JP7362761B2 - 光導波路パッケージおよび発光装置 - Google Patents

光導波路パッケージおよび発光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7362761B2
JP7362761B2 JP2021553733A JP2021553733A JP7362761B2 JP 7362761 B2 JP7362761 B2 JP 7362761B2 JP 2021553733 A JP2021553733 A JP 2021553733A JP 2021553733 A JP2021553733 A JP 2021553733A JP 7362761 B2 JP7362761 B2 JP 7362761B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
optical waveguide
substrate
cladding
emitting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021553733A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021085621A1 (ja
Inventor
祥哲 板倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Publication of JPWO2021085621A1 publication Critical patent/JPWO2021085621A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7362761B2 publication Critical patent/JP7362761B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12004Combinations of two or more optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4266Thermal aspects, temperature control or temperature monitoring
    • G02B6/4268Cooling
    • G02B6/4269Cooling with heat sinks or radiation fins
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4296Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with sources of high radiant energy, e.g. high power lasers, high temperature light sources
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083Constructional arrangements
    • G02B2006/12121Laser
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083Constructional arrangements
    • G02B2006/12123Diode
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12133Functions
    • G02B2006/12135Temperature control
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12133Functions
    • G02B2006/12154Power divider
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4266Thermal aspects, temperature control or temperature monitoring
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02253Out-coupling of light using lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02438Characterized by cooling of elements other than the laser chip, e.g. an optical element being part of an external cavity or a collimating lens
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02469Passive cooling, e.g. where heat is removed by the housing as a whole or by a heat pipe without any active cooling element like a TEC
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4087Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength
    • H01S5/4093Red, green and blue [RGB] generated directly by laser action or by a combination of laser action with nonlinear frequency conversion

