JP7303284B1 - ハニカム基材焼成用リングトレイ - Google Patents
ハニカム基材焼成用リングトレイ Download PDFInfo
- Publication number
- JP7303284B1 JP7303284B1 JP2021209869A JP2021209869A JP7303284B1 JP 7303284 B1 JP7303284 B1 JP 7303284B1 JP 2021209869 A JP2021209869 A JP 2021209869A JP 2021209869 A JP2021209869 A JP 2021209869A JP 7303284 B1 JP7303284 B1 JP 7303284B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- honeycomb substrate
- honeycomb
- ring tray
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 174
- 238000010304 firing Methods 0.000 title claims abstract description 116
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 91
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 23
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims abstract description 13
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 claims abstract description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 3
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/24—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for curing, setting or hardening
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
- F27D3/12—Travelling or movable supports or containers for the charge
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
Description
前記リングトレイは、リング状の枠部、前記枠部よりも内側の支持部、及び前記枠部と前記支持部とを連結する連結部を含み、
前記リングトレイに前記ハニカム基材を載置したとき、
前記支持部は、前記ハニカム基材の下端面の外周縁と接触せず、かつ前記ハニカム基材の下端面の内部領域の一部と接触して、前記ハニカム基材の下端を支持することができ、かつ、
前記枠部及び前記連結部は、前記ハニカム基材の下端面に接触しないように構成されている、
ハニカム基材焼成用リングトレイ。
《態様2》前記連結部が、前記支持部と前記ハニカム基材の下端面との接触部によって規定される面よりも下側に存在している、態様1に記載のリングトレイ。
《態様3》前記連結部が、前記リングトレイの厚さ方向に貫通する孔を有する、態様1又は2に記載のリングトレイ。
《態様4》前記リングトレイを、厚さ方向に切断した断面において、少なくとも前記連結部が、前記リングトレイの半径方向外側に凹没する逃がし部を有する、態様1~3のいずれか一項に記載のリングトレイ。
《態様5》前記支持部がリング状である、態様1~4のいずれか一項に記載のリングトレイ。
《態様6》開口部を有する支持プレート、及び前記開口部にはめ込まれている1又は複数のリングトレイを有し、
前記リングトレイが、態様1~5のいずれか一項に記載のリングトレイである、
ハニカム基材焼成用リングトレイ付きプレート。
《態様7》態様1~5のいずれか一項に記載のリングトレイの前記支持部上に、ハニカム基材の下端を載置した状態で、前記ハニカム基材を焼成することを含む、排ガス浄化触媒装置の製造方法。
《態様8》前記リングトレイが、態様6に記載のリングトレイ付きプレートのリングトレイである、態様7に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイは、
セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、焼成するときに、前記基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように支持するための、ハニカム基材焼成用リングトレイであって、
前記リングトレイは、リング状の枠部、前記枠部よりも内側の支持部、及び前記枠部と前記支持部とを連結する連結部を含み、
前記リングトレイに前記ハニカム基材を載置したとき、
前記支持部は、前記ハニカム基材の下端面の外周縁と接触せず、かつ前記ハニカム基材の下端面の内部領域の一部と接触して、前記ハニカム基材の下端を支持することができ、かつ、
前記枠部及び前記連結部は、前記ハニカム基材の下端面に接触しないように構成されている、
ハニカム基材焼成用リングトレイである。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイが適用されるハニカム基材は、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材である。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイの枠部は、リング状の形状を有する。ここでいう「リング状」には、円環状の他、楕円環状も含まれる。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイの支持部は、枠部よりも半径方向の内側に配置されている。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイは、枠部と支持部とを連結する連結部を含んでいる。
