JP7394520B2 - 最適化された低エネルギ/高生産性の蒸着システム - Google Patents
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Description
本願は、2017年1月23日出願の米国仮出願第62/449,325号の利益を主張する。上記の出願の開示全体が、参照によって本明細書に組み込まれる。
本開示は、以下の適用例としても実現可能である。
<適用例1>
基板処理ツールのための機械式インデクサであって、
第1エンドエフェクタおよび第2エンドエフェクタを有する第1アームであって、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタを前記基板処理ツールの複数の処理ステーションに選択的に配置すると共に、(ii)前記第1アームの前記第2エンドエフェクタを前記基板処理ツールの前記複数の処理ステーションに選択的に配置するために、第1スピンドル上で回転するように構成された、第1アームと、
第1エンドエフェクタおよび第2エンドエフェクタを有する第2アームであって、(i)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタを前記基板処理ツールの前記複数の処理ステーションに選択的に配置すると共に、(ii)前記第2アームの前記第2エンドエフェクタを前記基板処理ツールの前記複数の処理ステーションに選択的に配置するために、第2スピンドル上で回転するように構成された、第2アームと、
を備え、
前記複数の処理ステーションの少なくとも1つは、前記基板処理ツールのロードステーションに対応し、
前記第1アームは、前記第1アームの前記第1エンドエフェクタまたは前記第2エンドエフェクタが前記ロードステーションに配置されると同時に、前記第2アームの前記第1エンドエフェクタまたは前記第2エンドエフェクタが前記ロードステーションに配置されるように、前記第2アームと独立して回転するように構成される、機械式インデクサ。
<適用例2>
適用例1に記載の機械式インデクサであって、前記第1スピンドルおよび前記第2スピンドルは同軸である、機械式インデクサ。
<適用例3>
適用例1に記載の機械式インデクサであって、前記第1アームおよび前記第2アームの各々は、前記基板処理ツールの前記複数の処理ステーションに対して上下されるように構成される、機械式インデクサ。
<適用例4>
適用例1に記載の機械式インデクサであって、前記第2スピンドルは、前記第1スピンドル内に配置される、機械式インデクサ。
<適用例5>
適用例1に記載の機械式インデクサであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第1構成になるように回転可能であり、
前記第1構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第1処理ステーションおよび第3処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第2処理ステーションおよび第4処理ステーションにそれぞれ配置される、機械式インデクサ。
<適用例6>
適用例5に記載の機械式インデクサであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第2構成になるように回転可能であり、
前記第2構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第1処理ステーションおよび前記第3処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第3処理ステーションおよび前記第1処理ステーションにそれぞれ配置される、機械式インデクサ。
<適用例7>
適用例6に記載の機械式インデクサであって、前記第1処理ステーションは、前記基板処理ツールの前記ロードステーションに対応する、機械式インデクサ。
<適用例8>
適用例6に記載の機械式インデクサであって、(i)前記第1処理ステーションおよび前記第3処理ステーションは、前記基板処理ツールの反対側の角に配置され、(ii)前記第2処理ステーションおよび前記第4処理ステーションは、前記基板処理ツールの反対側の角に配置される、機械式インデクサ。
<適用例9>
適用例1に記載の機械式インデクサであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第1構成になるように回転可能であり、
前記第1構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第1処理ステーションおよび第4処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第2処理ステーションおよび第3処理ステーションにそれぞれ配置される、機械式インデクサ。
<適用例10>
適用例9に記載の機械式インデクサであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第2構成になるように回転可能であり、
前記第2構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第1処理ステーションおよび前記第4処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第4処理ステーションおよび前記第1処理ステーションにそれぞれ配置される、機械式インデクサ。
<適用例11>
適用例10に記載の機械式インデクサであって、(i)前記第1処理ステーションおよび前記第4処理ステーションは、前記基板処理ツールの第1側面に配置され、(ii)前記第2処理ステーションおよび前記第3処理ステーションは、前記第1側面と反対側にある前記基板処理ツールの第2側面に配置される、機械式インデクサ。
<適用例12>
適用例10に記載の機械式インデクサであって、前記第1処理ステーションおよび前記第4処理ステーションは、前記基板処理ツールのロードステーションに対応する、機械式インデクサ。
