JP7283274B2 - 樹脂組成物 - Google Patents
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Description
[1] (A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材、及び(C)粒子状又は非粒子状のエラストマーを含む樹脂組成物であって、
(B)成分の比表面積が10m2/g以上であり、
(C)成分の含有量が、樹脂組成物中の(B)成分以外の不揮発成分を100質量%とした場合、35質量%以下であり、
(C)成分が粒子状の場合、(C)成分の平均粒径が0.8μm以下である、樹脂組成物。
[2] (B)成分の比表面積が20m2/g以上である、上記[1]に記載の樹脂組成物。
[3] (B)成分が、シリカである、上記[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
[4] (C)成分の含有量が、樹脂組成物中の(B)成分以外の不揮発成分を100質量%とした場合、25質量%以下である、上記[1]~[3]の何れかに記載の樹脂組成物。
[5] (C)成分の含有量が、樹脂組成物中の(B)成分以外の不揮発成分を100質量%とした場合、1質量%以上である、上記[1]~[4]の何れかに記載の樹脂組成物。
[6] (C)成分が粒子状エラストマーであり、粒子状エラストマーが、スチレン・ブタジエンゴム粒子、イソプレンゴム粒子、ブタジエンゴム粒子、クロロプレンゴム粒子、アクリロニトリル・ブタジエンゴム粒子、ブチルゴム粒子、エチレン・プロピレンゴム粒子、ウレタンゴム粒子、シリコーンゴム粒子、クロロスルホン化ポリエチレンゴム粒子、塩素化ポリエチレンゴム粒子、アクリルゴム粒子、エピクロロヒドリンゴム粒子、多硫化ゴム粒子、及びフッ素ゴム粒子からなる群から選択される少なくとも1種を含む、上記[1]~[5]の何れかに記載の樹脂組成物。
[7] (C)成分が非粒子状エラストマーであり、非粒子状エラストマーが、分子内にポリブタジエン構造、ポリシロキサン構造、ポリ(メタ)アクリレート構造、ポリアルキレン構造、ポリアルキレンオキシ構造、ポリイソプレン構造、ポリイソブチレン構造、及びポリカーボネート構造からなる群から選択される少なくとも1種の構造を有する樹脂である、上記[1]~[5]の何れかに記載の樹脂組成物。
[8] 非粒子状エラストマーが、ポリブタジエン樹脂を含む、上記[7]に記載の樹脂組成物。
[9] 非粒子状エラストマーが、フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂、及びエポキシ基含有ポリブタジエン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含む、上記[8]に記載の樹脂組成物。
[10] さらに(D)硬化剤を含む、上記[1]~[9]の何れかに記載の樹脂組成物。
[11] (D)成分が、活性エステル系硬化剤を含む、上記[10]に記載の樹脂組成物。
[12] (D)成分の含有量が、樹脂組成物中の(B)成分以外の不揮発成分を100質量%とした場合、30質量%以上である、上記[10]又は[11]に記載の樹脂組成物。
[13] 上記[1]~[12]の何れかに記載の樹脂組成物の硬化物。
[14] 上記[1]~[12]の何れかに記載の樹脂組成物を含有する、シート状積層材料。
[15] 支持体と、当該支持体上に設けられた上記[1]~[12]の何れかに記載の樹脂組成物から形成される樹脂組成物層と、を有する樹脂シート。
[16] 上記[1]~[12]の何れかに記載の樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層を備えるプリント配線板。
[17] 上記[16]に記載のプリント配線板を含む、半導体装置。
本発明の樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材、(C)粒子状又は非粒子状のエラストマーを含み、(B)成分の比表面積が10m2/g以上であり、(C)成分の含有量が35質量%以下((B)成分を除く成分比)であり、(C)成分の平均粒径が0.8μm以下である。このような樹脂組成物を用いることにより、硬化物の反りを抑制でき、且つ優れた絶縁信頼性、密着性、小径ビア形成性を達成できる。
本発明の樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂を含有する。(A)エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有する樹脂を意味する。ただし、(A)エポキシ樹脂には(C)成分に該当するものは含まれない。
本発明の樹脂組成物は、(B)無機充填材を含む。本発明において(B)無機充填材の比表面積は、10m2/g以上である。(B)無機充填材は、粒子の状態で樹脂組成物に含まれる。
本発明の樹脂組成物は、(C)粒子状又は非粒子状のエラストマーを含有する。本発明においてエラストマーは、柔軟性を有する樹脂を意味し、樹脂組成物中で粒子の形態を維持する粒子状樹脂成分(粒子状エラストマー)、或いは樹脂組成物に混和又は溶解する傾向のある不定形な非粒子状樹脂成分(非粒子状エラストマー)であり、ゴム弾性を示す樹脂または他の成分と反応してゴム弾性を示す樹脂が好ましい。ゴム弾性を示す樹脂としては、例えば、日本工業規格(JIS K7161)に準拠し、温度25℃、湿度40%RHにて、引っ張り試験を行った場合に、1GPa以下の弾性率を示す樹脂が挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、任意成分として(D)硬化剤を含む場合がある。(D)硬化剤は、(A)エポキシ樹脂を硬化する機能を有する。
本発明の樹脂組成物は、任意成分として(E)硬化促進剤を含む場合がある。(E)硬化促進剤は、(A)エポキシ樹脂の硬化を促進させる機能を有する。
