装置の製造またはプリント基板の製造などの分野におけるフィルム形成用組成物、ネガ型フォトレジスト組成物、ポジ型フォトレジスト組成物または感光性組成物などとして応用できる。
<製品>
本発明の製品は、上記の樹脂組成物により形成されたものである。
製品として、例えば隔離用膜、カバー用膜、保護用膜、支持用膜または半導体パッケージプロセスの絶縁膜及び配線膜などが挙げられるが、それらに限らない。
製品の形成方法は、特に制限されず、従来の方法、例えばコーティング(coating)方法などを採用できる。
コーティング方法として、例えばスピンコート方法(spin coating)、バーコーティング方法(bar coating method)、ローラーコーティング方法(roller coating method)またはダイコーティング方法(die coating method) などが挙げられるが、それらに限らない。
更に、パターン化された製品が必要とされる場合には、製品の形成方法としては、リソグラフィ(lithography)を更に含む。リソグラフィは、特に制限されず、周知のフォトリソグラフィ方法を採用できる。
<電子装置>
本発明の電子装置は、上記の製品を含むものである。電子装置として、例えば半導体装置または表示装置などが挙げられるが、それらに限らない。
以下、本開示の実施例について説明する。これらの実施例は、例示的かつ説明的なものであり、且つ、本開示を限定するものと解釈されるべきではないことを理解されたい。
実施例1
工程(a):10.9gの3,3’,5,5’-テトラキス(メトキシメチル)-[1,1’-ビフェニル]-4,4’-ジオール{3,3’,5,5’-tetrakis(methoxymethyl)-[1,1’-biphenyl]-4,4’-diol}と、9.12gの炭酸カリウムと、165mlのN,N-ジメチルアセトアミドとを、攪拌器を備える三つ口フラスコに添加し、そして、三つ口フラスコに窒素を充填してから密封した。そして、均一になるまで攪拌した後、14.9gの2-クロロ-5-ニトロベンゾトリフルオリド(2-chloro-5-nitrobenzotrifluoride)を徐々に添加した。
そして、温度が140℃になるまで加熱して該温度で3時間反応させ、薄層クロマトグラフィー(thin―layer chromatography、略称TLC)を用いて反応中止の可否を確認する。
反応完了後、吸引ろ過法で熱ろ過を行い、炭酸カリウムを除去してろ液を得た。該ろ液を徐々に水に添加し、析出物含有の水溶液を得た。
該水溶液に対して吸引ろ過を行って、薄ピンク色の固体析出物を得た。
該析出物は、式2-1に示されるジニトロ化合物である。
Figure 0007395530000030
該式2-1に示されるジニトロ化合物の収率は約96%であり、その純度は約96%である。
工程(b):20.0gの式2-1に示されるジニトロ化合物と、0.43gのパラジウム炭素触媒と、250mlのエタノールとを攪拌器を備える三つ口フラスコに添加し、そして、攪拌しながら60℃まで加熱した。添加用チューブで17.3gのヒドラジン(N)を該三つ口フラスコ内に徐々に滴下し、添加完了後、温度を75℃に上げて、該温度で4時間の水素化反応を行った。
薄層クロマトグラフィーを用いて反応中止の可否を確認する。
反応完了後、吸引ろ過法で熱ろ過を行い、パラジウム炭素触媒を除去してろ液を得た。該ろ液を徐々に水に添加し、析出物含有の水溶液を得た。
該水溶液に対して吸引ろ過を行って、白色の固体析出物を得た。
該析出物は、式1-1に示されるジアミン化合物を含む。
Figure 0007395530000031
ジクロロメタンで該析出物を純化し、式1-1に示されるジアミン化合物を得た。
該式1-1に示されるジアミン化合物の収率は約85%であり、その純度は約96%である。
実施例2
工程(a):10.9gの3,3‘,5,5’-テトラキス(メトキシメチル)-[1,1‘-ビフェニル]-4,4’-ジオールと、4.34gの水酸化ナトリウムと、165mlのN,N-ジメチルアセトアミドとを、攪拌器を備える三つ口フラスコに添加し、そして、三つ口フラスコに窒素を充填してから密封する。そして、均一になるまで攪拌した後、9.31gの4-フルオロニトロベンゼン(4-fluoronitrobenzene)を徐々に添加した。
