JP7364495B2 - 防振ゴム組成物およびその製造方法、ならびに防振ゴム部材 - Google Patents
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- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 title claims description 104
- 239000005060 rubber Substances 0.000 title claims description 104
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 238000004898 kneading Methods 0.000 claims description 32
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 claims description 30
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 28
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims description 27
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 27
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 27
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 26
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 25
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 23
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 17
- 238000000235 small-angle X-ray scattering Methods 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 38
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 31
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 10
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 9
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 9
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 7
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 bis-(3-(triethoxysilyl)-propyl)- -propyl Chemical group 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 4
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 4
- 239000010734 process oil Substances 0.000 description 4
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 3
- QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M sulfenamide Chemical compound [Cl-].COC1=C(C)C=[N+]2C3=NC4=CC=C(OC)C=C4N3SCC2=C1C QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- 241000150258 Prospect Hill orthohantavirus Species 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003811 acetone extraction Methods 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N dibenzylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibenzylcarbamodithioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)C(=S)SSC(=S)N(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N dibutylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound CCCCN(CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CCCC)CCCC PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- GQWNEBHACPGBIG-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-2-[2-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanylamino)ethoxy]ethanamine Chemical compound C1=CC=C2SC(SNCCOCCNSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 GQWNEBHACPGBIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000218 poly(hydroxyvalerate) Polymers 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MACMAADVRVVHBD-VMPITWQZSA-N (e)-1-(2,4-dihydroxyphenyl)-3-(2-hydroxyphenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1O