JP7324306B2

JP7324306B2 - ポリホルムアルデヒド複合材料及びその製造方法とポリホルムアルデヒドにおける消光剤としてのｓｅｂｓの使用

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Publication number: JP7324306B2
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Inventors: 紹強曹; 南▲ビャオ▼ 葉; 険波黄; 鋒陳; 学俊付; 権禹; 超丁; 忠泉彭
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Description

本発明は、高分子材料の技術分野に関し、特に、ポリホルムアルデヒド複合材料及びその製造方法とポリホルムアルデヒドにおける消光剤としてのＳＥＢＳの使用に関する。

ポリホルムアルデヒド（ＰＯＭ）は、ホルムアルデヒドホモ重合体又はホルムアルデヒド共重合体に分けられる。そのうち、１９５５年前後にアメリカのデュポン社は、ホルムアルデヒドの重合からホルムアルデヒドのホモ重合体を得た。ポリホルムアルデヒドは、結晶しやすく、結晶度は、７０％以上である。ホモポリホルムアルデヒドの溶融温度は、１８０℃前後である。それは、ポリアミド後の、もう一つの総合的な性能に優れたエンジニアリングプラスチックであり、強度、モジュラス、耐摩耗性、靭性、耐疲労性と耐クリープ性などの高い力学的特性を有し、また優れた電気絶縁性、耐溶剤性と加工可能性を有し、５つの汎用エンジニアリングプラスチックの一つである。アセタール重合体すなわちポリホルムアルデヒドは、ホルムアルデヒドの重合によって形成されるものであり、それは、常にポリオキシメチレン（ＰＯＭ）と呼ばれる。ホルムアルデヒドから重合体を製造することは、１９２０年代初めに研究されたが、ｌ９５９年にデュポンがＤｅｌｒｉｎ（デリン）を開発した前に、まだ熱安定材料が作られていない。ホモ重合体は、非常に純粋なホルムアルデヒドでアニオン重合により製造される。共重合ホルムアルデヒドは、アメリカのセラニース（Ｃｅｌａｎｅｓｅ）によって１９６２年に初めて開発され商品化されたものであり、商品名が「Ｃｅｌｃｏｎ」である。主にトリポリホルムアルデヒドとジオキソランを採用し、触媒（現在では主に使用される触媒は、ＢＦ_３及びそのエチルエーテル／ブチルエーテル／エステル類の錯体であり、この触媒の反応レートが適正で、反応後に生成物と分離しやすい）と分子量調節剤（ジメトキシメタンＭＥＡＬ）との共同作用下で重合して得られる重合体である。共重合ホルムアルデヒドは、ホモポリホルムアルデヒドに対して、分子鎖にＣ－Ｃ鎖を導入するため、ポリホルムアルデヒドの分解において、Ｃ－Ｃ鎖に分解反応する時、ホルムアルデヒドの連鎖分解を停止することにより、材料の熱安定性を向上させ、加工に有利である。

ＳＥＢＳは、ポリスチレンを末端セグメントとして、ポリブタジエンの水素化によって得られるエチレン－ブテン共重合体を中間エラストマー性ブロックとする線状トリブロック共重合体である。ＳＥＢＳは、主に各種の熱可塑性樹脂に強化剤として使用されており、それを修飾して使用されている。中国特許２０１２１０５７２１６４．２は、ＡＢＳ／ＰＯＭアロイを開示し、それは、ＳＥＢＳグラフト無水マレイン酸を加えて相溶化剤とするが、ＳＥＢＳの他の側面の修飾（例えば酸修飾又はアミン修飾）を深く探求しておらず、ポリホルムアルデヒド表面の光沢度を低減させる。中国特許２０１６１１１５１８３４．８は、エチレン酢酸ビニル共重合体で強化された複合修飾ＳＥＢＳシース材料（compound modified SEBS sheath material）を開示し、それは、大量のステアリン酸を使用してＳＥＢＳを膨潤させる。ＳＥＢＳがステアリン酸に十分に膨潤した後、油性ＳＥＢＳが得られ、エチレン醋酸エチレン共重合体と石灰石等の成分の系中での凝集効果を減少させる。ＳＥＢＳを修飾することによってＰＯＭに低光沢度をもたらす効果は記載されていない。