本発明の樹脂組成物は、任意成分として(F)難燃剤を含む場合がある。(F)難燃剤としては、ホスファゼン化合物、リン酸エステル、ホスフィン酸塩等のリン系難燃剤;脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、含窒素複素環化合物、尿素化合物等の窒素系難燃剤;三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン酸ナトリウム等の無機系難燃剤;臭素化ポリカーボネート樹脂、臭素化エポキシ樹脂、臭素化フェノキシ樹脂、臭素化ポリフェニレンエーテル樹脂、臭素化ポリスチレン樹脂、臭素化ベンジルポリアクリレート樹脂等のハロゲン系難燃剤等が挙げられる。中でも、リン系難燃剤が好ましい。(F)難燃剤は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物は、任意成分として(G)熱可塑性樹脂を含む場合がある。ここにおける(G)熱可塑性樹脂は、(C)成分には該当しない熱可塑性樹脂である。
本発明の樹脂組成物は、不揮発性成分として、さらに任意の添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、有機銅化合物、有機亜鉛化合物、有機コバルト化合物等の有機金属化合物;フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、アイオディングリーン、ジアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック等の着色剤;ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、フェノチアジン等の重合禁止剤;シロキサン等のレベリング剤;ベントン、モンモリロナイト等の増粘剤;シリコーン系消泡剤、アクリル系消泡剤、フッ素系消泡剤、ビニル樹脂系消泡剤の消泡剤;ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤;尿素シラン等の接着性向上剤;シランカップリング剤、トリアゾール系密着性付与剤、テトラゾール系密着性付与剤、トリアジン系密着性付与剤等の密着性付与剤;ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤等の酸化防止剤;スチルベン誘導体等の蛍光増白剤;フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤等が挙げられる。添加剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。(H)その他の添加剤の含有量は当業者であれば適宜設定できる。
本発明の樹脂組成物は、上述した不揮発性成分以外に、揮発性成分として、さらに任意の有機溶剤を含有する場合がある。(I)有機溶剤としては、公知のものを適宜用いることができ、その種類は特に限定されるものではない。(I)有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソアミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ-ブチロラクトン等のエステル系溶剤;テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル系溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶剤;酢酸2-エトキシエチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチルジグリコールアセテート、γ-ブチロラクトン、メトキシプロピオン酸メチル等のエーテルエステル系溶剤;乳酸メチル、乳酸エチル、2-ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステルアルコール系溶剤;2-メトキシプロパノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)等のエーテルアルコール系溶剤;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン等のアミド系溶剤;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶剤;ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤等を挙げることができる。(I)有機溶剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。(I)有機溶剤の含有量は当業者であれば適宜設定できる。
本発明の樹脂組成物は、例えば、任意の反応容器に(A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材、(C)粒子状又は非粒子状のエラストマー、必要に応じて(D)硬化剤、必要に応じて(E)硬化促進剤、必要に応じて(F)難燃剤、必要に応じて(G)熱可塑性樹脂、必要に応じて(H)その他の添加剤、及び必要に応じて(I)有機溶剤を、任意の順で及び/又は一部若しくは全部同時に加えて混合することによって、製造することができる。また、各成分を加えて混合する過程で、温度を適宜設定することができ、一時的に又は終始にわたって、加熱及び/又は冷却してもよい。また、各成分を加えて混合する過程において、撹拌又は振盪を行ってもよい。また、加えて混合する際に又はその後に、樹脂組成物を、例えば、ミキサーなどの撹拌装置を用いて撹拌し、均一に分散させてもよい。
本発明の樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材、及び(C)粒子状又は非粒子状のエラストマーを含み、(B)成分の比表面積が10m2/g以上であり、(C)成分の含有量が35質量%以下((B)成分を除く成分比)であり、(C)成分の平均粒径が0.8μm以下であるため、硬化物の反りを抑制でき、且つ優れた絶縁信頼性、密着性、小径ビア形成性を達成できる。
本発明の樹脂組成物は、絶縁用途の樹脂組成物、特に、絶縁層を形成するための樹脂組成物として好適に使用することができる。具体的には、絶縁層上に形成される導体層(再配線層を含む)を形成するための当該絶縁層を形成するための樹脂組成物(導体層を形成するための絶縁層形成用樹脂組成物)として好適に使用することができる。また、後述するプリント配線板において、プリント配線板の絶縁層を形成するための樹脂組成物(プリント配線板の絶縁層形成用樹脂組成物)として好適に使用することができる。本発明の樹脂組成物はまた、樹脂シート、プリプレグ等のシート状積層材料、ソルダーレジスト、アンダーフィル材、ダイボンディング材、半導体封止材、穴埋め樹脂、部品埋め込み樹脂等、樹脂組成物が必要とされる用途で広範囲に使用できる。
