JP7290509B2

JP7290509B2 - 真空処理装置

Info

Publication number: JP7290509B2
Application number: JP2019149108A
Authority: JP
Inventors: 万里深尾; 大輔岩瀬; 泰樹西ノ坊
Original assignee: Ulvac Inc
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 2019-08-15
Filing date: 2019-08-15
Publication date: 2023-06-13
Anticipated expiration: 2039-08-15
Also published as: JP2021034406A

Description

本発明は、互いに連設される真空雰囲気の形成が可能な上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバと、上流側チャンバから中間チャンバを経て下流側チャンバに被処理基板を移送する移送手段とを備える真空処理装置に関する。

例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造工程においては、ガラスなどの板状の被処理基板（以下、「基板」という）の一方の面（成膜面）に、下部電極、単層又は多層の有機膜（有機発光層）、上部電極や保護層を真空雰囲気で一貫して形成する場合があり、これには、真空雰囲気の形成が可能な真空チャンバの複数個を連設してなる真空処理装置が一般に利用されている（例えば、特許文献１参照）。ここで、上記有機（多層）膜の成膜には、通常、真空蒸着法によるものが利用され、製品歩留まりを考慮して、真空チャンバ内にて被処理基板をその成膜面が鉛直方向下方に向く姿勢とし、この姿勢でその下方に配置した蒸着源により所謂デポアップ式で成膜している。

一方、保護膜としては、窒化シリコンや酸窒化シリコンなどが利用され、このような保護膜の成膜には、所定の原料ガスと反応ガスとを処理チャンバ内に導入したプラズマＣＶＤ法によるものが利用され、このときには、基板をその成膜面が鉛直方向上方に向く姿勢とされる。このように一枚の基板を夫々が真空雰囲気の各真空チャンバに順次移送され、各種の（成膜）処理をするときに基板の姿勢を適宜変更しなければならない場合がある。真空チャンバ内にて基板の姿勢を変更するものは例えば特許文献２で知られている。このものは、真空チャンバ内に、基板を昇降する昇降機構と、基板を保持する基板保持機構と、この基板保持機構を回転駆動して基板を上下反転させる基板反転機構とを備えている。

ところで、近年、処理しようとする基板のサイズが次第に大型化している（例えば、Ｇ１０．５世代）。このような場合に、上記従来例のような構成を採用すると、基板のサイズに応じて、基板の回転を許容できる空間が確保されるように真空チャンバをサイズアップする必要があり、これに伴って、その内部を真空排気するために多数の真空ポンプが必要になったり、また、真空チャンバの材料費が大幅に増加したりするといった問題を招来する。

特開２００９－２２４２３１号公報特開２０１０－１６８６５３号公報

本発明は、以上の点に鑑み、複数の真空チャンバの間で被処理基板を移送する際に、真空チャンバの大型化を招くことなくその途中で被処理基板の姿勢を変更できる構成を持つ真空処理装置を提供することをその課題とするものである。

上記課題を解決するために、互いに連設される真空雰囲気の形成が可能な上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバと、上流側チャンバから中間チャンバを経て下流側チャンバに被処理基板を移送する移送手段とを備える本発明の真空処理装置は、中間チャンバに、上流側チャンバから移送される被処理基板の姿勢を変更する姿勢変更ユニットが設けられ、姿勢変更された被処理基板が移送手段により中間チャンバから下流側チャンバに移送され、上流側チャンバと中間チャンバとが、上流側チャンバに設けられる第１の開閉バルブと、中間チャンバに設けられる第２の開閉バルブと、第１及び第２の各開閉バルブの間に設けられて被処理基板の通過を許容する内部空間を有する伸縮自在な第１の連結部材とを介して連設されると共に、中間チャンバと下流側チャンバとが、中間チャンバに設けられる第３の開閉バルブと、下流側チャンバに設けられる第４の開閉バルブと、第３及び第４の各開閉バルブの間に設けられて被処理基板の通過を許容する内部空間を有する伸縮自在な第２の連結部材とを介して連設され、第１の接続部材と第２の接続部材とにその内部空間の大気開放を可能とするベントラインが接続され、前記姿勢変更ユニットは、中間チャンバ内で被処理基板を保持した状態で中間チャンバに設けられた回転軸回りに中間チャンバを回転させる回転手段を備えることを特徴とする。

