JP7354317B2 - リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造 - Google Patents
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Description
[0001] この出願は、2016年9月12日に出願された欧州特許出願16188325.1の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
a.投影ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
b.パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
c.基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板の表面、例えば基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された支持テーブル、例えば1つ以上のセンサを支持するセンサテーブル又は支持テーブルWTと、
d.パターニングデバイスMAによって投影ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
Claims (15)
- リソグラフィ装置のある領域に液浸流体を閉じ込めるように構成された流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造は、前記液浸流体の前記領域内への供給及び/又は前記領域からの抽出のために適合された表面を有し、
投影ビームが前記液浸流体を通過するために内部に形成されたアパーチャを画定する第1の部分と、
基板に対向するプレートの形状を有し、前記表面を画定する第2の部分であって、前記流体ハンドリング構造の前記表面に出入りする前記液浸流体を提供するための少なくとも1つの貫通孔を含む第2の部分と、を備え、
前記第1の部分は、前記少なくとも1つの貫通孔に流体連通するチャンバを備え、前記第2の部分の前記表面に平行な方向の移動が、前記表面に出入りする前記液浸流体の流れの位置を前記アパーチャに対して変化させ、
前記表面は、前記少なくとも1つの貫通孔に流体連通してそこから前記液浸流体を提供するように構成された少なくとも1つの出口開口が形成されている、流体ハンドリング構造。 - 前記表面は、前記少なくとも1つの貫通孔に流体連通してそこに前記液浸流体を抽出するように構成された少なくとも1つの入口開口が形成されている、請求項1に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記チャンバは環状であり、前記少なくとも1つの貫通孔より上に設けられる、請求項1又は2に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第2の部分は、前記第1の部分に対して平面内を並進可能である、請求項1、2又は3に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第2の部分は、前記少なくとも1つの入口開口の半径方向内側にアパーチャを有し、前記第2の部分における前記アパーチャは、前記第1の部分におけるアパーチャより大きい、請求項2~4のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第2の部分は、丸みのある正方形の形状を有する、請求項1~5のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記チャンバ及び前記少なくとも1つの貫通孔は、位置合わせされたときに流体連通する、請求項1~6のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記少なくとも1つの貫通孔の断面積は、前記チャンバの開口の断面積より小さい、請求項1~7のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第2の部分の前記第1の部分に対する前記移動は、作動ロッド又はワイヤを用いて、又はリニアモータによって達成される、請求項1~8のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記表面は、前記第1の部分と前記第2の部分の両方によって画定され、ガス流のための少なくとも1つの出口開口は、前記第1の部分の底面に設けられる、請求項1~9のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第2の部分に少なくとも1つの外側抽出開口をさらに備える、請求項1~10のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第1の部分と前記第2の部分との間に設けられたベアリングをさらに備える、請求項1~8のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第2部分の前記第1の部分に対する前記移動は、前記第2の部分を一端において巻き上げることによって達成される、請求項1~8、11及び12のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 請求項1から13のいずれかに記載の流体ハンドリング構造と、
前記流体ハンドリング構造によって前記領域に閉じ込められた前記液浸流体を通して、投影ビームを支持テーブルに支持された前記基板上に投影するための投影システムと、を備える液浸リソグラフィ装置。 - 投影システムに対する前記支持テーブルの移動中の前記第1の部分に対する前記第2の部分の前記移動を、前記液浸流体の流れと前記基板との相対速度が前記第1の部分に対する前記第2の部分の移動がない場合よりも小さくなるように制御するためのコントローラをさらに備える、請求項14に記載の液浸リソグラフィ装置。
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