<適用例13>
基板処理ツールであって、
真空移送モジュールと、
前記真空移送モジュールに接続された複数の処理モジュールであって、前記複数の処理モジュールの少なくとも1つは、適用例1の機械式インデクサを備える、複数の処理モジュールと、
を備える、基板処理ツール。
<適用例14>
適用例13に記載の基板処理ツールであって、前記複数の処理モジュールは、前記真空移送モジュールの第1側面に接続された第1および第2処理モジュールと、前記真空移送モジュールの第2側面に接続された第3および第4処理モジュールと、を含む、基板処理ツール。
<適用例15>
適用例14に記載の基板処理ツールであって、さらに、(i)前記第1側面と、(ii)前記第1および第2処理モジュールとの間に配置されたアダプタプレートを備え、
前記アダプタプレートは、前記真空移送モジュールの前記第1側面と接続するように構成された平坦な側面と、前記第1および第2処理モジュールと接続するように構成された角度付きの側面とを備える、基板処理ツール。
<適用例16>
適用例14に記載の基板処理ツールであって、前記真空移送モジュールの前記第1側面および前記第2側面は面取りされている、基板処理ツール。
<適用例17>
適用例16に記載の基板処理ツールであって、さらに、(i)前記第1側面と、(ii)前記第1および第2処理モジュールと、の間に配置されたアダプタプレートを備え、 前記アダプタプレートは、前記真空移送モジュールの前記第1側面と接続するように構成された角度付きの側面と、前記第1および第2処理モジュールと接続するように構成された平坦な側面とを備える、基板処理ツール。
Claims (18)
- 基板処理ツールであって、
真空移送モジュールと、
複数の処理ステーションを備える少なくとも1つの処理モジュールであって、前記少なくとも1つの処理モジュールは、前記真空移送モジュールに接続され、機械式インデクサを備える、少なくとも1つの処理モジュールと、
を備え、
前記機械式インデクサは、前記少なくとも1つの処理モジュールの内部および前記真空移送モジュールの外部に、
第1エンドエフェクタおよび第2エンドエフェクタを有する第1アームであって、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタを前記少なくとも1つの処理モジュールの内部の前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置すると共に、(ii)前記第1アームの前記第2エンドエフェクタを前記少なくとも1つの処理モジュールの内部の前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置するために、前記少なくとも1つの処理モジュールの内部の第1スピンドル上で回転するように構成された、第1アームと、
第1エンドエフェクタおよび第2エンドエフェクタを有する第2アームであって、(i)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタを前記少なくとも1つの処理モジュールの内部の前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置すると共に、(ii)前記第2アームの前記第2エンドエフェクタを前記少なくとも1つの処理モジュールの内部の前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置するために、前記少なくとも1つの処理モジュールの内部の第2スピンドル上で回転するように構成された、第2アームと、
を備え、
前記複数の処理ステーションの少なくとも1つは、前記少なくとも1つの処理モジュールのロードステーションに対応し、前記ロードステーションは、前記少なくとも1つの処理モジュールと前記真空移送モジュールとの間における基板搬送を可能にするように構成されたスロットに隣接して設置されており、前記ロードステーションは、前記スロットを介して前記真空移送モジュールから基板を受け取るように構成され、
前記第1アームは、前記第1アームの前記第1エンドエフェクタまたは前記第2エンドエフェクタの1つが前記ロードステーションに配置されると同時に、前記第2アームの前記第1エンドエフェクタまたは前記第2エンドエフェクタの1つが前記ロードステーションに配置されるように、前記第2アームと独立して回転するように構成され、
前記機械式インデクサは、前記少なくとも1つの処理モジュールの内部において複数の基板を同時に搬送することにより、前記少なくとも1つの処理モジュールの処理スループットを増大させるように構成されている、
基板処理ツール。 - 請求項1に記載の基板処理ツールであって、前記第1スピンドルおよび前記第2スピンドルは同軸である、基板処理ツール。
- 請求項1に記載の基板処理ツールであって、前記第1アームおよび前記第2アームの各々は、前記少なくとも1つの処理モジュールの前記複数の処理ステーションに対して上下されるように構成される、基板処理ツール。
- 請求項1に記載の基板処理ツールであって、前記第2スピンドルは、前記第1スピンドル内に配置される、基板処理ツール。
- 請求項1に記載の基板処理ツールであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第1構成になるように回転可能であり、
前記第1構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第1処理ステーションおよび第3処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第2処理ステーションおよび第4処理ステーションにそれぞれ配置される、基板処理ツール。 - 請求項5に記載の基板処理ツールであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第2構成になるように回転可能であり、