本発明によれば、第１～第４の各開閉バルブが開状態で、且つ、上流側チャンバと中間チャンバとを及び中間チャンバと下流側チャンバとを連通する伸位置に第１及び第２の連結部材が夫々存する状態で、互いに真空雰囲気の上流側チャンバから中間チャンバを経て下流側チャンバに被処理基板をその姿勢をかえて移送する場合、先ず、移送手段により上流側チャンバから第１の連結部材を通して中間チャンバ内の所定位置に被処理基板を移送する。中間チャンバ内に被処理基板が移送されると、第１～第４の各開閉バルブを閉状態とし、上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバをその内部を真空雰囲気とした状態で互いに隔絶する。これらが互いに隔絶されると、ベントラインを介して所定のガスを第１及び第２の連結部材に夫々導入してその内部を大気開放する（即ち、大気圧になる）。そして、回転される中間チャンバに干渉しない縮位置に第１及び第２の連結部材が夫々移動される。この場合、第１及び第２の連結部材は、例えば上流側チャンバ及び下流側チャンバ側に夫々取り付けられているが、中間チャンバ側に設けることもできる。

次に、中間チャンバ内にて被処理基板を保持（つまり、その移動を規制）した状態で、回転手段により回転軸回りに中間チャンバ自体が回転される。これにより、中間チャンバの回転方向や回転角に応じて被処理基板の姿勢が変更される。中間チャンバが回転されると、第２の連結部材が伸位置に移動され（必要に応じて、第２の連結部材の内部が真空ポンプにより所定圧力まで真空排気される）、その後、第３及び第４の各開閉バルブが開状態とされ、互いに真空雰囲気の中間チャンバから下流側チャンバに被処理基板が変更後の姿勢のまま移送される。

このように本発明では、中間チャンバ自体を回転させてその内部で保持される被処理基板の姿勢を変更する構成を採用したため、中間チャンバ自体は、被処理基板とこれを保持する保持手段を格納する空間だけあれば済み、被処理基板の回転を許容できる空間を確保する必要がある上記従来例のものと比較して、中間チャンバのサイズを大幅に小さくすることができる。その結果、その内部を真空排気するために多数の真空ポンプが必要になったり、また、真空チャンバの材料費が大幅に増加したりするといった問題を解消することができる。

本発明において、上流側チャンバから中間チャンバに向けて被処理基板が移送される方向をＸ軸方向、被処理基板の面内でＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向をＺ軸方向とし、被処理基板の処理面がＺ軸方向上方に向く姿勢から、中間チャンバにて処理面がＺ軸方向下方に向く姿勢に上下反転させ、この姿勢で被処理基板を下流側チャンバに移送するような場合、前記移送手段が、中間チャンバ内で互いに対峙させて設けられるＺ軸方向上下一対のローラユニットを備え、一方のローラユニットと他方のローラユニットとの少なくとも一方を互いに近接または離間するようにＺ軸方向に移動させる移動手段が設けられ、前記回転軸がＹ軸方向にのびるように中間チャンバの外壁に突設され、中間チャンバを回転させる際に、上側ローラユニットと下側ローラユニットとで被処理基板を挟持することで被処理基板が保持されることが好ましい。これにより、複数の真空チャンバの間で被処理基板を移送する途中で被処理基板の姿勢を上下反転することを簡単な構成で実現でき、有利である。なお、本発明においては、前記第１及び第２の各連結部材の内部空間を真空排気する真空ポンプが設けられていてもよい。