中国特許２０１２１０５７２１６４．２号明細書中国特許２０１６１１１５１８３４．８号明細書

本発明の目的は、低光沢度の利点を有するポリホルムアルデヒド複合材料及びその製造方法を提供することにある。

本発明の別の目的は、ポリホルムアルデヒドにおける消光剤としてのＳＥＢＳの使用を提供することにある。

本発明は、以下の技術案によって実現される。

ポリホルムアルデヒド複合材料であって、重量部で、以下の成分
ポリホルムアルデヒド７０－９５部、
ＳＥＢＳ５－２０部、
を含み、ここで、ＳＥＢＳは酸修飾又はアミン修飾されている。

ＳＥＢＳ酸修飾の方法は、臭化又はアセチル化を採用する方法であり、ベンゼン環のパラ位に一つの臭素又はアセチルを結合し、その後に酸で酸化を行い又はアセチル基を酸化してカルボン酸官能基を得る。

アミン修飾の方法は、ＳＥＢＳにおけるベンゼン環のパラ位にニトロ基を導入し、さらに還元反応によってニトロ基をアミノ基に転換する。

好ましくは、ＳＥＢＳは、アミン修飾されたものである。酸修飾ＳＥＢＳと比較して、アミン修飾ＳＥＢＳの消光効果がより高い。

具体的には、ＳＥＢＳ酸修飾の方法は以下のとおりである：ＳＥＢＳ５ｇをクロロホルム溶液５０ｍｌに溶解し、次に溶液中に無水ＦｅＣｌ_３０．２ｇを加え、撹拌条件下で臭素溶液２ｍｌをゆっくりと滴下し、溶液を暗黒条件下に室温で１日間撹拌し、過剰のエタノールで重合体を沈澱し、次に溶液を濾過し、順にアセトンと水で洗浄し、次に１００℃で乾燥して臭化ＳＥＢＳを得る；臭化ＳＥＢＳ４ｇをジフェニルエーテル１５ｍｌに溶解し、次いで亜リン酸ジエチル１６ｍｌ、Ｐｄ（ｄｂａｃ）_３ＣＨＣｌ_３０．０８ｇとトリエチルアミン１．２ｍｌの混合物を溶液に添加し、その後に１５５℃の窒素条件下で２日間還流する；エタノール／水溶液（体積比９０／１０）で重合体を沈澱し、濾過乾燥して酸修飾ＳＥＢＳを得る。

Ｐｄ（ｄｂａｃ）_３は、遷移金属パラジウム触媒であり、他の触媒に置換してもよい。

具体的には、ＳＥＢＳアミン修飾の方法は以下のとおりである：ＳＥＢＳ５ｇをクロロホルム溶液５０ｍｌに溶解し、撹拌条件下で、硝酸６０ｍｌと濃硫酸４０ｍｌの混合液を溶液にゆっくりと滴下し、熱が完全に発散した後、７０℃で１時間撹拌し、次に２０％（ｗ／ｗ）のＮａＯＨ溶液で余分な酸を中和し、トリクロロメタン層をエタノールに注入し、重合体を沈澱し、濾過乾燥し、ニトロ化ＳＥＢＳを得る；ニトロ化ＳＥＢＳ４ｇをＴＨＦ３０ｍｌに溶解し、塩化スズ６０ｇをＨＣｌ６０ｍｌに溶解し、６０℃で撹拌して還元混合物を製造する；還元混合物を前の溶液に加え、８５℃で３時間還流し、その後に１０％（ｗ／ｗ）のＮａＯＨで中和し、エタノールで重合体を沈澱し、濾過乾燥してアミノ化ＳＥＢＳを得る。

ＳＥＢＳの酸修飾、アミン修飾の方法の全体的な考えは上記の通りであるが、上記試薬、用量、反応条件等は、実際の状況に応じて調整されてもよい。

まずＧＭＡでＳＥＢＳをグラフトし、さらにＧＭＡ分岐に対して酸修飾を行うことであってもよい。

本発明は、ＳＥＢＳにおけるポリスチレンセグメントのポリホルムアルデヒドに対する立体障害効果を利用し、適合性が低く、さらに酸又はアミンを用いてＳＥＢＳを修飾し、さらにＳＥＢＳとポリホルムアルデヒドとの適合性を低減させ、ポリホルムアルデヒド分子鎖の規則的配列の能力を低減させる。製品又はテンプレートを射出成型する時、材料自体の非適合性が材料の表面にマイクロ粗化効果を形成する。入射光がマイクロ粗化表面に到達すると、光の反射方向が変化して乱反射が現れ、低光沢のポリホルムアルデヒド複合材料を得る。

