JP7340634B2 - 基板処理方法及び装置 - Google Patents
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Description
100 処理容器
200 基板支持ユニット
300 噴射ユニット
310 ノズル支持台
320 噴射ノズル
340 ノズル移動駆動器
400 処理液供給ユニット
500 昇降ユニット
510a、510b ブラケット
520a、520b 処理容器移動駆動器
610、610a、610b 処理容器位置検知センサ
620a、620b マグネット
630a、630b マグネット検知手段
650 噴射ノズル位置検知センサ
660 マグネット
670 マグネット検知手段
690 ビジョンセンサ
700 作動状態判断部
800 制御部
Claims (20)
- 基板処理装置の処理工程に応じて処理容器又は噴射ノズルを所定の位置に移動させる機構移動ステップと、
前記処理容器又は前記噴射ノズルの移動位置が正常位置にあるか否かを複数の位置検知センサを介して検知するセンサ検知ステップと、
ビジョンセンサを介して前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態を検査するビジョン検査ステップと、
前記位置検知センサを介した検知結果と前記ビジョンセンサによる検査結果とを総合して前記位置検知センサの検知誤り及び前記基板処理装置の誤作動を判断できる作動状態判断ステップと、を含むことを特徴とする、基板処理方法。 - 前記センサ検知ステップは、
所定の位置別に配置された複数の位置検知センサを介して前記移動位置を検知し、
前記ビジョン検査ステップは、
既に保有された位置別正常状態情報と前記移動位置を撮影した撮影イメージとを対比して前記位置状態を検査することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理方法。 - 前記センサ検知ステップは、
前記処理容器の両側の昇降ユニットに設けられたマグネットを、前記処理容器の高さ位置別に配置された複数のマグネット検知手段を介して検知し、
前記ビジョン検査ステップは、
前記処理容器の上方から撮影した撮影イメージと既に保有された処理容器の位置別正常状態情報とを対比して前記処理容器の位置状態を検査することを特徴とする、請求項2に記載の基板処理方法。 - 前記センサ検知ステップは、
一側に前記噴射ノズルが配置されたノズル支持台の他側に設けられたマグネットを、前記噴射ノズルの回転位置別に配置された複数のマグネット検知手段を介して検知し、
前記ビジョン検査ステップは、
前記噴射ノズルの上方から撮影した撮影イメージと既に保有された噴射ノズルの位置別正常状態情報とを対比して前記噴射ノズルの位置状態を検査することを特徴とする、請求項2に記載の基板処理方法。 - 前記作動状態判断の結果に応じて後続の措置を行う後続措置ステップをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記作動状態判断ステップは、
前記位置検知センサを介した検知結果が非正常位置と判断される場合、前記ビジョンセンサを介した位置状態検査結果に基づく前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態が正常状態であれば、前記位置検知センサの検知誤りと判断し、
前記後続措置ステップは、
前記基板処理装置の処理工程を行い続けることを特徴とする、請求項5に記載の基板処理方法。 - 前記作動状態判断ステップは、
前記位置検知センサを介した検知結果が非正常位置と判断される場合、前記ビジョンセンサを介した位置状態検査結果に基づく前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態が非正常状態であれば、前記基板処理装置の誤作動と判断し、
前記後続措置ステップは、
前記基板処理装置の処理工程を中断することを特徴とする、請求項5に記載の基板処理方法。 - 前記後続措置ステップは、
前記位置検知センサの検知誤り発生回数に基づいて前記位置検知センサの故障情報を提供することを特徴とする、請求項6に記載の基板処理方法。 - 前記作動状態判断ステップは、
前記位置検知センサを介した検知結果が正常位置と判断される場合、前記ビジョンセンサを介した位置状態検知結果に基づいて前記位置検知センサの検知誤差を判断し、
前記後続措置ステップは、
前記位置検知センサの検知誤差が基準値を超える場合、前記基板処理装置の処理工程を中断することを特徴とする、請求項5に記載の基板処理方法。 - 前記後続措置ステップは、
前記基板処理装置の処理工程の中断に対するアラーム情報を提供し、自動復旧を行うことを特徴とする、請求項7又は請求項9に記載の基板処理方法。 - 基板を支持する基板支持ユニットと、
上部が開放された工程空間が提供されて前記工程空間に前記基板支持ユニットが位置し、処理工程による処理流体を流入及び吸入する回収筒が設けられた処理容器と、
前記処理容器を昇降させて前記基板支持ユニットに対する前記処理容器の相対高さを変更する昇降ユニットと、
前記処理容器の昇降移動による前記処理容器の高さ位置が正常位置にあるか否かを検知する処理容器位置検知センサと、
前記処理容器の上方から前記処理容器の位置を撮影するビジョンセンサと、
前記ビジョンセンサの撮影イメージに基づいて前記処理容器の位置状態を検査し、これを前記処理容器位置検知センサの検知結果と対比して前記処理容器位置検知センサの検知誤り及び基板処理装置の誤作動に対する作動状態を判断できる作動状態判断部と、を含むことを特徴とする、基板処理装置。 - 前記処理容器は、