(1)基材に仮固定フィルムを積層する工程、
(2)半導体チップを、仮固定フィルム上に仮固定する工程、
(3)半導体チップ上に封止層を形成する工程、
(4)基材及び仮固定フィルムを半導体チップから剥離する工程、
(5)半導体チップの基材及び仮固定フィルムを剥離した面に、絶縁層としての再配線形成層を形成する工程、及び
(6)再配線形成層上に、導体層としての再配線層を形成する工程
本発明の樹脂組成物は、ワニス状態で塗布して使用することもできるが、工業的には一般に、該樹脂組成物を含有するシート状積層材料の形態で用いることが好適である。
本発明のプリント配線板は、本発明の樹脂組成物を硬化して得られる硬化物からなる絶縁層を含む。
(I)内層基板上に、樹脂シートを、樹脂シートの樹脂組成物層が内層基板と接合するように積層する工程
(II)樹脂組成物層を硬化(例えば熱硬化)して絶縁層を形成する工程
本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を含む。本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を用いて製造することができる。
無機充填材100mg、分散剤(サンノプコ社製「SN9228」)0.1g、メチルエチルケトン10gをバイアル瓶に秤取り、超音波にて20分間分散した。レーザー回折式粒径分布測定装置(島津製作所社製「SALD-2200」)を使用して、回分セル方式で粒径分布を測定し、メディアン径による平均粒径を算出した。
ゴム粒子の平均粒子径は、動的光散乱法を用いて測定できる。具体的には、適切な有機
溶剤にゴム粒子を超音波等の方法により均一に分散させ、濃厚系粒径アナライザー(大塚
電子社製「FPAR-1000」)を用いて、ゴム粒子の粒径分布を質量基準で作成し、
そのメディアン径を平均粒子径として測定した。
反応容器に2官能性ヒドロキシ基末端ポリブタジエン(G-1000、日本曹達社製、数平均分子量=1,000、ヒドロキシ基当量=1,800g/eq.)69gと、イプゾール150(芳香族炭化水素系混合溶媒:出光石油化学社製)40g、ジブチル錫ラウレート0.005gを混合し均一に溶解させた。均一になったところで50℃に昇温し、更に撹拌しながら、イソホロンジイソシアネート(エボニックデグサジャパン社製、IPDI、イソシアネート基当量=113g/eq.)8gを添加し約3時間反応を行った。次いで、この反応物を室温まで冷却してから、これにクレゾールノボラック樹脂(KA-1160、DIC社製、水酸基当量=117g/eq.)23gと、エチルジグリコールアセテート(ダイセル社製)60gを添加し、攪拌しながら80℃まで昇温し、約4時間反応を行った。FT-IRより2250cm-1のNCOピークの消失の確認を行った。NCOピーク消失の確認をもって反応の終点とみなし、反応物を室温まで降温してから100メッシュの濾布で濾過して、液状フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂(不揮発分50質量%)を得た。数平均分子量は4,500であった。
反応容器に2官能性ヒドロキシ基末端ポリブタジエン(G-2000、日本曹達社製、数平均分子量=3,000、ヒドロキシ基当量=1,800g/eq.)69gと、イプゾール150(芳香族炭化水素系混合溶媒:出光石油化学社製)40g、ジブチル錫ラウレート0.005gを混合し均一に溶解させた。均一になったところで50℃に昇温し、更に撹拌しながら、イソホロンジイソシアネート(エボニックデグサジャパン社製、IPDI、イソシアネート基当量=113g/eq.)8gを添加し約3時間反応を行った。次いで、この反応物を室温まで冷却してから、これにクレゾールノボラック樹脂(KA-1160、DIC社製、水酸基当量=117g/eq.)23gと、エチルジグリコールアセテート(ダイセル社製)60gを添加し、攪拌しながら80℃まで昇温し、約4時間反応を行った。FT-IRより2250cm-1のNCOピークの消失の確認を行った。NCOピーク消失の確認をもって反応の終点とみなし、反応物を室温まで降温してから100メッシュの濾布で濾過して、液状フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂(不揮発分50質量%)を得た。数平均分子量は5,500であった。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製「828US」、エポキシ当量約180g/eq.)10部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC社製「HP-4032SS」、エポキシ当量約140g/eq.)10部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬社製「NC3000L」、エポキシ当量約269g/eq.)20部、ビフェニル型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製「YX4000H」、エポキシ当量約190g/eq.)20部、ホスファゼン樹脂(大塚化学社製「PX-200」)3部、フェノキシ樹脂(三菱ケミカル社製「YX7553BH30」、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサノンの1:1溶液)10部、ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部をMEK60部に撹拌しながら加熱溶解させた。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部を液状エポキシ基含有ポリブタジエン樹脂(日本曹達社製「JP-100」、エポキシ当量約210g/eq.)8.5部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