そして、温度が140℃になるまで加熱して該温度で3時間反応させ、薄層クロマトグラフィーを用いて反応中止の可否を確認する。
反応完了後、吸引ろ過法で熱ろ過を行い、水酸化ナトリウムを除去してろ液を得た。該ろ液を徐々に水に添加し、析出物含有の水溶液を得た。
該水溶液に対して吸引ろ過を行って、固体析出物を得た。
該析出物は、式2-2に示されるジニトロ化合物である。
Figure 0007395530000032
該式2-2に示されるジニトロ化合物の収率は約92%であり、その純度は約96%である。
工程(b):15.66gの式2-2に示されるジニトロ化合物と、0.43gのパラジウム炭素触媒と、150mlのエタノールとを攪拌器を備える三つ口フラスコに添加し、そして、攪拌しながら60℃まで加熱した。添加用チューブで17.3gのヒドラジン(N)を該三つ口フラスコ内に徐々に滴下し、添加完了後、温度を75℃に上げて、該温度で4時間の水素化反応を行った。
薄層クロマトグラフィーを用いて反応中止の可否を確認する。
反応完了後、吸引ろ過法で熱ろ過を行い、パラジウム炭素触媒を除去してろ液を得た。該ろ液を徐々に水に添加し、析出物含有の水溶液を得た。
該水溶液に対して吸引ろ過を行って、白色の固体析出物を得た。
該析出物は、式1-2に示されるジアミン化合物である。
Figure 0007395530000033
該式1-2に示されるジアミン化合物の収率は約93%であり、その純度は約96%である。
実施例3
工程(a):9.48gの(4,4‘-メチレンビス[6-メチル-2-(メトキシメチル)フェノール] (4,4’-methylenebis[6-methyl-2-(methoxymethyl)phenol])と、6.3gの炭酸水素ナトリウムと、60mlのN,N-ジメチルアセトアミドとを、攪拌器を備える三つ口フラスコに添加し、そして、三つ口フラスコに窒素を充填してから密封する。そして、均一になるまで攪拌した後、13.53gの2-クロロ-5-ニトロベンゾトリフルオリドを徐々に添加した。
そして、温度が140℃になるまで加熱して該温度で3時間反応させ、薄層クロマトグラフィーを用いて反応中止の可否を確認する。
反応完了後、吸引ろ過法で熱ろ過を行い、炭酸水素ナトリウムを除去してろ液を得た。該ろ液を徐々に水に添加し、析出物含有の水溶液を得た。
該水溶液に対して吸引ろ過を行って、ブラウン色の固体析出物を得た。
該析出物は、式2-3に示されるジニトロ化合物である。
Figure 0007395530000034
該式2-3に示されるジニトロ化合物の収率は約72%であり、その純度は約96%である。
工程(b):15.0gの式2-3に示されるジニトロ化合物と、0.21gのパラジウム炭素触媒と、135mlのエタノールとを攪拌器を備える三つ口フラスコに添加し、そして、攪拌しながら50℃まで加熱した。添加用チューブで10.89gのギ酸アンモニウムを該三つ口フラスコ内に徐々に滴下し、添加完了後、温度を60℃に上げて、該温度で4時間の水素化反応を行った。
薄層クロマトグラフィーを用いて反応中止の可否を確認する。
反応完了後、吸引ろ過法で熱ろ過を行い、パラジウム炭素触媒を除去してろ液を得た。該ろ液を徐々に水に添加し、析出物含有の水溶液を得た。
該水溶液に対して吸引ろ過を行って、白色の固体析出物を得た。
該析出物には、式1-3に示されるジアミン化合物である。
Figure 0007395530000035
該式1-3に示されるジアミン化合物の収率は約90%であり、その純度は約96%である。
応用例1 重合体、樹脂組成物及び製品
1モルのBPADAと、0.93モルの4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルと、0.05モルの実施例1の式1-1に示されるジアミン化合物とを混合して混合物を形成した。1-メチル-2-ピロリジンオンを該混合物に添加して、組成物を得た。該組成物において、該混合物の濃度は15wt%である。
そして、室温で該組成物を攪拌して12時間反応させて、ポリアミック酸を含む樹脂組成物を形成した。スピンコート方法で該樹脂組成物をガラス板にコーティングした後、230℃に加熱し、該温度で計2.5時間の環化反応及び乾燥処理を行い、ガラス板に厚さが10μmのポリイミド膜を得た。
応用例2~7
応用例2~7は、各成分の種類及び使用量以外、応用例1と同じ手順で製造された。応用例2~7の各成分の種類及び使用量は、表1及び表2に記載されている。