処理工程による複数の処理流体をそれぞれ個別に流入及び吸入するように高さに応じて多段に複数の回収筒が備えられたことを特徴とする、請求項11に記載の基板処理装置。 - 前記昇降ユニットは、
前記処理容器の外面の両側に互いに対応して配置されるが、一側端が前記処理容器に連結されたシャフトを垂直に移動させて前記処理容器の高さ位置を変更するロッドシリンダが備えられた処理容器移動駆動器を含み、
前記処理容器位置検知センサは、
前記シャフトに配置されたマグネットと、前記シャフトの昇降移動に応じて前記マグネットの位置を検知するように所定の高さ別に配置された複数のマグネット検知手段と、を含むことを特徴とする、請求項11に記載の基板処理装置。 - 待機位置と工程位置との間へ回転移動して基板上に処理流体を供給する噴射ノズルが備えられた噴射ユニットと、
前記噴射ノズルの回転移動による前記噴射ノズルの回転位置を検知する噴射ノズル位置検知センサと、をさらに含み、
前記ビジョンセンサは、
前記噴射ノズルの上方から前記噴射ノズルの位置を撮影し、
前記作動状態判断部は、
前記ビジョンセンサの撮影イメージに基づいて前記噴射ノズルの位置状態を検査し、これを前記噴射ノズル位置検知センサの検知結果と対比して前記噴射ノズル位置検知センサの検知誤り又は前記基板処理装置の誤作動を判断することを特徴とする、請求項11に記載の基板処理装置。 - 前記噴射ユニットは、
待機位置と工程位置との間へ回転移動して基板上に処理流体を供給する噴射ノズルと、
一側に前記噴射ノズルが配置され、前記噴射ノズルを支持するノズル支持台と、
前記ノズル支持台の他側を基準に前記ノズル支持台を回転させて前記噴射ノズルを回転移動させるノズル移動駆動器と、を含み、
前記噴射ノズル位置検知センサは、
前記ノズル支持台の他側に配置されたマグネットと、前記ノズル支持台の回転移動に応じて前記マグネットの位置を検知するように回転角度別に配置された複数のマグネット検知手段と、を含むことを特徴とする、請求項14に記載の基板処理装置。 - 前記処理容器の相対高さを変更するか或いは前記噴射ノズルの回転位置を変更するように制御し、前記作動状態判断部の判断結果に基づいてアラーム情報を提供し、前記基板処理装置の処理工程の中断及び復旧を行う制御部をさらに含むことを特徴とする、請求項14に記載の基板処理装置。
- 前記作動状態判断部は、
前記処理容器位置検知センサ又は前記噴射ノズル位置検知センサを介した検知結果が非正常位置と判断される場合、前記ビジョンセンサを介した前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態検査結果に基づく前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態が正常状態であれば、位置検知センサの検知誤りと判断し、
前記制御部は、
前記作動状態判断部の作動状態判断結果に基づいて、前記基板処理装置の処理工程を行い続けるように制御することを特徴とする、請求項16に記載の基板処理装置。 - 前記作動状態判断部は、
前記処理容器位置検知センサ又は前記噴射ノズル位置検知センサを介した検知結果が非正常位置と判断される場合、前記ビジョンセンサを介した前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態検査結果に基づく前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態が非正常状態であれば、前記基板処理装置の誤作動と判断し、
前記制御部は、
前記作動状態判断部の作動状態判断結果に基づいて前記基板処理装置の処理工程を中断するように制御することを特徴とする、請求項16に記載の基板処理装置。 - 前記作動状態判断部は、
前記処理容器位置検知センサ又は前記噴射ノズル位置検知センサを介した検知結果が正常位置と判断される場合、前記ビジョンセンサを介した前記処理容器又は前記噴射ノズルの位置状態検査結果に基づいて位置検知センサの検知誤差が基準値を超えるかを判断し、
前記制御部は、
前記位置検知センサの検知誤差が基準値を超える場合、前記基板処理装置の処理工程を中断することを特徴とする、請求項16に記載の基板処理装置。 - 基板処理装置の処理工程に応じて処理容器を所定の位置に移動させる機構移動ステップと、
前記処理容器の両側の昇降ユニットに設けられたマグネットを、前記処理容器の高さ位
置別に配置された複数のマグネット検知手段を介して検知するセンサ検知ステップと、
前記処理容器の上方から撮影した撮影イメージと既に保有された前記処理容器の位置別正常状態情報とを対比して前記処理容器の位置状態を検査するビジョン検査ステップと、
位置検知センサを介した検知結果が非正常位置と判断される場合、ビジョンセンサを介した前記位置状態の検査結果に基づいて前記位置検知センサの検知誤り又は前記基板処理装置の誤作動に対する作動状態を判断し、前記位置検知センサを介した検知結果が正常位置と判断される場合、前記ビジョンセンサを介した前記位置状態の検査結果に基づいて前記位置検知センサの検知誤差による作動状態を判断する作動状態判断ステップと、
前記作動状態判断の結果に基づいて前記位置検知センサの検知誤りと判断される場合、処理工程を行い続け、前記基板処理装置の誤作動又は前記位置検知センサの検知誤差が基準値を超えたと判断される場合、処理を中断するとともにアラーム情報を提供する後続措置ステップと、を含むことを特徴とする、基板処理方法。
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