Description

本開示は、光導波路パッケージおよび発光装置に関する。
従来技術の一例は、特許文献1に記載されている。
特許第4215764号公報
本開示の光導波路パッケージは、基板と、
前記基板の上面に位置するクラッドおよび前記クラッド内に位置するコアを有する光導波層と、を備えており、
前記基板は、少なくとも前記上面に露出した第1部および第2部と、を有しており、
前記第2部の前記クラッドに対する密着強度は、前記第1部の前記クラッドに対する密着強度よりも高く、
前記第2部は、前記第1部内に分散した複数の粒状体を含む。
本開示の発光装置は、前記光導波路パッケージと、
前記光導波路パッケージの前記凹部に収容された発光素子と、を含んでいる。
本開示の目的、特色、および利点は、下記の詳細な説明と図面とからより明確になるであろう。
本開示の第1実施形態の光導波路パッケージを具備した発光装置を示す分解斜視図である。 図1に示される発光装置の封止蓋体を省略した斜視図である。 図1の切断面線III-IIIから見た発光装置の断面図である。 発光装置の凹部付近の一部の拡大断面図である。 基板1の表面の電子顕微鏡写真である。 本開示の第2実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第2実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。 本開示の第3実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第3実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。 本開示の第4実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第4実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。 本開示の第5実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第5実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。 本開示の第6実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第6実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。 本開示の第7実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第7実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。 本開示の第8実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第8実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。 本開示の第9実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、発光素子の一部を側方から見た断面図である。 本開示の第9実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、基板の一部を上方から見た平面図である。
上記特許文献1に記載される光導波路パッケージおよびそれを用いた発光装置の構成では、ポリマ層から構成され、またはポリマ層を主体に構成された光導波路を持つ第1の領域と、光導波路を持たない第2の領域を同一基板上に有するポリマ導波路基板を有している。該基板の表面において、ポリマ層と基板との密着性または接着性を向上するための接着層が、第1の領域および第2の領域に設けられる。
このとき、第1の領域の接着層はエッチングせずに、第2の領域の接着層をエッチングした後に、ポリマ層を基板全面に形成して光導波路が作製される。そして、第1の領域と第2の領域との境界のポリマ層を切断して、第2の領域のポリマ層を基板から剥離して除去することによって、電極を露出させる。
前記接着層は、ポリイミドシリコン樹脂、フッ素を含有しないポリイミド樹脂、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニア化合物、有機置端化合物のいずれか1つであるか、または、その組み合わせから成る。これによって、上記特許文献1に記載される構成では、導波路が接着層によって基板に接合されるので、基板が導波路から剥離することを低減でき、長期にわたって実用上十分な接着強度を維持できることが提案されている。
しかしながら、上記の特許文献1に記載される構成では、導波路と基板とが接着層によって大きな接着強度で接着されているので、発光素子の発光によって発生する熱応力を緩和できる部分を有していない。したがって、光導波路と基板との間には接着層を挟んで全体に高い熱応力が発生し、該熱応力が繰り返し発生することによって、基板と光導波路とが剥離する可能性があった。よって、更なる熱応力の緩和、及び光導波路の剥離の低減が求められている。
以下、添付図面を参照して、本開示の発光装置の実施形態について説明する。
(第1実施形態)
図1は本開示の第1実施形態の光導波路パッケージを具備した発光装置を示す分解斜視図であり、図2は図1に示される発光装置の封止蓋体を省略した斜視図である。図3は図1の切断面線III-IIIから見た発光装置の断面図である。
本実施形態の光導波路パッケージ50は、基板1と、基板1の上面2に位置するとともに、クラッド3およびクラッド3内に位置するコア4を有する光導波層5と、を備える。クラッド3は、上面6と、下面7と、基板1に向かって上面6から下面7に貫通する凹部8とを有する。凹部8および基板1の上面2によって、凹部8が規定され、凹部8を覆うように、クラッド3の上面6に封止蓋体11が積層される。封止蓋体11の下面11aと基板1の上面2との間には、クラッド3の凹部8の臨む内壁面13によって、発光素子10が収容される収容空間が規定される。
本実施形態の光導波路パッケージ50では、発光素子10をそれぞれ収容する複数(本実施形態では3)の凹部8を有し、各発光素子10を含んで発光装置20が構成される。発光素子10としては、レーザーダイオードなどが適用される。光導波層5は、コア4とクラッド3とが一体に結合されて構成される。基板1は、複数の誘電体層が積層されて形成されていてもよい。発光素子10は、基板1の上面2に表記されたマーカによって画像認識を用いたパッシブアライメントによって実装されてもよい。
基板1は、誘電体層がセラミック材料から成るセラミック配線基板であってもよい。セラミック配線基板で用いられるセラミック材料としては、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭化ケイ素質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、ガラスセラミック焼結体等が挙げられる。基板1がセラミック配線基板である場合、誘電体層には、発光素子および受光素子と外部回路との電気的接続のための接続パッド、内部配線導体、外部接続端子等の各導体が配設される。