本発明の実施形態の真空処理装置の模式縦断面図。本発明の実施形態の真空処理装置の模式横断面図。基板を上下反転させて移送するときの中間チャンバの回転を説明する模式縦断面図。連結部材の他の変形例を説明する部分拡大図であり、（ａ）は連通状態、（ｂ）は連通解除状態を夫々示す図。

以下、図面を参照して、水平面内で互いに直行する２方向をＸ軸方向及びＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する鉛直方向をＺ軸方向とし、また、被処理基板を矩形の輪郭を持つガラス基板（以下、「基板Ｓｗ」という）とし、基板Ｓｗがその一方の面を開放した状態で保持するキャリアＣａにセットされて移送され、その途中でＺ軸方向にて上下反転させる場合を例に本発明の真空処理装置ＶＭの実施形態を説明する。なお、キャリアＣａの形態やキャリアＣａに対する基板Ｓｗのセット方法としては、クランプを利用したもの等、公知のものが利用できるため、以下ではその説明を省略する。

図１～図３を参照して、本実施形態の真空処理装置ＶＭは、Ｘ軸方向に互いに連設される上流側チャンバＵｃと中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを備え、上流側チャンバＵｃと下流側チャンバＤｃとにおいて、キャリアＣａで支持された基板Ｓｗの一方の面に対して所定の真空処理が実施されるようになっている。上流側チャンバＵｃと下流側チャンバＤｃとは、同等の構成を有し、真空ポンプＶｃ１からの排気管Ｖｐ１が接続されて、それらの内部を所定圧力の真空雰囲気に維持できるようにしている。真空処理としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法やＣＶＤ法による成膜処理、熱処理、エッチング処理といった各種の真空処理が挙げられ、図１，２中には特に図示して説明しないが、基板Ｓｗに対して実施しようとする真空処理に応じて公知の構造を持つ必要な機器が上流側チャンバＵｃと下流側チャンバＤｃとに夫々設けられている。

上流側チャンバＵｃと中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとには、基板ＳｗがセットされたキャリアＣａを移送する移送手段が設けられている。移送手段は、上流側チャンバＵｃ及び下流側チャンバＤｃ内に夫々設けられる第１のローラユニット１ａ，１ｂと、中間チャンバＭｃ内に設けられる第２のローラユニット２とを備える。例えば、上流側チャンバＵｃに設けられる第１のローラユニット１ａを例に説明すると、第１のローラユニット１ａは、上流側チャンバＵｃの互いに対向するＹ軸方向の側壁ＵｗにＸ軸方向に所定間隔で夫々列設された複数の移送ローラ１１で構成され、各移送ローラ１１が、基板Ｓｗの外周よりＹ軸方向に突出したキャリアＣａの部分を支持するようになっている。

側壁Ｕｗ，Ｕｗから上流側チャンバＵｃ外に突出した各移送ローラ１１の駆動軸１２の部分には、特に図示して説明しないが、プーリが設けられ、これらのプーリとの間にはベルトが掛け回されている。そして、図外のモータによりいずれかのプーリを回転駆動すると、ベルトを介して各移送ローラ１１が同方向に同期して回転し、キャリアＣａがＸ軸方向一方からその他方に向けて（図１中、左から右に）移送されるようになっている。なお、上流側チャンバＵｃ及び下流側チャンバＤｃ内に夫々設けられる移送手段の構成要素は、キャリアＣａをＸ軸方向に移送できるものであれば、上記第１のローラユニット１ａ，１ｂによるものに限定されるものではなく、単軸ロボットによるもの等、公知のものが利用できる。