N-フェニル-8-アミノオクチルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、分子量325.2)で表面処理された球形シリカ(デンカ社製「UFP-20」、比表面積22m2/g、平均粒径0.15μm)300部を110部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部を合成例1で得た液状フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂(固形分50%、数平均分子量:4,500)17部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部を合成例2で得た液状フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂(固形分50%、数平均分子量:5,500)17部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部を合成例1で得た液状フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂(固形分50%、数平均分子量:4,500)80部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部を液状エポキシ基含有ポリブタジエン樹脂(日本曹達社製「JP-100」、エポキシ当量約210g/eq.)8.5部に変更し、活性エステル系硬化剤(DIC社製「HPC-8000-65T」、活性基当量約223g/eq.、固形分65質量%のトルエン溶液)70部を活性エステル系硬化剤(DIC社製「HPC-8150-60T」、活性基当量約220g/eq.、固形分60質量%のトルエン溶液)65部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部をゴム粒子(根上工業社製「MM-110SM」、平均粒径1μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサノンの4:1溶液)28部に変更し、N-フェニル-8-アミノオクチルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、分子量325.2)で表面処理された球形シリカ(デンカ社製「UFP-20」、比表面積22m2/g、平均粒径0.15μm)300部をN-フェニル-8-アミノオクチルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、分子量325.2)で表面処理された球形シリカ(アドマテックス社製「SC2050-SXF」、比表面積5.9m2/g、平均粒径0.77μm)300部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
N-フェニル-8-アミノオクチルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、分子量325.2)で表面処理された球形シリカ(デンカ社製「UFP-20」、比表面積22m2/g、平均粒径0.15μm)300部をN-フェニル-8-アミノオクチル-トリメトキシシラン(信越化学工業社製、分子量325.2)で表面処理された球形シリカ(アドマテックス社製「SC2050-SXF」、比表面積5.9m2/g、平均粒径0.77μm)300部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部をゴム粒子(根上工業社製「MM-110SM」、平均粒径1μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサノンの4:1溶液)28部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部を使用しなかった以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
実施例1において、ウレタンゴム粒子(根上工業社製「MM-101SM」、平均粒径0.07~0.10μm、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサンの4:1溶液)28部を合成例1で得た液状フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂(固形分50%、数平均分子量:4,500)160部に変更した以外は実施例1と同様にして樹脂組成物を作製した。
支持体として、アルキド樹脂系離型剤(リンテック社製「AL-5」)で離型処理したPETフィルム(東レ社製「ルミラーR80」、厚み38μm、軟化点130℃、以下「離型PET」ということがある。)を用意した。
支持体として、アルキド樹脂系離型剤(リンテック社製「AL-5」)で離型処理したPETフィルム(東レ社製「ルミラーR80」、厚み38μm、軟化点130℃、以下「離型PET」ということがある。)を用意した。
支持体として、アルキド樹脂系離型剤(リンテック社製「AL-5」)で離型処理したPETフィルム(東レ社製「ルミラーR80」、厚み38μm、軟化点130℃、以下「離型PET」ということがある。)を用意した。
(評価用基板の作製)
(1)内層回路基板の下地処理
内層回路基板として、L/S(ライン/スペース)=2μm/2μmの配線パターンにて形成された回路導体(銅)を両面に有するガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ3μm、基板厚み0.15mm、三菱ガス化学社製「HL832NSF LCA」、255×340mmサイズ)を用意した。該内層回路基板の両面を、メック社製「FlatBOND-FT」にて銅表面の有機被膜処理を行った。
作製例1で作製した樹脂シートAから保護フィルムを剥がし、バッチ式真空加圧ラミネーター(ニッコー・マテリアルズ社製、2ステージビルドアップラミネーター、CVP700)を用いて、樹脂組成物層が内層回路基板と接するように、内層回路基板の両面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、130℃、圧力0.74MPaにて45秒間圧着させることにより実施した。次いで、120℃、圧力0.5MPaにて75秒間熱プレスを行った。
樹脂シートがラミネートされた内層回路基板を、130℃のオーブンに投入後30分間、次いで170℃のオーブンに移し替えた後30分間、熱硬化して厚みが5μmの絶縁層を形成し、離形PETを剥離した。これを「基板A」とする。
基板Aの絶縁層に粗化処理としてのデスミア処理を行った。なお、デスミア処理としては、下記の湿式デスミア処理を実施した。