応用例8 重合体、樹脂組成物及び製品
267.7gの塩化チオニル(SOCl)を1901.6gのジカルボン酸溶液(570.5gのジカルボン酸と、332.2gのピリジンと、998.9gの1-メチル-2-ピロリジンオンとを含み、該ジカルボン酸は
Figure 0007395530000036
である)に徐々に滴下し、0℃で2時間間攪拌しながら反応して、第1の溶液を形成した。
該第1の溶液に第2の溶液(325.3gのAPBPと、20.4gの実施例1の式1-1に示されるジアミン化合物と、2903.5gの1-メチル-2-ピロリジンオンとを含む)を徐々に添加して、組成物を形成した。
そして、該組成物を6時間重合反応させて、ポリアミック酸エステルを得た。
1重量部の該ポリアミック酸エステルと、0.15重量部のトリエチレングリコールジメタクリラート(triethylene glycol dimethacrylate)と、0.03重量部のBASF社製のIrgacure(登録商標)OXE-01とを混合して、混合物を形成した。
1-メチル-2-ピロリジンオンを該混合物に添加して樹脂組成物を形成した。該樹脂組成物において、該混合物の濃度は25wt%である。
スピンコート方法で該樹脂組成物をガラス板にコーティングした後、230℃に加熱し、該温度で計2.5時間の環化反応及び乾燥処理を行い、ガラス板に厚さが10μmのポリイミド膜を得た。
比較応用例1
1モルのBPADAと、0.98モルのAPBPとを混合して混合物を形成した。1-メチル-2-ピロリジンオンを該混合物に添加して、溶液を得た。該溶液において、該混合物の濃度は15wt%である。
そして、室温で該組成物を攪拌して12時間反応させて、ポリアミック酸を含む溶液を形成した。その後、10gの該溶液と、0.3gの3,3’,5,5’-テトラキス(メトキシメチル)-[1,1’-ビフェニル]-4,4’-ジオールとを混合して、混合液を形成した。
スピンコート方法で該混合液をガラス板にコーティングした後、230℃に加熱し、該温度で計2.5時間の環化反応及び乾燥処理を行い、ガラス板に厚さが10μmのポリイミド膜を得た。
比較応用例2及び3
比較応用例2及び3は、各成分の種類及び使用量以外、比較応用例1と同じ手順で製造された。比較応用例2及び3の各成分の種類及び使用量は、表2に記載されている。
比較応用例4
1モルのBPADAと、0.95モルのAPBPと、0.03モルの3,5-ジアミノ安息香酸2-(メタクリロイルオキシ)エチルエステル(3,5-diaminobenzoic acid 2-(methacryloyloxy)ethyl ester、略称HEMA-DA)とを混合して混合物を形成した。
1-メチル-2-ピロリジンオンを該混合物に添加して、溶液を得た。該溶液において、該混合物の濃度は15wt%である。
そして、室温で該組成物を攪拌して12時間反応させて、ポリアミック酸を含む溶液を形成した。
その後、スピンコート方法で該混合液をガラス板にコーティングした後、230℃に加熱し、該温度で計2.5時間の環化反応及び乾燥処理を行い、ガラス板に厚さが10μmのポリイミド膜を得た。
評価項目
構造分析:
核磁気共鳴装置で実施例1~3のジアミン化合物を分析して、図1~図3の核磁気共鳴スペクトルを得た。実施例1及び実施例3において、重水素置換核磁気共鳴溶媒は(CDSOである。実施例2において、重水素置換核磁気共鳴溶媒はCDClである。なお、実施例2において、NHのピークはCDClの溶媒効果により表現されていない。
ヤング率(単位:GPa)、引張強度(単位:MPa)、破壊伸び率(単位:%)測定:
応用例1~8のポリイミド膜及び比較応用例1~4のポリイミド膜を長さ7cm且つ幅1cmのサンプルになるように切る。1cm/minの引張り速度及び締め具の間の距離が1cmで、万能試験機(universal testing machine、島津製作所、型番EZ TESTER-L)でサンプルを測定した。
Figure 0007395530000037
Figure 0007395530000038
表1及び表2に記載されているデータにより、比較応用例1~4では、(メトキシ基メチレン基)フェニル基を有するジアミン化合物を使用していないので、得られたポリイミド膜の破壊伸び率が13.1%~20.6%の範囲に留まった。
一方、本発明の応用例1~8では、(メトキシ基メチレン基)フェニル基を有するジアミン化合物を使用しているので、得られたポリイミド膜の破壊伸び率が85.1%~165.8%の範囲にまで高まった。
従って、側鎖に鎖式アルコキシル基メチレン基及びヒドロキシ基メチレン基からなる群より選ばれた官能基を有する設計により、該ジアミン化合物により生成された重合体が優れた破壊伸び率を有する上、ヤング率や引張強度などの機械的強度を維持できる。
更に、表1に示されるように、応用例3において、4つの(メトキシ基メチレン基)フェニル基を有するジアミン化合物を使用して得られた重合体の破壊伸び率は165.8%であり、応用例3において、2つの(メトキシ基メチレン基)フェニル基を有するジアミン化合物を使用して得られた重合体の破壊伸び率は163.9%である。
従って、(メトキシ基メチレン基)フェニル基の数が増えると、重合体の破壊伸び率が向上することがわかった。
よって、本発明のジアミン化合物により生成された重合体は、優れた展延性及び機械的強度があるので、機械的強度を維持しながら展延性が向上する効果がある。
上記においては、説明のため、本発明の全体的な理解を促すべく多くの具体的な詳細が示された。しかしながら、当業者であれば、一またはそれ以上の他の実施形態が具体的な詳細を示さなくとも実施され得ることが明らかである。また、本明細書における「一つの実施形態」「一実施形態」を示す説明において、序数などの表示を伴う説明は全て、特定の態様、構造、特徴を有する本発明の具体的な実施に含まれ得るものであることと理解されたい。更に、本説明において、時には複数の変化例が一つの実施形態、図面、またはこれらの説明に組み込まれているが、これは本説明を合理化させるためのもので、また、本発明の多面性が理解されることを目的としたものであり、また、一実施形態における一またはそれ以上の特徴あるいは特定の具体例は、適切な場合には、本開示の実施において、他の実施形態における一またはそれ以上の特徴あるいは特定の具体例と共に実施され得る。
以上、本発明の好ましい実施形態及び変化例を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、最も広い解釈の精神および範囲内に含まれる様々な構成として、全ての修飾および均等な構成を包含するものとする。
本発明のジアミン化合物は、機能性高分子材料の製造に適用でき、特に機械的強度及び展延性が優れる高分子材料の製造に好適である。

Claims (14)

  1. 以外の式1に示されるものであり、
    前記式中において、
    、Rのそれぞれは、独立して単結合を表すものであり
    、R、Rのそれぞれは、独立して単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、1,4-ブチレン基、2-メチル基-エチレン基、1-エチル基-プロピレン基、1,1-ジメチル基-プロピレン基、1,2-ジメチル基-プロピレン基、2,2-ジメチル基-プロピレン基、1-エチル基-1-メチル基-プロピレン基、1-エチル基-2-メチル基-プロピレン基、1,1,2-トリメチル基-プロピレン基、1,2,2-トリメチル基-プロピレン基、1-メチル基-プロピレン基、2-メチル基-プロピレン基、―S―、―O―、
    、―C(CF)―または―SO―を表すものであり、
    、X、X、Xのそれぞれは、独立して―H、―CH―O―Tメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基フッ素または―CF を表すものであり、且つ、X、X、X、Xのうち少なくとも1つが―CH―O―Tであり、
    は、鎖式アルキル基であり、
    m、nのそれぞれは、独立して0~6であり、且つ1≦m+n≦2であり、
    a、b、c、dのそれぞれは、独立して0~4であり、且つ、a、b、c、dのうち少なくとも1者が1~4であり、
    mが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり、
    nが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり
    が複数ある場合、各Tは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであることを特徴とするジアミン化合物。