中間チャンバＭｃには、上流側チャンバＵｃ及び下流側チャンバＤｃと同様に、真空ポンプＶｃ２からの排気管Ｖｐ２が接続されて、それらの内部を所定圧力の真空雰囲気に維持できるようにしている。その内部に設けられる第２のローラユニット２は、中間チャンバＭｃ内で互いに対峙させて設けられるＺ軸方向上下一対のもので構成されている（以下では、図１中、Ｚ軸方向上側のものを「上ローラユニット２ｕ」、Ｚ軸方向下側のものを「下ローラユニット２ｄ」とする）。各ローラユニット２ｕ，２ｄは、同一の構成を有し、中間チャンバＭｃの互いに対向するＹ軸方向の側壁ＭｗにＸ軸方向に所定間隔で夫々列設された複数の移送ローラ２１ａ，２１ｂを備え、後述する中間チャンバＭｃの姿勢に応じて、下ローラユニット２ｄ（または上ローラユニット２ｕ）の各移送ローラ２１ｂ（または２１ａ）が、基板Ｓｗの外周よりＹ軸方向に突出したキャリアＣａの部分を支持するようになっている。

図２を参照して、図１に示すＺ軸方向下側に位置するローラユニット２ｄを例に説明すると、中間チャンバＭｃの側壁Ｍｗには、Ｚ軸方向に長手のスリット孔ＭｓがＸ軸方向に列設され、スリット孔Ｍｓを夫々挿通して中間チャンバＭｃ外にＹ軸方向に夫々突出した各移送ローラ２１ｂの駆動軸２２の部分にはプーリ２３が設けられ、これらのプーリ２３の間にはベルト２４が掛け回されている。そして、モータ２５によりいずれかのプーリ２３を回転駆動すると、ベルト２４を介して各移送ローラ２１ｂが同方向に同期して回転し、キャリアＣａがＸ軸方向一方からその他方に向けて（図１中、左から右に）移送されるようになっている。

また、駆動軸２２の部分、プーリ２３やベルト２４といったキャリアＣａを移送するための部品は、ボックス２６内に一体に組み付けられ、ボックス２６が、中間チャンバＭｃの側壁Ｍｗ外側に夫々取り付けた真空雰囲気の形成が可能な拡張チャンバＥｃ，Ｅｃ内に格納されている。拡張チャンバＥｃ，Ｅｃ内には、移動手段としての直動モータ２７が設けられ、直動モータ２７の駆動軸２７ａがボックス２６の所定位置に接続され、上ローラユニット２ｕと下ローラユニット２ｄとを（即ち、各ローラユニット２ｕ，２ｄの各移送ローラ２１ａ，２１ｂを）互いに近接または離間するようにＺ軸方向に夫々移動できるようになっている。なお、拡張チャンバＥｃ，Ｅｃ自体は、中間チャンバＭｃにスリット孔Ｍｓを介して連通しているが、その内部を独立して真空排気する真空ポンプを設けていてもよい。各拡張チャンバＥｃ，ＥｃのＹ軸方向の外側壁の所定位置には、Ｙ軸方向で同軸上に位置させて回転軸３ａ，３ｂが夫々突設され、回転軸３ａ，３ｂは、例えば真空処理装置ＶＭが設置される床面にＹ軸方向に間隔を存して配置される支持ブロック４ａ，４ｂに軸支されている。これにより、回転手段としての回転モータ５により回転軸３ａ，３ｂを回転させると、その回転方向及び回転角に応じて中間チャンバＭｃが回転してその姿勢を変更するようになる。なお、中間チャンバＭｃの回転を阻害しないように、真空ポンプＶｃ２からの排気管Ｖｐ２の中間チャンバＭｃへの接続位置や、その長さなどが適宜設定されている。

図１に示す真空処理装置ＶＭの姿勢を例に説明すると、中間チャンバＭｃに対峙する上流側チャンバＵｃの壁面には開閉バルブとしての第１のゲートバルブ６１が設けられると共に、上流側チャンバＵｃに対峙する中間チャンバＭｃの壁面には開閉バルブとしての第２のゲートバルブ６２が設けられ、また、下流側チャンバＵｃに対峙する中間チャンバＭｃの壁面には開閉バルブとしての第３のゲートバルブ６３が設けられると共に、中間チャンバＭｃに対峙する下流側チャンバＤｃの壁面には開閉バルブとしての第４のゲートバルブ６４が設けられている。そして、第１～第４のゲートバルブ６１～６４を閉じると、上流側チャンバＵｃと中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとをその内部の真空雰囲気を維持したまま互いに隔絶できるようになっている。なお、開閉バルブとして、第１～第４のゲートバルブ６１～６４を例に説明しているが、チャンバ内からのキャリアＣａの移動を許容できるものであれば、例えばバタフライ式のものなど他の公知のものを利用でき。