MACMAADVRVVHBD-VMPITWQZSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJPKMTDFFUTLGM-UHFFFAOYSA-N 1-aminoethanol Chemical compound CC(N)O UJPKMTDFFUTLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxysilane Chemical compound COCCO[SiH3] WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQVVPOMBWBKNRS-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-yl)propyl-triethoxysilane Chemical compound C1=CC=C2SC(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=NC2=C1 KQVVPOMBWBKNRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFGLXKZGFFRQAR-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-yltetrasulfanyl)propyl-trimethoxysilane Chemical compound C1=CC=C2SC(SSSSCCC[Si](OC)(OC)OC)=NC2=C1 HFGLXKZGFFRQAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKQWHIMDQYDQSR-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylthiirane-2-carboxylate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C1(C)CS1 AKQWHIMDQYDQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXLINXBIWJYFNR-UHFFFAOYSA-N 4-phenylpyridine-2-carbonitrile Chemical compound C1=NC(C#N)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 TXLINXBIWJYFNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC Chemical compound CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKFGZHGVWONCTD-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC SKFGZHGVWONCTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMSINRARNNWSHY-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC NMSINRARNNWSHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000006237 Intermediate SAF Chemical class 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005662 Paraffin oil Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004279 X-ray Guinier Methods 0.000 description 1
- XAQHXGSHRMHVMU-UHFFFAOYSA-N [S].[S] Chemical compound [S].[S] XAQHXGSHRMHVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000427 antigen Substances 0.000 description 1
- 102000036639 antigens Human genes 0.000 description 1
- 108091007433 antigens Proteins 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VTEKOFXDMRILGB-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl)carbamothioylsulfanyl n,n-bis(2-ethylhexyl)carbamodithioate Chemical compound CCCCC(CC)CN(CC(CC)CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CC(CC)CCCC)CC(CC)CCCC VTEKOFXDMRILGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- VMULYNIDGGUNGG-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylthiirane-2-carboxylate Chemical compound C(C1(CS1)C)(=O)OCCC VMULYNIDGGUNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDHWMAJBNWALQ-UHFFFAOYSA-M sodium;1,3-benzothiazol-3-ide-2-thione Chemical compound [Na+].C1=CC=C2SC([S-])=NC2=C1 VLDHWMAJBNWALQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASAOXGWSIOQTDI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(2-triethoxysilylethyltetrasulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCSSSSCC[Si](OCC)(OCC)OCC ASAOXGWSIOQTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLFNHRIZTXWZHT-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltrisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC KLFNHRIZTXWZHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSXKIRYGYMKWSK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(2-trimethoxysilylethyltetrasulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCSSSSCC[Si](OC)(OC)OC JSXKIRYGYMKWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSCCC[Si](OC)(OC)OC NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- PGNWIWKMXVDXHP-UHFFFAOYSA-L zinc;1,3-benzothiazole-2-thiolate Chemical compound [Zn+2].C1=CC=C2SC([S-])=NC2=C1.C1=CC=C2SC([S-])=NC2=C1 PGNWIWKMXVDXHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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- Vibration Prevention Devices (AREA)
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このため、従来より、防振ゴムの耐久性を改良するために、防振ゴム組成物にシリカとシランカップリング剤を添加する手法が用いられている(例えば、特許文献1および2参照)。
上記硫化亜鉛結晶物は、防振ゴム組成物の加硫反応の際に余剰成分となった亜鉛成分(酸化亜鉛に起因するもの)と硫黄成分とが結合して生成された結晶物であり、上記加硫反応の際の副生成物(加硫残渣)である。従来の防振ゴム組成物では、たとえ本発明の防振ゴム組成物と同様の材料を含有させた場合であったとしても、その調製方法等に起因し、亜鉛成分や硫黄成分がシリカ表面に吸着して局所的に反応が進みやすくなる等のことから、硫化亜鉛結晶物が大きな結晶物となって析出しやすく、かつ上記結晶物が防振ゴム中で偏在しやすくなる。そして、本発明の課題を充分に解決することができないといった問題が生じる。これに対して、本発明の防振ゴム組成物では、先に述べたような材料の組み合わせで、かつその調製方法の工夫等により、従来では成し得ない加硫残渣(硫化亜鉛結晶物)の極小化に成功し、そして、上記防振ゴム組成物の加硫体に対してX線小角散乱測定により測定される硫化亜鉛結晶物の粒径が3.8nm以下であるときに、本発明の課題を充分に解決することができることを見いだしたのである。
上記のような硫化亜鉛結晶物の極小化により所望の物性が得られるようになる理由は、硫化亜鉛結晶物の極小化が、防振ゴム組成物の加硫反応が均一に進行していることを示しているとともに、上記硫化亜鉛結晶物の生成が抑えられるよう酸化亜鉛や硫黄系加硫剤が効率よく加硫反応に使われていることを示していると考えられるからである。また、上記のように硫化亜鉛結晶物が極小化していることは、シリカ表面に対するシランカップリング剤の被覆が良好になされ、亜鉛成分や硫黄成分がシリカ表面に吸着されるのを防いでいることを示していると考えられる。これらのことから、上記のような硫化亜鉛結晶物の極小化が、耐久性等の向上に寄与する結果につながったと推察される。
[1]下記の(A)成分からなるポリマーとともに、下記の(B)~(E)成分を含有する防振ゴム組成物であって、上記防振ゴム組成物の加硫体に対してX線小角散乱測定により測定される硫化亜鉛結晶物の粒径が3.8nm以下であることを特徴とする防振ゴム組成物。
(A)ジエン系ゴム。
(B)シリカ。
(C)シランカップリング剤。
(D)酸化亜鉛。
(E)硫黄系加硫剤。
[2]上記酸化亜鉛(D)の含有割合が、上記ジエン系ゴム(A)100重量部に対して2~20重量部の範囲である、[1]に記載の防振ゴム組成物。
[3]上記シリカ(B)の含有割合が、上記ジエン系ゴム(A)100重量部に対して5~100重量部の範囲である、[1]または[2]に記載の防振ゴム組成物。
[4][1]~[3]のいずれかに記載の防振ゴム組成物の製造方法であって、下記の(A)~(C)成分を混練機で混練し、混練物を得る工程(I)と、上記工程(I)を経た後の混練物を取り出し、再度混練機に投入して混練する工程(II)と、上記工程(I)および工程(II)を経た後の混練物に対して下記の(D)成分を加えて混練する工程(III)と、上記工程(I)~(III)を完了した後の混練物に対して下記の(E)成分を加えて混練する工程(IV)とを備えていることを特徴とする防振ゴム組成物の製造方法。
(A)ジエン系ゴム。
(B)シリカ。
(C)シランカップリング剤。
(D)酸化亜鉛。
(E)硫黄系加硫剤。
[5]上記工程(II)を複数回繰り返し行う、[4]に記載の防振ゴム組成物の製造方法。
[6]上記工程(II)を、上記工程(I)を経て取り出した混練物が45℃以下になった時点で再度混練機に投入して混練する工程とする、[4]または[5]に記載の防振ゴム組成物の製造方法。
[7][1]~[3]のいずれかに記載の防振ゴム組成物の加硫体からなることを特徴とする防振ゴム部材。
また、本発明の防振ゴム組成物における「防振ゴム組成物の加硫体に対してX線小角散乱測定により測定される硫化亜鉛結晶物の粒径が3.8nm以下である」との要件は、ゴム組成物に含まれる各成分の組み合わせのみならず、本発明における上記ゴム組成物の特徴的な製造方法により実現可能となる部分が大きい。そのため、本発明の防振ゴム組成物の製造方法は、先に述べたような、耐久性等に優れた防振ゴム組成物を得るのに、大きく貢献することができる。
(A)ジエン系ゴム。
(B)シリカ。
(C)シランカップリング剤。
(D)酸化亜鉛。
(E)硫黄系加硫剤。
なお、上記加硫体中の硫化亜鉛結晶物には、硫黄成分や亜鉛成分の他、ゴム組成物中の他の成分が若干量含まれる場合もある。また、上記X線小角散乱測定により測定される結晶物が硫化亜鉛であることは、上記結晶物の成分を透過型電子顕微鏡(TEM)-エネルギー分散型X線分光(EDX)によって分析することにより確認することができる。