基板1の材料としては、例えば誘電体層が有機材料から成る有機配線基板であってもよい。有機配線基板は、例えば、プリント配線基板、ビルドアップ配線基板、フレキシブル配線基板等である。有機配線基板に用いられる有機材料としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。
光導波層5は、例えば、石英などのガラス、樹脂等であってもよい。封止蓋体11の下面11aと基板1の上面2とは、金属またはガラス等の接合層55によって接合され、凹部8を気密に封止する。これによって凹部8は、高いガスバリア性を有し、外部から屈折率の異なる空気などの気体および異物の侵入が遮断されている。封止蓋体11は、例えば、クラッド3と同一材料から成ってもよい。
光導波層5において、コア4と、クラッド3を構成する材料としては、いずれもガラスあるいは樹脂であってもよく、一方がガラスで一方が樹脂であってもよい。この場合には、コア4とクラッド3との屈折率が異なっており、コア4はクラッド3よりも屈折率が高い。この屈折率の違いを利用して、光の全反射をさせる。つまり、屈折率の高い材料で路を作り、周りを屈折率の低い材料で囲んでおくと、光は屈折率の高いコア4内に閉じ込めることができる。
実施形態の発光装置は、赤色(R)光、緑色(G)光、青色(B)光の各色のレーザ光を出射する3つの発光素子のそれぞれが凹部8内に収容され、基板1の上面2に実装された共通の構成を具備する。そのため、ここでは、3つの発光素子10のうちの1つに関連する構成について説明する。なお、前述と対応する部分の参照符については、特に識別する必要がないときは、添え字a,b,cを省略する場合がある。コア4は、複数の入射端面4a,4b,4cと1つの出射端面42との間を、入射端面4a~4cを一端とする複数の分割路41a,41b,41cと、複数の分割路41a,41b,41cが会合する合波部43と、出射端面42を一端とする統合路44とを介して繋ぐ合波路を構成する。
集光レンズ45は、複数の入射端面4a,4b,4cに対応して複数設けられる。集光レンズ45はコア4の入射端面4a,4b,4cに対向配置される。入射端面4a,4b,4cの中心軸上に集光レンズ45の光軸が配置される。
各発光素子10から出射された赤色(R)光、緑色(G)光、青色(B)光の各光は、入射端面4a,4b,4cから分割路41a,41b,41cに入射し、合波部43および統合路44を経て、集光レンズ45によって集光し、出射する。
集光レンズ45は、例えば、入射面が平面に形成され、出射面が凸面の平凸レンズである。各分割路41a,41b,41cの各光軸と、各発光素子10の発光部の中心とが一致するように、光導波層5と発光素子10と集光レンズ45とが組み立てられる。
図4は発光装置の凹部付近の一部の拡大断面図であり、図5は基板1の表面の電子顕微鏡写真である。基板1は、第1部31と第2部32とを含んでいる。第1部31は、上面2がクラッド3と接している、低密着領域である。第2部32は、第1部31内に位置し、かつ上面2が第1部31から露出し、クラッド3と接して位置するとともに、第1部31よりもクラッド3に対する密着強度が高い、高密着領域である。
第1部31は、例えば、窒化アルミ(AlN)、窒化ホウ素(BN)、炭化ジルコニウム(ZrC)、ダイヤモンド(C)、フッ素系樹脂、等である。また、第2部32は、アルミナ(Al)、ジルコニア(ZrO)、マグネシア(MgO)、チタニア(TiO)、チタン酸バリウム(BaTiO)、石英ガラス、シリカ(SiO)、シリコン系樹脂、等であり、配合比は他の条件と合わせて適宜選択するのがよい。
基板1が第1部31と第2部32とを含んだ構成とすることによって、第2部32同士および第1部31と第2部32との密着強度を増強させ、熱膨張による剥離等による熱伝導率の低下を低減することができる。なお、密着強度は、例えば、基板1の下面あるいはクラッド3の上面から引っ張った際の、クラッド3の下面と基板1の上面2との境界における、クラッド3に対する第1部31および第2部32の残存量、残存面積、元の接着面積に対する残存面積等で評価することができる。
(第2実施形態)
図6A,図6Bは本開示の第2実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図6Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図6Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。基板1の上面2は、研磨加工等によって鏡面とされる。このように基板1の光導波層5との界面を研磨等により平坦度を高くすることによって、その上に成膜される光導波層5の平面性が改善され、光の伝搬効率を向上することができる。また、基板1の上面2を鏡面化することによって、反射による漏れ光を低減することができる。このような漏れ光の低減は、基板1の基材の反射率が高いほど低減率も高くすることができる。なお、鏡面とは、金属の表面や塗装面等を、反射して物が映る鏡のように仕上げた面のことである。
(第3実施形態)
図7A,図7Bは本開示の第3実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図7Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図7Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。第2部32は、主部と、主部から突出するとともに主部と連続して位置した突起33aと、を有する粒状体33を含んでいる。粒状体33とは、第1部31内に分散されている、粒状のもののことを指す。主部の形状は、例えば、円柱、円錐、円錐台、角柱、角錐、角錐台、球状、楕円体等である。突起33aは、主部の表面にさらに小さな粒が一体となって突出したものを指す。突起33aを有する粒状体33を含む第2部32によって、第2部32同士および第1部31と第2部32との密着強度を増強させ、熱膨張による剥離等による熱伝導率の低下を低減することができる。突起33aは、例えば、曲率半径0.01~5μm程度であればよく、形状は、例えば、円柱、円錐、円錐台、角柱、角錐、角錐台、球状、楕円体等である。
(第4実施形態)
図8A,図8Bは本開示の第4実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図8Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図8Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。第2部32は、基板1の厚み方向である第1方向Aに延びる複数の柱状体34を含んでいる。このような複数の柱状体34を含む第2部32によって、第1部31との接着界面の面積を増加させ、光導波層5と電極等の配線層、基板1全体との密着強度を増加させることができる。また、光導波層5、電極等の配線層から基板1の裏面に向けて通過する界面数が少ないため、効率よく放熱させることができる。柱状体とは、柱状のものであり、平面視において、例えば、円形状、矩形状であり、基板1の厚み方向に厚みを有するものであり、円柱状、角柱状のものである。
