JP7305960B2 - 超純水製造装置の運転方法 - Google Patents
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Description
シリカ(SiO2)には、下記化学式群に示すように4個の水酸基に結合したケイ素(Q0)、3個の水酸基と中性酸素1原子に結合したケイ素(Q1)、2個の水酸基と中性酸素2原子に結合したケイ素(Q2)、1個の水酸基と中性酸素3原子に結合したケイ素(Q3)及び中性酸素4原子に結合したケイ素(Q4)との5種類が存在する。これらのシリカ(SiO2)は、シリカの重合の進行とともにQ0からQ4へと移行していく。
まず、本発明者らがイオン交換樹脂におけるSi(OH)3 -の吸着量(濃度)と、Q0~Q4の5種類のシリカの存在量をNMRで解析した結果を図3に示す。図3から明らかなとおり、シリカはイオン交換樹脂への吸着量が増えるにともない、Q3構造のケイ素のピーク強度が上がっていることがわかる。このことからイオン交換樹脂におけるイオン交換反応は平衡反応であるため、イオン交換樹脂中に重合したシリカが増えると、平衡反応によりイオン交換樹脂から漏洩してくる重合シリカが増えることが推測できる。
次に本発明者らは、架橋度が異なる4種類のイオン交換樹脂(イオン交換樹脂の架橋度が高い方から順にイオン交換樹脂A、B、C、D)を用意し、所定のシリカ吸着量におけるそれぞれのイオン交換樹脂におけるQ0~Q4の5種類のシリカの存在割合をNMRで解析した結果を図4に示す。図4から明らかなとおり、シリカはイオン交換樹脂の架橋度が低くなるほど、シリカのピークがブロード化していることから、シリカの重合体が複雑化しており、イオン交換樹脂に柔軟性があると吸着した部分同士で重合が進むことがわかる。
続いて本発明者らは、シリカが吸着したイオン交換樹脂を1%NaOH溶液で再生し、再生の前後によるイオン交換樹脂のシリカの吸着量と構造をNMRで解析した結果を図5に示す。図5から明らかなとおり、NaOHによる再生により、Q0~Q2構造のシリカは、NaOHによる再生でイオン交換樹脂から容易に溶出するが、Q3構造のシリカはほとんど溶出しないことがわかる。
次に、上述したようなシリカの特性とイオン交換樹脂に吸着したシリカの挙動に基づく、本発明の一実施形態による超純水製造装置の運転方法について、説明する。
図1に示す装置構成の超純水製造装置1を作製した。なお、サブシステム4の非再生型混床式イオン交換装置15として、通常の1/5の量のイオン交換樹脂を充填したものを用意し、一次純水W2を処理することで、促進条件下で超純水W3を製造した。このシリカの限外濾過(UF)膜16の入口水及び出口水(超純水W3)中のシリカ濃度を20日ごとに6回計測するとともに、出口水(超純水W3)中の50nm以上の微粒子数を微粒子計(KラミックKS 栗田工業(株)製品名)により測定した。結果を表1に示す。
2 前処理装置
3 一次純水装置(純水製造装置)
4 二次純水装置(サブシステム)
5 タンク
6 ポンプ
7 紫外線(UV)酸化装置
8 再生式イオン交換装置
9 膜式脱気装置
11 サブタンク
12 紫外線酸化装置
13 白金族金属触媒樹脂塔
14 膜式脱気装置
15 非再生型混床式イオン交換装置
16 限外濾過(UF)膜
W 原水
W1 前処理水
W2 一次純水(純水)
W3 超純水(二次純水)
Claims (5)
- 一次純水装置とサブシステムとを備え、前記サブシステムが、紫外線酸化装置、膜式脱気装置、非再生式イオン交換装置及び膜式ろ過装置を有する超純水製造装置において、前記一次純水装置及び前記サブシステムに被処理水を連続して通水して超純水を製造する超純水製造装置の運転方法であって、
前記非再生式イオン交換装置中のイオン交換基に対してシリカが1%以上吸着すると重合が活発化し、この重合したシリカが微粒子として漏洩するというシリカの特性に基づき、前記非再生式イオン交換装置の処理水中のシリカ濃度が0.2μg/L以上となるまでに要する時間Tを予測することと、
該予測された前記要する時間Tよりも短い時間を前記非再生式イオン交換装置の交換時間T1として設定し、前記交換時間T1で前記非再生式イオン交換装置の交換を行うことと、を含み、
前記予測することにおいて、前記要する時間Tは、前記処理水中のシリカ濃度が0.2μg/L以上となるまでの前記非再生式イオン交換装置による累積通水時間であって、前記非再生式イオン交換装置のイオン交換樹脂に対する一次純水の処理流量を、実際の前記サブシステムの処理流量の数倍と仮定し、測定された時間に当該倍率を乗じることで求めた値である、超純水製造装置の運転方法。 - 前記一次純水装置が、紫外線(UV)酸化装置と再生式イオン交換装置と膜式脱気装置とを有する、請求項1に記載の超純水製造装置の運転方法。
- 前記一次純水装置が、逆浸透膜(RO膜)分離装置と電気脱イオン装置とを有する、請求項1に記載の超純水製造装置の運転方法。
- 得られる超純水のシリカ濃度が0.2μg/L以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の超純水製造装置の運転方法。
- 得られる超純水の50nm以上の微粒子数が500個/L以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の超純水製造装置の運転方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003266097A (ja) | 2002-03-13 | 2003-09-24 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
JP2012154634A (ja) | 2011-01-21 | 2012-08-16 | Kurita Water Ind Ltd | 非再生型イオン交換樹脂装置の破過時期予測方法及び保守方法 |
JP2014226642A (ja) | 2013-05-24 | 2014-12-08 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
JP2015073923A (ja) | 2013-10-07 | 2015-04-20 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造方法及び超純水製造システム |
JP2017127875A (ja) | 2017-04-28 | 2017-07-27 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
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