膨潤液(アトテックジャパン社製「スウェリングディップ・セキュリガントP」、ジエチレングリコールモノブチルエーテル及び水酸化ナトリウムの水溶液)に60℃で5分間、次いで酸化剤溶液(アトテックジャパン社製「コンセントレート・コンパクトCP」、過マンガン酸カリウム濃度約6%、水酸化ナトリウム濃度約4%の水溶液)に80℃で10分間、最後に中和液(アトテックジャパン社製「リダクションソリューション・セキュリガントP」、硫酸水溶液)に40℃で5分間、浸漬した後、80℃で15分間乾燥した。これを「粗化基板A」とする。
(5-1)無電解めっき工程
上記粗化基板Aの絶縁層の表面に導体層を形成するため、下記1~6の工程を含むめっき工程(アトテックジャパン社製の薬液を使用した銅めっき工程)を行って導体層を形成した。
粗化基板Aの表面を、Cleaning Cleaner Securiganth 902(商品名)を用いて60℃で5分間洗浄した。
2.ソフトエッチング(ビアホール内の洗浄)
粗化基板Aの表面を、硫酸酸性ペルオキソ二硫酸ナトリウム水溶液を用いて、30℃で1分間処理した。
3.プレディップ(Pd付与のための絶縁層の表面の電荷の調整)
粗化基板Aの表面を、Pre.Dip Neoganth B(商品名)を用い、室温で1分間処理した。
4.アクティヴェーター付与(絶縁層の表面へのPdの付与)
粗化基板Aの表面を、Activator Neoganth 834(商品名)を用い、35℃で5分間処理した。
5.還元(絶縁層に付与されたPdを還元)
粗化基板Aの表面を、Reducer Neoganth WA(商品名)とReducer Acceralator 810 mod.(商品名)との混合液を用い、30℃で5分間処理した。
6.無電解銅めっき工程(Cuを絶縁層の表面(Pd表面)に析出)
粗化基板Aの表面を、Basic Solution Printganth MSK-DK(商品名)と、Copper solution Printganth MSK(商品名)と、Stabilizer Printganth MSK-DK(商品名)と、Reducer Cu(商品名)との混合液を用いて、35℃で20分間処理した。形成された無電解銅めっき層の厚さは0.8μmであった。
次いで、アトテックジャパン社製の薬液を使用して、ビアホール内に銅が充填される条件で電解銅めっき工程を行った。その後に、エッチングによるパターニングのためのレジストパターンとして、ビアホールに導通された直径1mmのランドパターン、及び下層導体とは接続されていない直径10mmの円形導体パターンを用いて絶縁層の表面に10μmの厚さでランド及び導体パターンを有する導体層を形成した。次に、アニール処理を200℃にて90分間行った。この基板を「評価用基板」とした。
評価用基板をFIB-SEM複合装置(SIIナノテクノロジー社製「SMI3050SE」)を用いて、断面観察を行った。詳細には、導体層の表面に垂直な方向における断面をFIB(集束イオンビーム)により削り出し、断面SEM画像から、導体層間の絶縁層厚を測定した。各サンプルにつき、無作為に選んだ5箇所の断面SEM画像を観察し、その平均値を導体層間の絶縁層厚み(μm)とし、下記表に示した。
上記において得られた評価用基板の直径10mmの円形導体側を+電極とし、直径1mmのランドと接続された内層回路基板の格子導体(銅)側を-電極として、高度加速寿命試験装置(ETAC社製「PM422」)を使用し、130℃、85%相対湿度、3.3V直流電圧印加の条件で200時間経過させた際の絶縁抵抗値を、エレクトロケミカルマイグレーションテスター(J-RAS社製「ECM-100」)にて測定した。この測定を6回行い、6点の試験ピース全てにおいてその抵抗値が1.0×107Ω以上の場合を「○」とし、1つでも1.0×107Ω未満の場合は「×」とし、評価結果と絶縁抵抗値とともに下記表に示した。下記表1に記載の抵抗最低値は、6点の試験ピースの絶縁抵抗値の最低値である。
(1)樹脂組成物層のラミネート
作製例3で作製した樹脂シートCを14cm角のサイズに切り出し、バッチ式真空加圧ラミネーター(ニッコー・マテリアルズ社製、2ステージビルドアップラミネーター、CVP700)を用いて、15cm角に切り取ったガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ3μm、基板厚み0.15mm、三菱ガス化学社製「HL832NSF LCA」、255×340mmサイズ)の基板の片面にラミネートした。
ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、120℃で30秒間、圧力0.74MPaにて圧着させることにより、樹脂組成物層付き基板を作成し、その後PETフィルムを剥離した。
上記(1)で得られた樹脂組成物層付き基板の四辺を、樹脂組成物層が上面になるように厚さ1mmのSUS板にポリイミドテープで貼りつけ、190℃、90分間の硬化条件で樹脂組成物層を硬化させた。
上記(2)で得られた樹脂組成物層付き基板の四辺のうち、三辺のポリイミドテープを剥離し、SUS板から最も高い点の高さを求めることにより反りの値を求めた。そして、反りの大きさが1cm未満の場合を「〇」、1cm以上3cm未満の場合を「△」、3cm以上の場合を「×」とした。
(1)銅箔の下地処理
三井金属鉱業製銅箔「3EC-III(厚さ35μm)」の光沢面をメック社製メックエッチボンド「CZ-8101」に浸漬して銅表面に粗化処理(Ra値=1μm)を行い、防錆処理(CL8300)を施した。この銅箔をCZ銅箔という。さらに、130℃のオーブンで30分間加熱処理した。
作製例2で作製した樹脂シートBを、バッチ式真空加圧ラミネーター(ニッコー・マテリアルズ社製、2ステージビルドアップラミネーター、CVP700)を用いて、樹脂組成物層が内層回路基板と接合するように、内層回路基板の両面にラミネート処理した。ラミネート処理は、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、100℃、圧力0.74MPaで30秒間圧着することにより行った。ラミネート処理された樹脂組成物層から支持体であるPETフィルムを剥離した。その樹脂組成物層上に、「3EC-III」のCZ銅箔の処理面を、上記と同様の条件で、ラミネートした。そして、190℃、90分の硬化条件で樹脂組成物層を硬化して絶縁層を形成することで、サンプルを作製した。
