JP7293564B2 - ジエステル系物質の製造方法 - Google Patents
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Description
条件B:モノアルコールの全投入量に対して、反応初期に40~90重量%投入し、反応後期に10~60重量%投入、および
条件C:不活性気体の全投入量に対して、反応初期に10~50体積%投入し、反応後期に50~90体積%投入。
条件B:モノアルコールの全投入量に対して、反応初期に40~90重量%投入し、反応後期に10~60重量%投入、および
条件C:不活性気体の全投入量に対して、反応初期に10~50体積%投入して、反応後期に50~90体積%投入。
条件B:モノアルコールの全投入量に対して、反応初期に40~90重量%投入し、反応後期に10~60重量%投入、および
条件C:不活性気体の全投入量に対して、反応初期に10~50体積%投入し、反応後期に50~90体積%投入。
Claims (7)
- ジカルボン酸および炭素数が4~10であるモノアルコールを混合して原料混合物を製造するステップ(S1)と、
触媒下で、前記原料混合物を反応させてジエステル系物質および生成水を含む生成混合物を得るステップ(S2)と
を含み、
前記(S2)ステップには、下記条件A~Cのうち2以上が適用され、(S2)ステップには、下記条件A~Bがいずれも適用され、
前記条件A~Cでの反応初期および反応後期の区分は、反応の転化率が10%~80%である時点から選択される時点である反応制御点を基準とする、
製造方法。
条件A:反応初期の反応器の温度を160~190℃に設定し、反応後期の反応器の温度を200~250℃に設定し、この際、後期の温度が初期の温度より高くなるように設定、
条件B:モノアルコールの全投入量に対して、反応初期に40~90重量%投入し、反応後期に10~60重量%投入、および
条件C:不活性気体の全投入量に対して、反応初期に10~50体積%投入し、反応後期に50~90体積%投入。 - 前記(S2)ステップには、前記条件A~Cがいずれも適用される、
請求項1に記載の製造方法。 - 前記条件Bは、モノアルコールの全投入量に対して、反応初期に40~85重量%投入し、反応後期に15~60重量%投入する、
請求項1又は2に記載の製造方法。 - 前記(S1)ステップは、無触媒状態で、原料混合物を150℃以下の温度まで予熱する、
請求項1から3のいずれか1項に記載の製造方法。 - 前記生成混合物に水酸化アルカリ金属および水を投入して中和するステップ(S3)をさらに含み、
前記水は、(S2)ステップの生成水を含む、
請求項1から4のいずれか1項に記載の製造方法。 - 前記ジカルボン酸は、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、シクロヘキサン1,2-ジカルボン酸、シクロヘキサン1,3-ジカルボン酸およびシクロヘキサン1,4-ジカルボン酸からなる群から選択される1以上を含む、
請求項1から5のいずれか1項に記載の製造方法。 - 前記モノアルコールは、炭素数が5~9である、
請求項1から6のいずれか1項に記載の製造方法。
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