(第5実施形態)
図9A,図9Bは本開示の第5実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図9Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図9Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路パッケージ50は、少なくとも一部が基板1内に位置するとともに、凹部8の底面から端面が露出した円柱状のヒートシンク35を含んでいる。ヒートシンク35の熱伝導率は、第1部31の熱伝導率よりも高い材料、例えばAl合金、Cu合金等が用いられる。発光素子10の直下の基板1に、基板1よりも熱伝導率の高いヒートシンク35を埋め込むことによって、発光素子10から出る熱を効率よく放熱させることができる。また、ヒートシンク35の側面に高密着層である第2部32が分布するので、発光素子10が実装された電極15および基板1との密着強度を増加させることができる。また、ヒートシンク35は、第2部32の少なくとも一部と接していてもよく、その場合、放熱性および密着性がより一層向上する。なお、熱伝導率は、ホットディスク法、プローブ法、熱流量法、レーザーフラッシュ法等を関連規格に則って、測定および評価することができる。
(第6実施形態)
図10A,図10Bは本開示の第6実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図10Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図10Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。基板1は、上面2の反対側に位置する下面16を有している。ヒートシンク35は、埋設部35aと板状部35bとを有している。埋設部35aは、凹部8の底面から露出するとともに、凹部8の底面から下面16に向かって延びる。板状部35bは、埋設部35aと接続されるとともに下面16上に位置する。このように、基板1の下面16にも密着層としての板状部35bを設け、埋設部35aを介して電極15と接合することによって、電極15と基板1全体の密着強度を増加することができる。
(第7実施形態)
図11A,図11Bは本開示の第7実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図11Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図11Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路パッケージ50は、基板1の下面16の板状部35bが隙間36によって分割されている。これによって、熱応力を緩和し、基板1の変形等による破断、光伝搬ロスを軽減することができる。また、基板1が絶縁体、ヒートシンク35が金属材料から成る場合には、下面16から発光素子10の駆動用電力を供給することが可能である。
(第8実施形態)
図12A,図12Bは本開示の第8実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図12Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図12Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。基板1は上面2に接続する側面17を有し、クラッド3は、側面17に位置する被覆部分37をさらに含んでいる。このような被覆部分37によって、光導波層5のクラッド3を基板1の側面17まで延長し、光導波層5の基板1に対する密着強度を向上することができる。
(第9実施形態)
図13A,図13Bは本開示の第9実施形態の発光装置の一部の拡大図であり、図13Aは発光素子の一部を側方から見た断面図であり、図13Bは基板1の一部を上方から見た平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。基板1は、上面2の反対側に位置する下面16と、上面2と下面16とを接続する側面17とを有している。クラッド3は、側面17および下面16に位置し、側面17および下面16を被覆する被覆部分38を含んでいる。このような被覆部分38によって、光導波層5のクラッド3を基板1の側面17および下面16まで延長し、光導波層5の基板1に対する密着強度を向上することができる。
本開示のさらに他の実施形態では、発光素子10は、発光ダイオード(Light Emitting Diode;LED)に限るものではなく、例えば、LD(Laser Diode)、VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting Laser)などであってもよい。
本開示の光導波路パッケージは、上述したように、基板と、光導波層と、を備えており、前記基板は、少なくとも前記基板の上面に露出した第1部および第2部と、を有している。そして、前記第2部の前記クラッドに対する密着強度は、前記第1部の前記クラッドに対する密着強度よりも高い。また、本開示の発光装置は、前記光導波路パッケージと、前記光導波路パッケージの前記凹部に収容された発光素子と、を含んでいる。
本開示の光導波路パッケージおよび発光装置によれば、基板が第1部と第2部とを有しているので、第1部によって発光素子の熱により発生した熱応力を緩和し、第2部によって高い接合強度を得ることができる。その結果、熱応力を緩和して、基板が光導波層から剥離することを低減できる。
以上、本開示の実施形態について詳細に説明したが、また、本開示は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更、改良等が可能である。上記各実施形態をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。
1 基板
2 上面
3 クラッド
4 コア
4a,4b,4c 入射端面
5 光導波層
6 上面
7 下面
8 貫通孔
11 封止蓋体
11a 封止蓋体11の下面
13 内壁面
15 電極
16 下面
17 側面
10 発光素子
20 発光装置
31 第1部
32 第2部
33 粒状体
33a 突起
34 柱状体
35 接合層
35a 埋設部
35b 板状部
36 隙間
37,38 被覆部分
41a,41b,41c 分割路
42 出射端面
43 合波部
44 統合路
45 集光レンズ
50 光導波路パッケージ

Claims (10)

  1. 第1面を有する基板と、
    前記第1面に位置するクラッドおよび前記クラッド内に位置するコアを有する光導波層と、を備え、
    前記基板は、前記クラッドに接している第1部および第2部を有し、
    前記第2部の前記クラッドに対する密着強度は、前記第1部の前記クラッドに対する密着強度よりも高く、
    前記第2部は、前記第1部内に分散した複数の粒状体を含む、光導波路パッケージ。
  2. 前記第1面は、鏡面である、請求項1に記載の光導波路パッケージ。
  3. 前記複数の粒状体の少なくとも一部は、突起を有し、
    前記突起は、曲率半径が0.01~0.5μmである、請求項1または2に記載の光導波路パッケージ。
  4. 前記第2部は、前記基板の厚み方向に延びている柱状体を含んでいる、請求項1または2に記載の光導波路パッケージ。
  5. 前記クラッドは、凹部と、少なくとも一部が前記基板内に位置するとともに前記凹部の底面から露出したヒートシンクとを、さらに含んでおり、
    前記ヒートシンクの熱伝導率は、前記第1部の熱伝導率よりも高い、請求項1~4のいずれかに記載の光導波路パッケージ。
  6. 前記基板は、前記第1面の反対に位置する第2面をさらに有しており、
    前記ヒートシンクは、前記凹部の底面から露出しているとともに、前記凹部の底面から前記第2面に向かって延びている埋設部と、前記第2面上に位置する板状部と、を有している請求項5に記載の光導波路パッケージ。
  7. 前記基板は、前記第1面に繋がっている第3面をさらに有しており、
    前記クラッドは、前記第3面に位置する部分をさらに含んでいる請求項1~6のいずれかに記載の光導波路パッケージ。
  8. 前記基板は、前記第1面の反対に位置する第2面と、前記第1面と前記第2面とを接続している第3面とをさらに有しており、
    前記クラッドは、前記第3面および前記第2面に位置する部分をさらに含んでいる請求項1~6のいずれかに記載の光導波路パッケージ。
  9. 請求項1~8のいずれかに記載の光導波路パッケージと、
    前記光導波路パッケージに接続されている発光素子と、を備える発光装置。
  10. 前記クラッドは、凹部を有しており、
    前記発光素子は、赤色光、緑色光および青色光をそれぞれ発光する3つの発光素子を含み、
    前記3つの発光素子は、前記凹部に収容されている、請求項9に記載の発光装置。
JP2021553733A 2019-10-31 2020-10-30 光導波路パッケージおよび発光装置 Active JP7362761B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019199086 2019-10-31
JP2019199086 2019-10-31
PCT/JP2020/040915 WO2021085621A1 (ja) 2019-10-31 2020-10-30 光導波路パッケージおよび発光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021085621A1 JPWO2021085621A1 (ja) 2021-05-06
JP7362761B2 true JP7362761B2 (ja) 2023-10-17

Family

ID=75715529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021553733A Active JP7362761B2 (ja) 2019-10-31 2020-10-30 光導波路パッケージおよび発光装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20220373736A1 (ja)
EP (1) EP4053608A4 (ja)
JP (1) JP7362761B2 (ja)
CN (1) CN114631238A (ja)
WO (1) WO2021085621A1 (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003101044A (ja) 2001-09-20 2003-04-04 Kyocera Corp 光導波路と半導体受光素子との接続構造
WO2004005216A1 (ja) 2002-07-09 2004-01-15 Kenichiro Miyahara 薄膜形成用基板、薄膜基板、光導波路、発光素子、及び発光素子搭載用基板
WO2005045908A1 (ja) 2003-11-06 2005-05-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 基板貼り合わせ方法、その貼り合わせ基板及び直接接合基板
JP2006323317A (ja) 2005-05-20 2006-11-30 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路構造体
JP2011112973A (ja) 2009-11-28 2011-06-09 Kyocera Corp 光導波路部材
WO2016047447A1 (ja) 2014-09-24 2016-03-31 日東電工株式会社 光電気混載基板およびその製法
WO2019117035A1 (ja) 2017-12-12 2019-06-20 日東電工株式会社 光電気混載基板