上記で作製したサンプルを150×30mmの小片に切断した。小片の銅箔部分に、カッターを用いて幅10mm、長さ100mmの部分の切込みをいれて、銅箔の一端を剥がしてつかみ具(ティー・エス・イー社製、オートコム型試験機「AC-50C-SL」)で掴み、インストロン万能試験機を用いて、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重をJIS C6481に準拠して測定し、HAST前剥離強度(kgf/cm)とした。
上記で作製したサンプルを、高度加速寿命試験装置(ETAC社製「PM422」)を使用し、130℃、85%相対湿度、3.3V直流電圧印加の条件で200時間経過させた。その後、銅箔の一端を剥がしてつかみ具(ティー・エス・イー社製、オートコム型試験機「AC-50C-SL」)で掴み、インストロン万能試験機を用いて、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重をJIS C6481に準拠して測定し、HAST後剥離強度(kgf/cm)とした。なお、HAST後剥離強度が0.35kgf/cm超である場合を「〇」と評価し、0.35kgf/cm以下である場合を「×」と評価した。
(1)内層回路基板の下地処理
内層回路を形成したガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.4mm、パナソニック社製R1515A)の両面をメック社製CZ8101にて1μmエッチングして銅表面の粗化処理をおこなった。
作製例2で作製した樹脂シートBから保護フィルムを剥がし、バッチ式真空加圧ラミネーター(ニッコー・マテリアルズ社製、2ステージビルドアップラミネーター、CVP700)を用いて、内層回路基板の両面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、130℃、圧力0.74MPaにて45秒間圧着させることにより実施した。次いで、120℃、圧力0.5MPaにて75秒間熱プレスを行った。
ラミネートされた樹脂組成物層を130℃、30分続けて170℃、30分の硬化条件で硬化して絶縁層を形成した。
CO2レーザー加工機(三菱電機社製「605GTWIII(-P)」)を使用して、絶縁層にレーザー光を照射して、絶縁層に、トップ径(直径)が約30μmの複数個のビアホールを形成した。レーザー光の照射条件は、マスク径1mm、パルス幅16μs、エネルギー0.2mJ/ショット、ショット数2、バーストモード(10kHz)であった。
絶縁層を形成した内層回路基板を、膨潤液である、アトテックジャパン(株)のジエチレングリコールモノブチルエーテル含有のスエリングディップ・セキュリガントP(グリコールエーテル類、水酸化ナトリウムの水溶液)に60℃で10分間浸漬し、次に粗化液として、アトテックジャパン(株)のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で20分間浸漬、最後に中和液として、アトテックジャパン(株)のリダクションショリューシン・セキュリガントP(硫酸の水溶液)に40℃で5分間浸漬し、その後80℃で30分乾燥した。この基板を「評価基板A」とした。
評価基板Aを、PdCl2を含む無電解メッキ用溶液に40℃で5分間浸漬し、次に無電解銅メッキ液に25℃で20分間浸漬した。150℃にて30分間加熱してアニール処理を行った後に、エッチングレジストを形成し、エッチングによるパターン形成の後に、硫酸銅電解メッキを行い、20μmの厚さで導体層を形成した。次に、アニール処理を200℃にて60分間行った。この基板を「評価基板B」とした。
評価基板Bの導体層に、幅10mm、長さ100mmの部分の切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具(株式会社ティー・エス・イー、オートコム型試験機 AC-50C-SL)で掴み、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重を測定し、メッキ剥離強度(kgf/cm)とした。
試験例1の工程(4)で得られた粗化基板Aについて、ビアホール開口部を走査型電子顕微鏡((株)日立ハイテクノロジーズ製、S-4800)にて厚さ10μmの絶縁層に形成された粗化処理後のビアホールの観察を行った。そして、観察されたSEM画像から粗化処理後のビアホールの円形開口面の任意の直径2L1t、それに直交する直径2L2tを測定し、トップ面積St=πL1tL2tの計算式に代入してトップ面積Stを算出した。トップ面積Stの算出は、無作為に選んだ5か所のビアホールで行った。5箇所のビアホールのトップ面積の平均値を、平均トップ面積Staとした。
Claims (10)
- (A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材、及び(C)非粒子状のエラストマーを含む樹脂組成物であって、
(B)成分の比表面積が10m2/g以上であり、
(B)成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、40質量%以上であり、
(C)成分の含有量が、樹脂組成物中の(B)成分以外の不揮発成分を100質量%とした場合、27質量%以下であり、
(C)成分が(A)成分と反応できる官能基を有するものを含む、樹脂組成物。 - (B)成分の比表面積が20m2/g以上である、請求項1に記載の樹脂組成物。
- (B)成分が、シリカである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- (C)成分の含有量が、樹脂組成物中の(B)成分以外の不揮発成分を100質量%とした場合、25質量%以下である、請求項1~3の何れか1項に記載の樹脂組成物。
- (C)成分の含有量が、樹脂組成物中の(B)成分以外の不揮発成分を100質量%とした場合、1質量%以上である、請求項1~4の何れか1項に記載の樹脂組成物。
- 請求項1~5の何れか1項に記載の樹脂組成物の硬化物。
- 請求項1~5の何れか1項に記載の樹脂組成物を含有する、シート状積層材料。
- 支持体と、当該支持体上に設けられた請求項1~5の何れか1項に記載の樹脂組成物から形成される樹脂組成物層と、を有する樹脂シート。