上記のように、本発明の防振ゴム組成物は、ジエン系ゴム(A)からなるポリマーを用いている。なお、本発明において、ジエン系ゴム(A)以外のポリマーは、使用しないことが望ましい。上記ジエン系ゴム(A)としては、好ましくは、天然ゴム(NR)を主成分とするジエン系ゴムが用いられる。ここで、「主成分」とは、上記ジエン系ゴム(A)の50重量%以上が天然ゴムであるものを示し、上記ジエン系ゴム(A)が天然ゴムのみからなるものも含める趣旨である。このように、天然ゴムを主成分とすることにより、強度や低動倍率化の点で優れるようになる。
また、天然ゴム以外のジエン系ゴムとしては、例えば、ブタジエンゴム(BR)、スチレン-ブタジエンゴム(SBR)、クロロプレンゴム(CR)、イソプレンゴム(IR)、アクリロニトリル-ブタジエンゴム(NBR)、エチレン-プロピレン-ジエンゴム(EPDM)、ブチルゴム(IIR)、クロロプレンゴム(CR)等があげられる。これらは単独でもしくは二種以上併せて用いられる。なお、これらのジエン系ゴムは、天然ゴムと併用することが望ましい。
上記シリカ(B)としては、例えば、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイダルシリカ等が用いられる。そして、これらは単独でもしくは二種以上併せて用いられる。
なお、上記シリカ(B)のBET比表面積は、例えば、試料を200℃で15分間脱気した後、吸着気体として混合ガス(N2:70%、He:30%)を用いて、BET比表面積測定装置(マイクロデータ社製、4232-II)により測定することができる。
上記シランカップリング剤(C)としては、例えば、メルカプト系シランカップリング剤、スルフィド系シランカップリング剤、アミン系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、ビニル系シランカップリング剤等が、単独でもしくは二種以上併せて用いられる。なかでも、上記シランカップリング剤(C)が、メルカプト系シランカップリング剤やスルフィド系シランカップリング剤であると、加硫密度が上がり、低動倍率、耐久性に特に効果があるため、好ましい。
上記酸化亜鉛(D)としては、例えば、酸化亜鉛一種、酸化亜鉛二種、酸化亜鉛三種、微細酸化亜鉛等があげられる。これらは単独でもしくは二種以上併せて用いられる。
上記硫黄系加硫剤(E)としては、例えば、硫黄(粉末硫黄,沈降硫黄,不溶性硫黄)、アルキルフェノールジスルフィド等の硫黄含有化合物等があげられる。これらは単独でもしくは二種以上併せて用いられる。
なお、上記カーボンブラックのヨウ素吸着量は、JIS K 6217-1(A法)に準拠して測定された値である。また、上記カーボンブラックのDBP吸収量は、JIS K 6217-4に準拠して測定された値である。
ここで、本発明の防振ゴム組成物は、その必須成分である(A)~(E)成分、および必要に応じて上記列記したその他の材料を用いて調製されるが、「防振ゴム組成物の加硫体に対してX線小角散乱測定により測定される硫化亜鉛結晶物の粒径が3.8nm以下である」といった本願発明の特徴的構成を実現するには、従来の調製方法では実現が難しい。
本発明の防振ゴム組成物の製造方法では、上記の本願発明の特徴的構成を実現可能とするよう、以下に示すような特徴的な製造方法を採用している。
(A)ジエン系ゴム。
(B)シリカ。
(C)シランカップリング剤。
(D)酸化亜鉛。
(E)硫黄系加硫剤。
なお、上記工程(I)では、(A)~(C)成分、必要に応じ(A)~(E)成分以外の任意成分が加えられて、混練されるが、これらの成分は、全て同時に配合して混練するのみならず、上記工程(I)の途中で段階的に加えてもよい。
なお、上記工程(II)は、上記工程(I)を経た後であるため、上記工程(II)において(A)~(C)成分を添加することはなく、(D)および(E)成分を添加することもない。但し、(A)~(E)成分以外の任意成分が上記工程(II)で加えられることを排除するものではない。
さらに、上記工程(II)を、上記工程(I)を経て取り出した混練物が45℃以下(25~40℃であるとより好ましく、30~40℃であると更に好ましい。)になった時点で再度混練機に投入して混練する工程とすると、分散がより良好となる。
なお、上記工程(III)は、上記工程(I)および工程(II)を経た後であるため、上記工程(III)において(A)~(C)成分を添加することはなく、(E)成分を添加することもない。但し、(D)成分とともに、(A)~(E)成分以外の任意成分が上記工程(III)で加えられることを排除するものではない。
なお、上記工程(IV)は、工程(I)~(III)が完了した後に行われるため、上記工程(IV)において(A)~(D)成分を添加することはないが、上記工程(IV)で加えられる(E)成分の他、必要に応じ、加硫促進剤等の任意成分を加えることができる。
また、上記工程(IV)は、上記工程(I)~(III)を経て得られた混練物が45℃以下(25~45℃であるとより好ましく、30~40℃であると更に好ましい。)になった時点で行うと、急激に反応が進むことなく、加硫成形に際し、より均一な加硫を行うことができるようになる。
また、上記用途以外にも、コンピューターのハードディスクの制振ダンパー、洗濯機等の一般家電製品の制振ダンパー、建築・住宅分野における建築用制震壁,制震(制振)ダンパー等の制震(制振)装置および免震装置の用途にも用いることができる。
天然ゴム
酸化亜鉛二種、堺化学工業社製
ビーズステアリン酸さくら、日本油脂社製
アンチゲン6C、住友化学社製
ニプシールVN3、東ソー・シリカ社製、BET比表面積200m2/g
サンセン410、日本サン石油社製
NXT Z45、MOMENTIVE社製
サンセラーCZ-G、三新化学社製
硫黄、軽井沢製錬所社製
上記各材料を、後記の表1に示す割合で配合して混練することにより、防振ゴム組成物を調製した。なお、実施例1、比較例1,2は、後記の表1に示すように、同じ材料を、同じ割合で配合している。
実施例1、比較例2では、まず、酸化亜鉛、加硫剤(硫黄)、加硫促進剤以外の材料を、バンバリーミキサーを用いて140℃で5分間混練を行った。
比較例1では、まず、加硫剤(硫黄)、加硫促進剤以外の材料を、バンバリーミキサーを用いて140℃で5分間混練を行った。
比較例1では、上記のような再混練工程は行わなかった。
上記各防振ゴム組成物を、プレス成形により、プレス圧15MPaで、160℃×20分間成形して、厚み2mmの加硫体を得た後、10mm×10mm×2mmの大きさの試料として切り出した。そして、上記試料に、アセトンを溶媒として24時間ソックスレー抽出を実施し、ゴム中の可溶性加硫反応生成物、硫黄残渣を取り除いたうえで、溶媒に不溶な加硫残渣(硫化亜鉛結晶物)の粒径測定を行った。
すなわち、上記試料に対し、上記のようにソックスレー抽出を実施し、アセトンに不溶の結晶成分のみとなった試料に対し、大型放射光施設であるSPring-8において、X線のエネルギーが18keV、カメラ長が2.04m、前記式(α-1)で表されるqが0.1~10nm-1の範囲で、小角散乱(SAXS)測定を実施した後、前記に示す方法に従い、フィッティング、Rgの導出、Rの計算を行うことにより、ゴム中の加硫残渣(硫化亜鉛結晶物)の粒径(2R)を求めた。