第１の開閉バルブ６１及び第４の開閉バルブ６４には、Ｘ軸方向に長手の第１及び第２の各連結部材７１，７２が夫々取り付けられている。各連結部材７１，７２は、基板Ｓｗの通過を許容する内径を持つベローズ管で構成されている。各連結部材７１，７２の中間チャンバＭｃ側の端面にはフランジ部７１ａ，７２ａが形成され、フランジ部７１ａ，７２ａにＯリング等の真空シール７１ｂ，７２ｂが設けられている。また、第１及び第２の各連結部材７１，７２には、駆動手段としてのエアシリンダ７３の駆動軸７３ａが連結され、エアシリンダ７３によりＸ軸方向に伸縮自在、即ち、回転される中間チャンバＭｃに干渉しない縮位置と、フランジ部７１ａ，７２ａの真空シール７１ｂ，７２ｂが、中間チャンバＭｃの第２及び第３の各ゲートバルブ６２，６３の対峙面に当接して、その内部を気密保持した状態とする伸位置との間で第１及び第２の各連結部材７１，７２が伸縮自在となる。

第１及び第２の各連結部材７１，７２には、真空ポンプＶｃ３からの排気管Ｖｐ３と、ベントガス導入用バルブＶｇからのベントガス導入管（ベントライン）Ｖｌとが接続され、その内部を真空雰囲気と大気雰囲気とに適宜切り換えることができるようにしている。真空ポンプＶｃ３としては、上流側チャンバＵｃと中間チャンバＭｃとを及び中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを再度連通するときに、上流側チャンバＵｃと下流側チャンバＤｃとに求められる圧力（真空度）に応じて、公知のものから適宜選択されるが、その圧力やベローズ管７１，７２の容積によっては、真空ポンプＶｃ３を省略することができる。また、ベントガスとしては、例えば、窒素ガスなどの不活性ガスが用いられる。以下に、図面も参照して、真空処理装置ＶＭによる基板Ｓｗの移送を具体的に説明する。

図１に示す真空処理装置ＶＭでは、第１～第４の各ゲートバルブ６１～６４が開状態で、且つ、上流側チャンバＵｃと中間チャンバＭｃとを及び中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを連通する伸位置に第１及び第２の連結部材７１，７２がある。また、上流側チャンバＵｃ、中間チャンバＭｃ及び下流側チャンバＤｃは、真空ポンプＶｃ１，Ｖｃ２により所定圧力まで真空排気され、更に、真空雰囲気の上流側チャンバＵｃ内では、第１のローラユニット１ａの各移送ローラ１１で、上面に基板ＳｗがセットされたキャリアＣａが支持されている（つまり、基板Ｓｗの処理面がＺ軸方向上方を向く姿勢となっている）。上流側チャンバＵｃから中間チャンバＭｃを経て下流側チャンバＤｃに基板Ｓｗをその姿勢をかえて移送する場合、先ず、第１のローラユニット１ａと、第２のローラユニット２の下ローラユニット２ｄとを夫々稼働し、上流側チャンバＵｃから第１の連結部材７１を通して中間チャンバＭｃ内へと移送し、下ローラユニット２ｄでキャリアＣａが支持される状態とする。