  2. 複数の―CH―O―Tを有することを特徴とする請求項1に記載のジアミン化合物。
  3. は、―CHであることを特徴とする請求項2に記載のジアミン化合物。
  4. ―CH―O―T以外のX、X、X、Xのうち少なくとも1つは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基フッ素または―CF を表すものであることを特徴とする請求項1~請求項3のいずれか一項に記載のジアミン化合物。
  5. 及びRは、それぞれ―O―であることを特徴とする請求項4に記載のジアミン化合物。
  6. 及びXは、いずれも―CH―O―Tではないことを特徴とする請求項1~請求項5のいずれか一項に記載のジアミン化合物。
  7. (a)式aに示される化合物と式bに示される化合物とを反応させて、式2に示される化合物を生成する工程と、
    (b)式2に示される化合物を還元反応させて、式1に示される化合物を生成する工程と、を含み、
    前記式中において、
    Rは、RまたはRを表すものであり、
    、Rのそれぞれは、独立して単結合を表すものであり
    Y、Y、Yは、脱離基を表すものであり、
    Xは (Xまたは(Xを表すものであり、
    、X、X、Xのそれぞれは、独立して―H、―CH―O―Tメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基フッ素または―CF を表すものであり、且つ、X、X、X、Xのうち少なくとも1つが―CH―O―Tであり、
    は、鎖式アルキル基であり、
    、R、Rのそれぞれは、独立して単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、1,4-ブチレン基、2-メチル基-エチレン基、1-エチル基-プロピレン基、1,1-ジメチル基-プロピレン基、1,2-ジメチル基-プロピレン基、2,2-ジメチル基-プロピレン基、1-エチル基-1-メチル基-プロピレン基、1-エチル基-2-メチル基-プロピレン基、1,1,2-トリメチル基-プロピレン基、1,2,2-トリメチル基-プロピレン基、1-メチル基-プロピレン基、2-メチル基-プロピレン基、―S―、―O―、
    、―C(CF)―または―SO―を表すものであり、
    m、nのそれぞれは、独立して0~6であり、且つ1≦m+n≦2であり、
    a、b、c、dのそれぞれは、独立して0~4であり、且つ、a、b、c、dのうち少なくとも1者が1~4であり、
    mが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり、
    nが1より大きい場合、各Rは相同または相異のものであり
    が複数ある場合、各Tは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであり、
    が複数ある場合、各Xは相同または相異のものであることを特徴とするジアミン化合物の製造方法。
  8. 請求項1~請求項6のいずれか一項に記載のジアミン化合物を含むジアミン組成成分を備えていることを特徴とする重合体生成用組成物。
  9. 請求項1~請求項6のいずれか一項に記載のジアミン化合物によるジアミン残基を有することを特徴とする重合体。
  10. ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリエステルイミド、ポリアミック酸エステル、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾイミダゾール、及びこれら重合体の成分と他の成分とにより生成された共重合体からなる群より選ばれることを特徴とする請求項9に記載の重合体。
  11. 請求項9または請求項10に記載の重合体を含むことを特徴とする樹脂組成物。
  12. 請求項11に記載の樹脂組成物により形成されたものであることを特徴とする製品。
  13. 請求項12に記載の製品を含んでいることを特徴とする電子装置。
  14. 半導体装置または表示装置であることを特徴とする請求項13に記載の電子装置。
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