前記第2構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第1処理ステーションおよび前記第3処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第3処理ステーションおよび前記第1処理ステーションにそれぞれ配置される、基板処理ツール。 - 請求項6に記載の基板処理ツールであって、前記第1処理ステーションは、前記少なくとも1つの処理モジュールの前記ロードステーションに対応する、基板処理ツール。
- 請求項6に記載の基板処理ツールであって、(i)前記第1処理ステーションおよび前記第3処理ステーションは、前記少なくとも1つの処理モジュールの反対側の角に配置され、(ii)前記第2処理ステーションおよび前記第4処理ステーションは、前記少なくとも1つの処理モジュールの反対側の角に配置される、基板処理ツール。
- 請求項1に記載の基板処理ツールであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第1構成になるように回転可能であり、
前記第1構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第1処理ステーションおよび第4処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の第2処理ステーションおよび第3処理ステーションにそれぞれ配置される、基板処理ツール。 - 請求項9に記載の基板処理ツールであって、
前記第1アームおよび前記第2アームは、第2構成になるように回転可能であり、
前記第2構成では、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第1処理ステーションおよび前記第4処理ステーションにそれぞれ配置され、(ii)前記第2アームの前記第1エンドエフェクタおよび前記第2エンドエフェクタが、前記複数の処理ステーションの内の前記第4処理ステーションおよび前記第1処理ステーションにそれぞれ配置される、基板処理ツール。 - 請求項10に記載の基板処理ツールであって、(i)前記第1処理ステーションおよび前記第4処理ステーションは、前記少なくとも1つの処理モジュールの第1側面に配置され、(ii)前記第2処理ステーションおよび前記第3処理ステーションは、前記第1側面と反対側にある前記少なくとも1つの処理モジュールの第2側面に配置される、基板処理ツール。
- 請求項10に記載の基板処理ツールであって、前記第1処理ステーションおよび前記第4処理ステーションは、それぞれロードステーションに対応する、基板処理ツール。
- 請求項1に記載の基板処理ツールであって、
前記真空移送モジュールに接続された複数の処理モジュールを備える、基板処理ツール。 - 請求項13に記載の基板処理ツールであって、前記複数の処理モジュールは、前記真空移送モジュールの第1側面に接続された第1および第2処理モジュールと、前記真空移送モジュールの第2側面に接続された第3および第4処理モジュールと、を含む、基板処理ツール。
- 請求項14に記載の基板処理ツールであって、さらに、(i)前記第1側面と、(ii)前記第1および第2処理モジュールとの間に配置されたアダプタプレートを備え、
前記アダプタプレートは、前記真空移送モジュールの前記第1側面と接続するように構成された平坦な側面と、前記第1および第2処理モジュールと接続するように構成された角度付きの側面とを備える、基板処理ツール。 - 請求項14に記載の基板処理ツールであって、前記真空移送モジュールの前記第1側面および前記第2側面は面取りされている、基板処理ツール。
- 請求項16に記載の基板処理ツールであって、さらに、(i)前記第1側面と、(ii)前記第1および第2処理モジュールと、の間に配置されたアダプタプレートを備え、 前記アダプタプレートは、前記真空移送モジュールの前記第1側面と接続するように構成された角度付きの側面と、前記第1および第2処理モジュールと接続するように構成された平坦な側面とを備える、基板処理ツール。
- 基板処理ツールであって、
処理モジュール内に配置された機械式インデクサであって、前記処理モジュールは、複数の処理ステーションを備え、前記機械式インデクサは、
第1エンドエフェクタ、第2エンドエフェクタ、および第1スピンドルを有する第1アームであって、(i)前記第1アームの前記第1エンドエフェクタを前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置すると共に、(ii)前記第1アームの前記第2エンドエフェクタを前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置するために、前記処理モジュール内の前記第1スピンドル上で回転するように構成された、第1アームと、
第3エンドエフェクタ、第4エンドエフェクタ、および前記第1スピンドルとは別の第2スピンドルを有する第2アームであって、前記第1スピンドルおよび前記第2スピンドルは同軸であり、(i)前記第2アームの前記第3エンドエフェクタを前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置すると共に、(ii)前記第2アームの前記第4エンドエフェクタを前記複数の処理ステーションの各々に選択的に配置するために、前記処理モジュール内の前記第2スピンドル上で回転するように構成された、第2アームと、
を備える、機械式インデクサを備え、
前記第1アームは、前記第1スピンドルを介して前記第2アームと独立して上下されるように構成され、さらに、前記第1スピンドルを介して前記第2アームと独立して回転するように構成され、
前記機械式インデクサは、前記処理モジュールの内部において複数の基板を同時に搬送することにより、前記処理モジュールの処理スループットを増大させるように構成されている、
基板処理ツール。
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