又は50%以下であってよい。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイでは、リングトレイにハニカム基材を載置したときに、枠部及び連結部がハニカム基材の下端面に接触しないように構成されている。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイは、ハニカム基材の焼成に耐える耐熱性と、所望の構成を具現化できる加工性とを有している限り、任意の材質であってよい。
本発明のハニカム基材焼成用リングトレイは、上記の構成を有している限り、同様な方法によって製造されてもよい。しかしながら、本発明のハニカム基材焼成用リングトレイは、溶接を伴わない、例えば、切削加工によって製造されてよい。溶接を伴わない方法によって製造されたハニカム基材焼成用リングトレイでは、設計どおりの寸法を精密に実現することができ、微細な歪みに起因するハニカム基材の外皮の損傷の発生が、効果的に抑制される。
本発明の別の観点によると、ハニカム基材焼成用リングトレイ付きプレートが提供される。
開口部を有する支持プレート、及び前記開口部にはめ込まれている1又は複数のリングトレイを有し、
前記リングトレイが、本発明のハニカム基材焼成用リングトレイである、
ハニカム基材焼成用リングトレイ付きプレートである。
本発明の更に別の観点によると、排ガス浄化触媒装置の製造方法が提供される。
図1及び図2に、実施形態1のハニカム基材焼成用リングトレイの構成を示した。図1(A)は斜視図であり、図1(B)は上面図であり、図1(C)は、図1(A)のA-A線断面図である。また、図2(A)は、図1(C)のB部分の拡大図であり、図2(B)は、図2(A)のリングトレイにハニカム基材を載置した状態を表している。
図3及び図4に、実施形態2のハニカム基材焼成用リングトレイの別の一例の構成を示した。図3(A)は斜視図であり、図3(B)は上面図であり、図3(C)は、図3(A)のA-A線断面図である。また、図4(A)は、図3(C)のB部分の拡大図であり、図4(B)は、図4(A)のリングトレイにハニカム基材を載置した状態を表している。
リング状(円環状)の枠部(210)、円環状の支持部(220)、及び連結部(230)を有していること;
連結部(230)が、連結架橋部(231)及び連結欠落部(232)(孔)を8個ずつ有すること;とから構成されていること;
枠部(210)が外周部に段差(211)を有し、上側の大径部及び下側の小径部から構成されていること;
枠部(210)が内周部に誘い込み部(212)を有していること;
支持部(220)が、ハニカム基材(s)の下端面(b)の内部領域と接触して、ハニカム基材(s)を指示していること;
ハニカム基材(s)の下端面(b)の外周端と、ハニカム基材(s)の下端面(b)のうちの支持部(120)と接触している箇所との間には、所定のオフセット(d2)が形成されていること;
等については、図1及び図2のハニカム基材焼成用リングトレイ(100)と同様である。
110、210 枠部
111、211 段差
112、212 誘い込み部
120、220 支持部
130、230 連結部
131、231 連結架橋部
132、232 連結欠落部
140、240 逃がし部
141 枠部逃がし部
142 連結部逃がし部
s ハニカム基材
b ハニカム基材の下端面
d1、d2 オフセット
Claims (8)
- セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、焼成するときに、前記基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように支持するための、ハニカム基材焼成用リングトレイであって、
前記リングトレイは、リング状の枠部、前記枠部よりも内側の支持部、及び前記枠部と前記支持部とを連結する連結部を含み、
前記リングトレイに前記ハニカム基材を載置したとき、
前記支持部は、前記ハニカム基材の下端面の外周縁と接触せず、かつ前記ハニカム基材の下端面の内部領域の一部と接触して、前記ハニカム基材の下端を支持することができ、かつ、
前記枠部及び前記連結部は、前記ハニカム基材の下端面に接触しないように構成されている、
ハニカム基材焼成用リングトレイ。 - 前記連結部が、前記支持部と前記ハニカム基材の下端面との接触部によって規定される面よりも下側に存在している、請求項1に記載のリングトレイ。
- 前記連結部が、前記リングトレイの厚さ方向に貫通する孔を有する、請求項1又は2に記載のリングトレイ。
- 前記リングトレイを、厚さ方向に切断した断面において、少なくとも前記連結部が、前記リングトレイの半径方向外側に凹没する逃がし部を有する、請求項1~3のいずれか一項に記載のリングトレイ。
- 前記支持部がリング状である、請求項1~4のいずれか一項に記載のリングトレイ。
- 開口部を有する支持プレート、及び前記開口部にはめ込まれている1又は複数のリングトレイを有し、
前記リングトレイが、請求項1~5のいずれか一項に記載のリングトレイである、
ハニカム基材焼成用リングトレイ付きプレート。 - 請求項1~5のいずれか一項に記載のリングトレイの前記支持部上に、ハニカム基材の下端を載置した状態で、前記ハニカム基材を焼成することを含む、排ガス浄化触媒装置の製造方法。
- 前記リングトレイが、請求項6に記載のリングトレイ付きプレートのリングトレイである、請求項7に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021209869A JP7303284B1 (ja) | 2021-12-23 | 2021-12-23 | ハニカム基材焼成用リングトレイ |
CN202280083828.0A CN118401799A (zh) | 2021-12-23 | 2022-12-01 | 蜂窝基材烧成用环形托盘 |
PCT/JP2022/044411 WO2023120095A1 (ja) | 2021-12-23 | 2022-12-01 | ハニカム基材焼成用リングトレイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021209869A JP7303284B1 (ja) | 2021-12-23 | 2021-12-23 | ハニカム基材焼成用リングトレイ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP7303284B1 true JP7303284B1 (ja) | 2023-07-04 |