- 請求項1~5の何れか1項に記載の樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層を備えるプリント配線板。
- 請求項9に記載のプリント配線板を含む、半導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019123978A JP7283274B2 (ja) | 2019-07-02 | 2019-07-02 | 樹脂組成物 |
TW109121097A TW202110992A (zh) | 2019-07-02 | 2020-06-22 | 樹脂組成物 |
CN202010612841.3A CN112251001A (zh) | 2019-07-02 | 2020-06-30 | 树脂组合物 |
US16/916,987 US11725104B2 (en) | 2019-07-02 | 2020-06-30 | Resin composition |
KR1020200080399A KR20210003685A (ko) | 2019-07-02 | 2020-06-30 | 수지 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019123978A JP7283274B2 (ja) | 2019-07-02 | 2019-07-02 | 樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021008583A JP2021008583A (ja) | 2021-01-28 |
JP7283274B2 true JP7283274B2 (ja) | 2023-05-30 |
Family
ID=74065625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019123978A Active JP7283274B2 (ja) | 2019-07-02 | 2019-07-02 | 樹脂組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11725104B2 (ja) |
JP (1) | JP7283274B2 (ja) |
KR (1) | KR20210003685A (ja) |
CN (1) | CN112251001A (ja) |
TW (1) | TW202110992A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230157357A (ko) * | 2021-03-16 | 2023-11-16 | 아지노모토 가부시키가이샤 | 수지 시트 |
TW202303864A (zh) * | 2021-03-29 | 2023-01-16 | 日商味之素股份有限公司 | 電路基板之製造方法 |
KR102574456B1 (ko) * | 2021-09-28 | 2023-09-06 | 해성디에스 주식회사 | 반도체 패키지 기판용 조성물, 이를 포함하는 반도체 패키지 기판 및 이의 제조방법 |
CN115181395B (zh) * | 2022-08-15 | 2023-10-10 | 陕西生益科技有限公司 | 一种热固性树脂组合物及其应用 |
CN115948044B (zh) * | 2022-12-06 | 2023-09-29 | 江苏多肯新材料有限公司 | 一种车用复合橡胶密封圈材料及其制备方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010035451A1 (ja) | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 積水化学工業株式会社 | 半硬化体、硬化体、積層体、半硬化体の製造方法及び硬化体の製造方法 |
WO2012165012A1 (ja) | 2011-05-27 | 2012-12-06 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2013021025A (ja) | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Hitachi Chem Co Ltd | 多層プリント配線板用接着フィルム |
WO2013146647A1 (ja) | 2012-03-26 | 2013-10-03 | 日本ゼオン株式会社 | 硬化性樹脂組成物、フィルム、積層フィルム、プリプレグ、積層体、硬化物、及び複合体 |
JP2014120687A (ja) | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | 積層板、多層積層板、プリント配線板、多層プリント配線板及び積層板の製造方法 |
JP2016027097A (ja) | 2014-06-30 | 2016-02-18 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2017110169A (ja) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 古河電気工業株式会社 | 接着剤組成物、これを用いた被着体の接合方法および積層体の製造方法 |
JP2017179058A (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 味の素株式会社 | 樹脂シート |
JP2018058959A (ja) | 2016-10-03 | 2018-04-12 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
WO2018164259A1 (ja) | 2017-03-10 | 2018-09-13 | 積水化学工業株式会社 | 樹脂材料、積層フィルム及び多層プリント配線板 |
JP2019016811A (ja) | 2018-10-09 | 2019-01-31 | 味の素株式会社 | 回路基板の製造方法 |
JP2019035059A (ja) | 2017-08-21 | 2019-03-07 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2019048952A (ja) | 2017-09-11 | 2019-03-28 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2650439B2 (ja) * | 1988-12-05 | 1997-09-03 | 日立化成工業株式会社 | 金属張積層板用接着剤組成物 |