前記ＳＥＢＳの酸値は、５－１５（ｍｇＣＨ_３ＯＮａ／ｇ）である。一般的には、ＳＥＢＳは、酸又はアミンで修飾された後だけ、一定の酸値を有する。

ＳＥＢＳの酸値テストの方法は、酸塩基滴定法を採用し、０．１ｍｏｌ／ＬのＣＨ_３ＯＮａ溶液を採用して修飾された後のＳＥＢＳに対して滴定を行い、滴定終点によってＳＥＢＳの酸値を計算する。一定の量のＳＥＢＳを取り、クロロホルム５０ｍｌに加え、完全に溶解した後、ブロモフェノールブルー指示薬を加え、均一に振った後、ＣＨ_３ＯＮａ溶液で滴定を行い、溶液が黄から青に変化した後に滴定を停止し、酸値を計算する。「ｍｇＣＨ_３ＯＮａ／ｇ」は、１ｇの試料を中和するために必要とするナトリウムメトキシドのミリグラム数を表す。

本発明の酸又はアミンＳＥＢＳの重量平均分子量は、３００００－１０００００である。

好ましくは、前記ＳＥＢＳのスチレンセグメントの含有量は、１０－４０％である。スチレンセグメントの存在は、立体障害効果のため、ＰＯＭとの適合性が低減することにより、光沢度を効果的に低減させる。試験の過程で、スチレンセグメントの含有量が高すぎる場合、適合性が低く、消光性能が向上するが、ポリホルムアルデヒド複合材料の他の性能が低すぎることが判明した。スチレンセグメントの含有量が低すぎると、消光作用が大きく低下する。実験の中で、スチレンセグメントの含有量が約４３％である場合、スチレンセグメントの含有量が約３７％である試験例と比べて、衝撃強度が１５％低下し、応用が制限されてしまい、スチレンセグメントの含有量が約８％である場合、消光性能は、スチレンセグメントの含有量が約３７％である試験例の３５％に過ぎないことが判明した。

前記ポリホルムアルデヒドは、ホモ重合ポリホルムアルデヒド又は共重合ポリホルムアルデヒドのうちの少なくとも一つであり、前記ポリホルムアルデヒドのメルトインデックスは、２～２８ｇ／１０ｍｉｎ（１９０℃／２．１６ＫＧ）である。

重量部で、０．５－１．２部のホルムアルデヒド吸收剤をさらに含み、前記ホルムアルデヒド吸收剤は、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウムのうちの少なくとも一つから選択される。

ポリホルムアルデヒドは、使用、溶融押出、プレス、射出成型プロセスにおいて有害なホルムアルデヒドガスを分解する可能性があり、状況に応じてホルムアルデヒド吸收剤を加える。

重量部で、０．１－１０部の助剤をさらに含み、前記助剤は、抗酸化剤、潤滑剤、熱安定剤、ＵＶ吸収性添加剤のうちの少なくとも一つから選択される。

前記潤滑剤は、ステアリン酸塩類潤滑剤、脂肪酸類潤滑剤、ステアリン酸エステル類潤滑剤のうちの少なくとも一つから選択され、前記ステアリン酸塩類潤滑剤は、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛のうちの少なくとも一つから選択され、前記脂肪酸類潤滑剤は、脂肪酸、脂肪酸誘導体、脂肪酸エステルのうちの少なくとも一つから選択され、前記ステアリン酸エステル類潤滑剤は、ペンタエリスリトールステアリン酸エステルのうちの少なくとも一つから選択され、好ましくは、前記潤滑剤は、脂肪酸類潤滑剤、ステアリン酸エステル類潤滑剤のうちの少なくとも一つから選択される。

抗酸化剤は、主抗酸化剤又は安定剤（例えばヒンダードフェノール及び／又はｓｅｃ－アリールアミン）と任意の補助抗酸化剤（例えばリン酸エステル及び／又はチオエステル）を含む。好適な抗酸化剤は、例えば有機リン酸エステル、例えば亜リン酸トリス（ノニルフェニル）エステル、亜リン酸トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）エステル、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト等、アルキル化の一価フェノール又は多価フェノール、多価フェノールとジエンとのアルキル化反応生成物、例えばテトラ［メチレン（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ水素化ケイ皮酸エステル）］メタン等、ｐ－クレゾール又はジシクロペンタジエンのブチル化反応生成物、アルキル化ヒドロキノン、ヒドロキシ化チオジフェニルエーテル、アルキリデンビスフェノール、ベンジル化合物、β－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－プロピオン酸と一価アルコール又は多価アルコールのエステル、β－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）－プロピオン酸と一価アルコール又は多価アルコールのエステル、スルファニル又はチオアリール化合物のエステル、例えばジステアリルチオプロピオン酸エステル、ジラウリルチオプロピオン酸エステル、ビス（トリデシル）チオプロピオン酸エステル、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エステル、ペンタエリスリトール－テトラ［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）］プロピオン酸エステル等、β－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－プロピオン酸のアミド等、又は少なくとも一つの前述抗酸化剤を含む組み合わせを含む。

好適な熱安定剤は、例えば有機亜リン酸エステル、例えば亜リン酸トリフェニル、亜リン酸トリス（２，６－ジメチルフェニル）エステル、亜リン酸トリス（混合されるモノとジノニルフェニル）エステル等、ホスホネート、例えばジメチルフェノールホスホネート等、リン酸エステル、例えばリン酸トリメチル等、又は少なくとも一つの前述熱安定剤を含む組み合わせを含む。

光安定剤及び／又は紫外光（ＵＶ）吸収性添加剤を添加することができる。好適な光安定剤は、例えばベンゾトリアゾール類、例えば２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）－ベンゾトリアゾール及び２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシベンゾフェノン等を含み、トリアジン類の紫外光吸收剤、又は少なくとも一つの前述光安定剤を含む組み合わせも含む。

好適なＵＶ吸収性添加剤は、例えばヒドロキシベンゾフェノン類、ヒドロキシベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾトリアジン類、シアノアクリレート類、オキサリルジフェニルアミン類、ベンゾオキサジンケトン類、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（ＣＹＡＳＯＲＭ５４１１）、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシベンゾフェノン（ＣＹＡＳＯＲＭ５３１）、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－（オクチルオキシ）フェノール（１１６４）、２，２’－（１，４－フェニレン）ビス（４Ｈ－３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）（ＣＹＡＳＯＲＭＵＶ－３６３８）、１，３－ビス［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］－２，２－ビス［［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル］プロパン（ＵＶＩＮＵＬ３０３０）、例えば酸化チタン、セリア及び酸化亜鉛、全てのこれらの粒度が１００ｎｍよりも小さいナノメータ寸法の無機材料、又は類似体、又は少なくとも一つの前述ＵＶ吸収剤を含む組み合わせを含む。

上記ポリホルムアルデヒド複合材料の製造方法は、ポリホルムアルデヒド、ＳＥＢＳ、助剤、ホルムアルデヒド吸收剤を高速混合機に加えて均一に混合し、さらにスクリュー押出、造粒によってポリホルムアルデヒド複合材料を得るステップを含み、ここで、スクリューの温度範囲は１２０－２００℃であり、回転数は２５０－５００回転／分である。

ポリホルムアルデヒドにおける消光剤としてのＳＥＢＳの使用は、重量部で、ポリホルムアルデヒド７０－９５部、ＳＥＢＳ５－２０部の成分を含み、ここで、ＳＥＢＳは、酸修飾又はアミン修飾されている。

従来の技術と比べて、本発明は、以下のような有益な効果を有する。
本発明は、ポリホルムアルデヒドに酸修飾又はアミン修飾のＳＥＢＳを加えることによって、酸値は５－１５（ｍｇＣＨ_３ＯＮａ／ｇ）であり、ポリホルムアルデヒドの光沢度を低減させることができる。具体的には、系中に酸修飾又はアミン修飾のＳＥＢＳを加え、この種のＳＥＢＳとポリホルムアルデヒド樹脂マトリックスとの適合性が低くなり、ポリホルムアルデヒド分子鎖の規則的配列の能力を低減させる。製品又はテンプレートを射出成型する時、材料自体の非適合性により材料の表面にマイクロ粗化効果が形成される。入射光がマイクロ粗化表面に到達すると、光の反射方向が変化して乱反射が現れ、低光沢のポリホルムアルデヒド複合材料が得られる。

以下では、具体的な実施形態によって本発明についてさらに説明する。以下の実施例は、本発明の思想をより体現できる実施形態であるが、本発明の実施形態は、下記実施形態に制限されるものではない。