JP2023099247A JP2023099247A (ja) | 2023-07-12 |
Family
ID=86902095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021209869A Active JP7303284B1 (ja) | 2021-12-23 | 2021-12-23 | ハニカム基材焼成用リングトレイ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7303284B1 (ja) |
CN (1) | CN118401799A (ja) |
WO (1) | WO2023120095A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000274954A (ja) | 1999-03-24 | 2000-10-06 | Ngk Insulators Ltd | 焼成用敷板 |
JP2007237085A (ja) | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Cataler Corp | スラリーの乾燥方法および乾燥装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0587499U (ja) * | 1992-04-21 | 1993-11-26 | 松下電工株式会社 | 焼成治具 |
JP3521464B2 (ja) * | 1994-01-14 | 2004-04-19 | 株式会社デンソー | セラミックハニカム体の焼成方法 |
-
2021
- 2021-12-23 JP JP2021209869A patent/JP7303284B1/ja active Active
-
2022
- 2022-12-01 WO PCT/JP2022/044411 patent/WO2023120095A1/ja unknown
- 2022-12-01 CN CN202280083828.0A patent/CN118401799A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000274954A (ja) | 1999-03-24 | 2000-10-06 | Ngk Insulators Ltd | 焼成用敷板 |
JP2007237085A (ja) | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Cataler Corp | スラリーの乾燥方法および乾燥装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2023099247A (ja) | 2023-07-12 |
CN118401799A (zh) | 2024-07-26 |
WO2023120095A1 (ja) | 2023-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07183Y2 (ja) | セラミックハニカム構造体 | |
JP4282941B2 (ja) | ハニカム構造体及びその製造方法、並びにそれを使用した触媒体 | |
JPH10264274A (ja) | セラミックハニカム構造体 | |
WO2004026472A1 (ja) | ハニカム構造体、及びハニカム構造体成形用口金 | |
CN1289802C (zh) | 废气净化装置 | |
JP7303284B1 (ja) | ハニカム基材焼成用リングトレイ | |
US5098763A (en) | Honeycomb structure | |
JP2015029928A (ja) | 触媒コンバータ | |
JP2515837B2 (ja) | セラミックハニカム触媒コンバ―タ | |
US20070071656A1 (en) | Exhaust gas treatment device | |
US5149475A (en) | Method of producing a honeycomb structure | |
JPH06170241A (ja) | セラミックハニカム構造体の製造方法 | |
JP2023060396A (ja) | 排ガス浄化装置 | |
JPH07208873A (ja) | セラミック焼成台、及び焼成方法 | |
JPS6319221B2 (ja) | ||
US6916449B2 (en) | Exhaust treatment device and process for forming the same | |
JP6105746B2 (ja) | 試料保持具 | |
JP2023060397A (ja) | 排ガス浄化装置 | |
CA2334807C (en) | Canning structure and method for producing catalytic converter using the canning stucture | |
JP5650892B2 (ja) | 触媒装置の製造方法 | |
JP2017198134A (ja) | ケーシング | |
CN110195630B (zh) | 废气净化装置 | |
JP2024033547A (ja) | 排気ガス浄化装置の製造方法及び排気ガス浄化装置 | |
JP6894772B2 (ja) | 真空チャック | |
JP2018008244A (ja) | 排ガス浄化触媒用担体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230317 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20230317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230418 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230529 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230622 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7303284 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |