JP4215764B2 - 光導波路及び光導波路の製造方法 - Google Patents
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Description
(2)ポリマ光導波路を残す導波路部のみにポリマ光導波路と基板との密着性を向上する接着層を設ける。
(3)基板全面にポリマ光導波路を作製する。
(4)ダイシング装置により搭載部と導波路部の境界部のポリマ層を切断する。
Claims (5)
- ポリマ層から構成され又はポリマ層を主体に構成された光導波路を持つ第1の領域と前記光導波路を持たない第2の領域を同一基板上に有するポリマ導波路基板の製造方法であって、
基板表面に光導波路を構成するための前記ポリマ層の面と基板との密着性または接着性を向上するための接着層を前記第1の領域及び第2の領域に設け、
前記第1の領域に設けた接着層をエッチングせずに、前記第2の領域に設けた接着層をエッチングし、
前記第2の領域に設けた接着層をエッチングした後に、前記ポリマ層を基板全面に形成する工程を用いて光導波路を作製し、
第1の領域と第2の領域との境界の前記ポリマ層を切断して、前記第2の領域の前記ポリマ層を前記基板から剥離・除去する工程を有し、前記基板にシリコン基板、酸化シリコン膜を有するシリコン基板、ガラス基板、またはセラミック基板のいずれか一を用い、前記ポリマ層にフッ素化ポリイミドを用いたことを特徴とするポリマ導波路基板の製造方法。 - 前記第2の領域に半導体素子を実装するための電極を有する前記ポリマ導波路基板の製造方法であって、
前記接着層を形成する前に前記電極を前記基板上に作製することを特徴とする請求項1記載のポリマ導波路基板の製造方法。 - 前記ポリマ層切断にダイシング装置を使用し、且つ前記ダイシング装置で形成する溝の底面が前記基板にまで達していることを特徴とする請求項1記載のポリマ導波路基板の製造方法。
- 前記導波路を構成する前記ポリマ層の最下層にフッ素化ポリイミドを用いる特徴とする請求項1記載のポリマ導波路基板の製造方法。
- 前記接着層がポリイミドシリコン樹脂、フッ素を含有しないポリイミド樹脂、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニア化合物、有機チタン化合物のいずれか一であるか、またはその組み合わせから成ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載のポリマ導波路基板の製造方法。
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WO2021085621A1 (ja) | 2019-10-31 | 2021-05-06 | 京セラ株式会社 | 光導波路パッケージおよび発光装置 |
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- 2005-09-26 JP JP2005277058A patent/JP4215764B2/ja not_active Expired - Fee Related
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