実施例と比較例の実験に使用される原料は、以下の原料であるが、以下の原料に限られない。
ポリホルムアルデヒド：竜宇ＰＯＭＭＣ９０、共重合ＰＯＭ、メルトインデックス：９ｇ／１０ｍｉｎ（１９０℃／２．１６ＫＧ）；
ＳＥＢＳ－Ａ：酸修飾されたＳＥＢＳ原料は、科騰Ｇ１６５０であり、明細書における酸修飾方法を応用して自ら修飾し、酸値は１０．２ｍｇＣＨ_３ＯＮａ／ｇであり、重量平均分子量は約７００００であり、スチレンセグメントの含有量は約３０％である；
ＳＥＢＳ－Ｂ：アミン修飾されたＳＥＢＳ原料は、科騰Ｇ１６５２であり、明細書におけるアミン修飾方法を応用して自ら修飾し、酸値は５．１ｍｇＣＨ_３ＯＮａ／ｇであり、重量平均分子量は約５００００であり、スチレンセグメントの含有量は約３０％である；
ＳＥＢＳ－Ｃ：一般的なＳＥＢＳ、ＳＥＢＳ３１５１、酸修飾とアミン修飾がなく、分子量は約４００００であり、スチレンセグメントの含有量は約３２％である；
ＳＥＢＳ－Ｄ：Ｓ９０２、ＧＭＡグラフト率は３％であり、酸修飾とアミン修飾がない；
ＳＥＢＳ－Ｅ：酸修飾されたＧＭＡグラフトＳＥＢＳ、明細書における酸修飾方法を応用して自ら修飾し、酸値は９．７ｍｇＣＨ_３ＯＮａ／ｇであり、重量平均分子量は約６５０００であり、スチレンセグメントの含有量は約２７％である；
酸化マグネシウム：ＫＹＯＷＡＭＡＧ１５０；
抗酸化剤：ヒンダードフェノール類抗酸化剤ＩＲＧＡＮＯＸ２４５／ヒンダードフェノール類抗酸化剤ＲＩＡＮＯＸ１０９８。

実施例と比較例のポリホルムアルデヒド複合材料の製造方法は、ポリホルムアルデヒド、ＳＥＢＳ、ホルムアルデヒド吸收剤、助剤を高速混合機に加えて均一に混合し、さらにスクリュー押出、造粒によってポリホルムアルデヒド複合材料を得るステップを含み、ここで、スクリューの温度は１２０／１６０／１７０／１８０／１８０／１８０／１８０／１８０／１８０／１９０℃であり、回転数は３００回転／分である。

各性能のテスト方法は、以下の通りである。
（１）光沢度：光沢度は、光電光沢計によってテストされ、１００ｍｍ＊１００ｍｍ＊２．０ｍｍの角板を１０枚ずつ射出成型し、光電光沢計（６０°角）を採用して１０枚の角板の光沢度をテストし、平均値を取った。

実施例１－４（実施例１－４は参考例）と比較例３から分かるように、酸修飾ＳＥＢＳの添加量が増加すると、ポリホルムアルデヒド複合材料の表面の光沢度がそれに伴って低減する。

実施例３／５、比較例１／２／３から分かるように、一般的なＳＥＢＳは、ポリホルムアルデヒド複合材料の表面の光沢度を効果的に低減させることができない。

実施例３と実施例５から分かるように、アミン修飾ＳＥＢＳの消光効果が比較的に高い。
本発明の好ましい態様は以下を包含する。
〔１〕ポリホルムアルデヒド複合材料であって、重量部で、以下の成分
ポリホルムアルデヒド７０－９５部、
ＳＥＢＳ５－２０部、
を含み、ここで、ＳＥＢＳは酸修飾又はアミン修飾されている、ことを特徴とするポリホルムアルデヒド複合材料。
〔２〕前記酸修飾ＳＥＢＳはカルボン酸官能基を含み、前記アミン修飾ＳＥＢＳはアミノを含む、ことを特徴とする〔１〕に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔３〕前記ＳＥＢＳの酸値は、５－１５（ｍｇＣＨ _３ＯＮａ／ｇ）である、ことを特徴とする〔２〕に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔４〕前記酸修飾は、臭化又はアセチル化を採用する方法であり、ベンゼン環のパラ位に一つの臭素又はアセチルを結合し、その後に酸で酸化又はアセチル酸化を行ってカルボン酸官能基を得て；前記アミン修飾の方法は、ＳＥＢＳにおけるベンゼン環のパラ位にニトロを導入し、さらに還元反応によってニトロをアミノに転換し；好ましくは、ＳＥＢＳはアミン修飾されている、ことを特徴とする〔１〕に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔５〕まずＧＭＡでＳＥＢＳをグラフトし、さらにＧＭＡ分岐で酸修飾を行う、ことを特徴とする〔４〕に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔６〕前記ＳＥＢＳの重量平均分子量は３００００－１０００００であり、そのうちスチレンセグメントが総セグメント分子量の１０－４０％を占める、ことを特徴とする〔１〕－〔３〕のいずれか１項に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔７〕前記ポリホルムアルデヒドは、ホモ重合ポリホルムアルデヒド又は共重合ポリホルムアルデヒドのうちの少なくとも一つであり、前記ポリホルムアルデヒドのメルトインデックスは、２～２８ｇ／１０ｍｉｎ（１９０℃／２．１６ＫＧ）である、ことを特徴とする〔１〕に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔８〕重量部で０．５－１．２部のホルムアルデヒド吸收剤をさらに含み、前記ホルムアルデヒド吸收剤は、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウムのうちの少なくとも一つから選択される、ことを特徴とする〔１〕に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔９〕重量部で０．１－１０部の助剤をさらに含み、前記助剤は、抗酸化剤、潤滑剤、熱安定剤、ＵＶ吸収性添加剤のうちの少なくとも一つから選択される、ことを特徴とする〔１〕に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
〔１０〕ポリホルムアルデヒド、ＳＥＢＳ、助剤を高速混合機に加えて均一に混合し、さらにスクリュー押出、造粒によってポリホルムアルデヒド複合材料を得るステップを含み、ここで、スクリューの温度範囲は１２０－２００℃であり、回転数は２５０－５００回転／分である、ことを特徴とする前記ポリホルムアルデヒド複合材料の製造方法。
〔１１〕重量部で、ポリホルムアルデヒド７０－９５部、ＳＥＢＳ５－２０部の成分を含み、そのうち、ＳＥＢＳは、酸修飾又はアミン修飾されている、ことを特徴とするポリホルムアルデヒドにおける消光剤としてのＳＥＢＳの使用。

Claims

ポリホルムアルデヒド複合材料であって、重量部で、以下の成分
ポリホルムアルデヒド７０－９５部、
ＳＥＢＳ５－２０部、
を含み、
ここで、ＳＥＢＳはアミン修飾されており、該アミン修飾ＳＥＢＳはアミノ基を含み、
前記ＳＥＢＳの重量平均分子量は３００００－１０００００であり、スチレンセグメントが総セグメント分子量の１０－４０％を占める、
ことを特徴とするポリホルムアルデヒド複合材料。
前記ＳＥＢＳの酸値は、５－１５（ｍｇＣＨ_３ＯＮａ／ｇ）である、ことを特徴とする請求項１に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
ＳＥＢＳにおけるベンゼン環のパラ位にニトロを導入し、さらに還元反応によってニトロをアミノ基に転換することにより、ＳＥＢＳはアミン修飾されている、ことを特徴とする請求項１に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
前記ポリホルムアルデヒドは、ホモ重合ポリホルムアルデヒド又は共重合ポリホルムアルデヒドのうちの少なくとも一つであり、前記ポリホルムアルデヒドのメルトインデックスは、２～２８ｇ／１０ｍｉｎ（１９０℃／２．１６ＫＧ）である、ことを特徴とする請求項１に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
重量部で０．５－１．２部のホルムアルデヒド吸收剤をさらに含み、前記ホルムアルデヒド吸收剤は、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウムのうちの少なくとも一つから選択される、ことを特徴とする請求項１に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
重量部で０．１－１０部の助剤をさらに含み、前記助剤は、抗酸化剤、潤滑剤、熱安定剤、ＵＶ吸収性添加剤のうちの少なくとも一つから選択される、ことを特徴とする請求項１に記載のポリホルムアルデヒド複合材料。
ポリホルムアルデヒド、ＳＥＢＳ、助剤を高速混合機に加えて均一に混合し、さらにスクリュー押出、造粒によってポリホルムアルデヒド複合材料を得るステップを含み、ここで、スクリューの温度範囲は１２０－２００℃であり、回転数は２５０－５００回転／分である、ことを特徴とする請求項６に記載のポリホルムアルデヒド複合材料の製造方法。
重量部で、ポリホルムアルデヒド７０－９５部、ＳＥＢＳ５－２０部の成分を含み、
ここで、ＳＥＢＳは、アミン修飾されており、該アミン修飾ＳＥＢＳはアミノ基を含み、
前記ＳＥＢＳの重量平均分子量は３００００－１０００００であり、スチレンセグメントが総セグメント分子量の１０－４０％を占める、
ことを特徴とするポリホルムアルデヒド複合材料における消光剤としてのＳＥＢＳの使用。