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08110446A (ja) * 1994-10-12 1996-04-30 Hitachi Ltd 光伝送モジュール
DE19549395A1 (de) * 1995-02-07 1996-10-31 Ldt Gmbh & Co Bilderzeugungssysteme zur Bestimmung von Sehfehlern an Probanden und für deren Therapie
EP0823280B1 (en) * 1996-02-28 2004-06-16 Hoya Corporation Photocatalyst filter device
US6112002A (en) * 1996-11-29 2000-08-29 Fujitsu Limited Optical coupler optically coupling a light beam of a semiconductor laser source with a single mode optical waveguide or fiber
JP3814924B2 (ja) * 1997-04-03 2006-08-30 住友電気工業株式会社 半導体装置用基板
JP4215764B2 (ja) 2005-09-26 2009-01-28 株式会社日立製作所 光導波路及び光導波路の製造方法
JP6712742B2 (ja) * 2014-09-24 2020-06-24 日東電工株式会社 光電気混載基板およびその製法
FR3062209B1 (fr) * 2017-01-25 2021-08-27 Commissariat Energie Atomique Detecteur optique de particules

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003101044A (ja) 2001-09-20 2003-04-04 Kyocera Corp 光導波路と半導体受光素子との接続構造
WO2004005216A1 (ja) 2002-07-09 2004-01-15 Kenichiro Miyahara 薄膜形成用基板、薄膜基板、光導波路、発光素子、及び発光素子搭載用基板
WO2005045908A1 (ja) 2003-11-06 2005-05-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 基板貼り合わせ方法、その貼り合わせ基板及び直接接合基板
JP2006323317A (ja) 2005-05-20 2006-11-30 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路構造体
JP2011112973A (ja) 2009-11-28 2011-06-09 Kyocera Corp 光導波路部材
WO2016047447A1 (ja) 2014-09-24 2016-03-31 日東電工株式会社 光電気混載基板およびその製法
WO2019117035A1 (ja) 2017-12-12 2019-06-20 日東電工株式会社 光電気混載基板

Also Published As

Publication number Publication date
EP4053608A4 (en) 2023-11-29
EP4053608A1 (en) 2022-09-07
WO2021085621A1 (ja) 2021-05-06
US20220373736A1 (en) 2022-11-24
CN114631238A (zh) 2022-06-14
JPWO2021085621A1 (ja) 2021-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100593935B1 (ko) 발광 다이오드 패키지 및 그 제조 방법
JP7238058B2 (ja) 光導波路パッケージおよび発光装置
JP2007294834A (ja) 発光装置
JP7300794B2 (ja) 光導波路パッケージおよび発光装置
JP2008235827A (ja) 発光装置
KR20100094463A (ko) 백라이팅 응용을 위한 측면 발광 led 광원
JP7362761B2 (ja) 光導波路パッケージおよび発光装置
US10808903B2 (en) Light converting device with ceramic protection layer
JP2023127591A (ja) 光導波路パッケージおよび発光装置
JP7233301B2 (ja) 半導体発光装置
JP2007201354A (ja) 発光モジュール
CN115668669A (zh) 光波导封装件以及发光装置
WO2023033107A1 (ja) 光導波路パッケージおよび発光装置
WO2023038014A1 (ja) 発光装置
WO2022176992A1 (ja) 発光装置
WO2022176987A1 (ja) 発光装置
JP7217692B2 (ja) 光導波路パッケージおよび発光装置
WO2023153419A1 (ja) 光導波路基板、光導波路パッケージおよび光源モジュール
US20230344192A1 (en) Light emitting device
JP6897729B2 (ja) 発光装置の製造方法
JP7266175B2 (ja) 発光モジュールおよび面状光源
US20240136788A1 (en) Light emitter
JP6575576B2 (ja) 発光装置の製造方法
JP7299492B2 (ja) 発光装置および発光モジュール
WO2008069236A1 (ja) 導光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230314

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230512

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230627

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230824

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230905

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231004

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7362761

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150