次に、第１～第４の各ゲートバルブ６１～６４を閉状態とし、上流側チャンバＵｃ、中間チャンバＭｃ及び下流側チャンバＤｃをその内部を真空雰囲気とした状態で互いに隔絶する。この状態で、ベントガス導入管Ｖｌを介してベントガスを第１及び第２の連結部材７１，７２に夫々導入してその内部を大気雰囲気とする。そして、エアシリンダ７３により第１及び第２の連結部材７１，７２を縮位置に夫々移動する。これに併せて、中間チャンバＭｃにおいて、直動モータ２７を稼働させて、上ローラユニット２ｕと下ローラユニット２ｄとをＺ軸方向で互いに近接するように移動させることで、一対のローラユニット２ｕ，２ｄでキャリアＣａを挟持することで保持する。

次に、キャリアＣａを保持（つまり、その移動を規制）した状態で、回転モータ５により回転軸３ａ，３ｂを１８０度回転させる。すると、中間チャンバＭｃの回転に伴ってキャリアＣａが上下反転する。これにより、基板Ｓｗの処理面がＺ軸方向下方を向く姿勢に変更される。この状態で、直動モータ２７を稼働させて、上ローラユニット２ｕと下ローラユニット２ｄとをＺ軸方向で互いに離間するように移動させると、キャリアＣａが、Ｚ軸方向下側に位置するようになった第２のローラユニット２の上ローラユニット２ｕで支持されるようになる。

次に、第２の連結部材７２が伸位置に移動され（必要に応じて、第１の連結部材７１も伸位置に移動され）、真空シール７２ｂが第３のゲートバルブ６３の対峙面に当接し、この状態で真空ポンプＶｃ３により第２の連結部材７２内が真空排気される。第２の連結部材７２内が所定圧力まで真空排気されると、第３のゲートバルブ６３が開状態とされ、第１のローラユニット１ｂと上ローラユニット２ｕとを夫々稼働し、中間チャンバＭｃから第２の連結部材７２を通して下流側チャンバＤｃ内へと移送する。

以上の実施形態によれば、中間チャンバＭｃ自体を回転させてその内部で保持されるキャリアＣａ、ひいては、基板Ｓｗの姿勢を変更する構成を採用したため、中間チャンバＭｃ自体は、基板ＳｗがセットされたキャリアＣａと第２のローラユニット２とを格納する空間だけあれば済み、基板Ｓｗの回転を許容できる空間を確保する必要がある上記従来例のものと比較して、中間チャンバＭｃのサイズを大幅に小さくすることができる。その結果、その内部を真空排気するために多数の真空ポンプが必要になったり、また、真空チャンバの材料費が大幅に増加したりするといった問題を解消することができる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、真空処理装置ＶＭとして、上流側チャンバＵｃ、中間チャンバＭｃ及び下流側チャンバＤｃを持つものを例に説明したが、チャンバの数はこれに限定されるものではなく、各種の真空処理を行う複数個の処理チャンバの間で基板Ｓｗを移送する際に、この基板Ｓｗを姿勢変更する必要があるものに広く適用することができる。

また、上記実施形態では、中間チャンバＭｃにて基板Ｓｗを上下反転させるものを例に説明したが、これに限定されるものではない。特に図示して説明しないが、例えば、上流側チャンバＵｃで基板Ｓｗの処理面が鉛直方向上方を向く姿勢（水平姿勢）で処理を行い、中間チャンバＭｃにて基板Ｓｗの処理面が水平方向を向く姿勢（垂直姿勢）に姿勢変更し、この姿勢で下流側チャンバＤｃに基板Ｓｗを移送することもできる。このような場合、中間チャンバＭｃに、垂直姿勢にされた基板Ｓｗを移送する移送手段を適宜設けておけばよい。更に、上記実施形態では、上ローラユニット２ｕと下ローラユニット２ｄとをＺ軸方向で互いに近接または離間するように移動できる構成を採用し、一対のローラユニット２ｕ，２ｄでキャリアＣａを挟持することで保持するものを例に説明したが、中間チャンバＭｃ自体を回転させるときにキャリアＣａまたは基板Ｓｗを保持できるものであれば、これに限定されるものではなく、保持するための機構は、キャリアＣａまたは基板Ｓｗを移送するものと別体で構成するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、第１及び第２の各連結部材７１，７２がベローズ管で構成され、ベローズ管を駆動手段７３で伸縮させてＸ軸方向に進退させるものを例に説明したが、上流側チャンバＵｃと中間チャンバＭｃとを及び中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを連通またはその解除ができて中間チャンバＭｃの回転を阻害しないものであれば、特に制限はない。例えば、図４に示すように、ゲートバルブ６１に金属製の枠体８１を設け、枠体８１で支持されるようにゴム製のシール体８２を装着し、枠体８１内に流体を導入することで、シール体８２を膨張させて、中間チャンバＭｃのゲートバルブ６２の対峙面に当接させて真空シールする一方で、枠体８１内の流体を排出することで、中間チャンバＭｃの回転を許容する隙間が形成されるようにしたものを用いることができる。