各防振ゴム組成物を、160℃×20分の条件でプレス成形(加硫)し、10mm×10mm×2mmの大きさのテストピースを作製した。そして、アセトン抽出後の上記テストピースを試料として、試料表面上の弾性率を粘弾性原子間力顕微鏡(AFM)によりマッピングした。上記マッピングに際し、曲率半径が20nmの探針を用いてタッピングモードで形状情報を取得するとともに、形状情報を取得した各ポイントにおいて探針を試料表面に30~40nm押し込み、探針全体のたわみ量からナノオーダーの力学特性を算出した。
このようにして得られたデータから、試料表面上で測定された弾性率のヒストグラムを作成し、そのトップピークの弾性率(最頻出弾性率)を調べた。そして、比較例1における最頻出弾性率の測定値を1としたときの、各実施例および比較例における最頻出弾性率の測定値を指数換算したものを表記した。評価においては、その値が、比較例1における最頻出弾性率の、1よりも大きなものを「○」と評価し、1以下であるものを「×」と評価した。
これに対し、比較例1および比較例2の防振ゴム組成物は、加硫残渣粒径が3.8nmを超えるものであり、実施例よりも耐久性に劣る結果となった。
Claims (7)
- 下記の(A)成分からなるポリマーとともに、下記の(B)~(E)成分を含有する防振ゴム組成物であって、上記防振ゴム組成物の加硫体に対してX線小角散乱測定により測定される硫化亜鉛結晶物の粒径が3.8nm以下であることを特徴とする防振ゴム組成物。
(A)ジエン系ゴム。
(B)シリカ。
(C)シランカップリング剤。
(D)酸化亜鉛。
(E)硫黄系加硫剤。 - 上記酸化亜鉛(D)の含有割合が、上記ジエン系ゴム(A)100重量部に対して2~20重量部の範囲である、請求項1記載の防振ゴム組成物。
- 上記シリカ(B)の含有割合が、上記ジエン系ゴム(A)100重量部に対して5~100重量部の範囲である、請求項1または2記載の防振ゴム組成物。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の防振ゴム組成物の製造方法であって、下記の(A)~(C)成分を混練機で混練し、混練物を得る工程(I)と、混練機から混練物を取り出し、再度混練機に投入して混練する工程(II)と、混練物に対して下記の(D)成分を加えて混練する工程(III)と、混練物に対して下記の(E)成分を加えて混練する工程(IV)とを順に備えていることを特徴とする防振ゴム組成物の製造方法。
(A)ジエン系ゴム。
(B)シリカ。
(C)シランカップリング剤。
(D)酸化亜鉛。
(E)硫黄系加硫剤。 - 上記工程(II)を複数回繰り返し行う、請求項4記載の防振ゴム組成物の製造方法。
- 上記工程(II)を、混練機から取り出した混練物が45℃以下になった時点で再度混練機に投入して混練する工程とする、請求項4または5記載の防振ゴム組成物の製造方法。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の防振ゴム組成物の加硫体からなることを特徴とする防振ゴム部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020033224A JP7364495B2 (ja) | 2020-02-28 | 2020-02-28 | 防振ゴム組成物およびその製造方法、ならびに防振ゴム部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020033224A JP7364495B2 (ja) | 2020-02-28 | 2020-02-28 | 防振ゴム組成物およびその製造方法、ならびに防振ゴム部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021134315A JP2021134315A (ja) | 2021-09-13 |
JP7364495B2 true JP7364495B2 (ja) | 2023-10-18 |
Family
ID=77660359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020033224A Active JP7364495B2 (ja) | 2020-02-28 | 2020-02-28 | 防振ゴム組成物およびその製造方法、ならびに防振ゴム部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7364495B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013065405A1 (ja) | 2011-11-01 | 2013-05-10 | 住友ゴム工業株式会社 | 高分子材料の反発弾性率、硬度及びエネルギーロスを評価する方法 |
JP2015129708A (ja) | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 住友ゴム工業株式会社 | 高分子材料解析方法 |
JP2018123225A (ja) | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 旭化成株式会社 | ヒステリシスロスが改良されたゴム組成物、加硫物、及びゴム組成物の製造方法 |
-
2020
- 2020-02-28 JP JP2020033224A patent/JP7364495B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013065405A1 (ja) | 2011-11-01 | 2013-05-10 | 住友ゴム工業株式会社 | 高分子材料の反発弾性率、硬度及びエネルギーロスを評価する方法 |
JP2015129708A (ja) | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 住友ゴム工業株式会社 | 高分子材料解析方法 |
JP2018123225A (ja) | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 旭化成株式会社 | ヒステリシスロスが改良されたゴム組成物、加硫物、及びゴム組成物の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021134315A (ja) | 2021-09-13 |
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