Ｄｃ…下流側チャンバ、Ｍｃ…中間チャンバ、Ｕｃ…上流側チャンバ、Ｖｃ３…真空ポンプ、Ｖｌ…ベントガス導入管（ベントライン）、ＶＭ…真空処理装置、１ａ，１ｂ，２…ローラユニット（移送手段）、３ａ，３ｂ…回転軸、５…回転モータ（回転手段）、２７…直動モータ（移動手段）、６１…第１の開閉バルブ、６２…第２の開閉バルブ、６３…第３の開閉バルブ、６４…第４の開閉バルブ、７１…ベローズ管（第１の連結部材）、７２…ベローズ管（第２の連結部材）。

Claims

互いに連設される真空雰囲気の形成が可能な上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバと、上流側チャンバから中間チャンバを経て下流側チャンバに被処理基板を移送する移送手段とを備える真空処理装置であって、中間チャンバに、上流側チャンバから移送される被処理基板の姿勢を変更する姿勢変更ユニットが設けられ、姿勢変更された被処理基板が移送手段により中間チャンバから下流側チャンバに移送されるようにしたものにおいて、
上流側チャンバと中間チャンバとが、上流側チャンバに設けられる第１の開閉バルブと、中間チャンバに設けられる第２の開閉バルブと、第１及び第２の各開閉バルブの間に設けられて被処理基板の通過を許容する内部空間を有する伸縮自在な第１の連結部材とを介して連設されると共に、中間チャンバと下流側チャンバとが、中間チャンバに設けられる第３の開閉バルブと、下流側チャンバに設けられる第４の開閉バルブと、第３及び第４の各開閉バルブの間に設けられて被処理基板の通過を許容する内部空間を有する伸縮自在な第２の連結部材とを介して連設され、
第１の接続部材と第２の接続部材とにその内部空間の大気開放を可能とするベントラインが接続され、前記姿勢変更ユニットは、中間チャンバ内で被処理基板を保持した状態で中間チャンバに設けられた回転軸回りに中間チャンバを回転させる回転手段を備えることを特徴とする真空処理装置。
請求項１記載の真空処理装置であって、前記上流側チャンバから前記中間チャンバに向けて前記被処理基板が移送される方向をＸ軸方向、被処理基板の面内でＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向をＺ軸方向とし、被処理基板の処理面がＺ軸方向上方に向く姿勢から、中間チャンバにて処理面がＺ軸方向下方に向く姿勢に上下反転させ、この姿勢で被処理基板が下流側チャンバに移送されるものにおいて、
前記移送手段が、中間チャンバ内で互いに対峙させて設けられるＺ軸方向上下一対のローラユニットを備え、一方のローラユニットと他方のローラユニットとの少なくとも一方を互いに近接または離間するようにＺ軸方向に移動させる移動手段が設けられ、
前記回転軸がＹ軸方向にのびるように中間チャンバの外壁に突設され、中間チャンバを回転させる際に、上側ローラユニットと下側ローラユニットとで被処理基板を挟持することで被処理基板が保持されるように構成したことを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
前記第１及び第２の各連結部材の内部空間を真空排気する真空ポンプが設けられることを特徴とする請求項１または請求項２記載の真空処理装置。