WO2008153208A1 (ja) | 2007-06-14 | 2008-12-18 | Ajinomoto Co., Inc. | 多層プリント配線板の層間絶縁用樹脂組成物 |
JP4670859B2 (ja) | 2007-11-19 | 2011-04-13 | 日立化成工業株式会社 | 接続部材及びこれを用いた電極の接続構造 |
US10645804B2 (en) * | 2011-07-07 | 2020-05-05 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Adhesive film, multilayer printed wiring board using adhesive film, and method for manufacturing multilayer printed wiring board |
JP7154732B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2022-10-18 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP7009838B2 (ja) | 2017-08-28 | 2022-01-26 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
KR20190038969A (ko) | 2017-10-02 | 2019-04-10 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 패널 및 이의 제조 방법 |
CN108003824A (zh) * | 2017-12-06 | 2018-05-08 | 成都精湛科技有限公司 | 一种耐低温增韧的加固粘钢胶及其制备方法 |
-
2019
- 2019-07-02 JP JP2019123978A patent/JP7283274B2/ja active Active
-
2020
- 2020-06-22 TW TW109121097A patent/TW202110992A/zh unknown
- 2020-06-30 CN CN202010612841.3A patent/CN112251001A/zh active Pending
- 2020-06-30 KR KR1020200080399A patent/KR20210003685A/ko unknown
- 2020-06-30 US US16/916,987 patent/US11725104B2/en active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010035451A1 (ja) | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 積水化学工業株式会社 | 半硬化体、硬化体、積層体、半硬化体の製造方法及び硬化体の製造方法 |
WO2012165012A1 (ja) | 2011-05-27 | 2012-12-06 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2013021025A (ja) | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Hitachi Chem Co Ltd | 多層プリント配線板用接着フィルム |
WO2013146647A1 (ja) | 2012-03-26 | 2013-10-03 | 日本ゼオン株式会社 | 硬化性樹脂組成物、フィルム、積層フィルム、プリプレグ、積層体、硬化物、及び複合体 |
JP2014120687A (ja) | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | 積層板、多層積層板、プリント配線板、多層プリント配線板及び積層板の製造方法 |
JP2016027097A (ja) | 2014-06-30 | 2016-02-18 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2017110169A (ja) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 古河電気工業株式会社 | 接着剤組成物、これを用いた被着体の接合方法および積層体の製造方法 |
JP2017179058A (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 味の素株式会社 | 樹脂シート |
JP2018058959A (ja) | 2016-10-03 | 2018-04-12 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
WO2018164259A1 (ja) | 2017-03-10 | 2018-09-13 | 積水化学工業株式会社 | 樹脂材料、積層フィルム及び多層プリント配線板 |
JP2019035059A (ja) | 2017-08-21 | 2019-03-07 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2019048952A (ja) | 2017-09-11 | 2019-03-28 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2019016811A (ja) | 2018-10-09 | 2019-01-31 | 味の素株式会社 | 回路基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11725104B2 (en) | 2023-08-15 |
KR20210003685A (ko) | 2021-01-12 |
CN112251001A (zh) | 2021-01-22 |
JP2021008583A (ja) | 2021-01-28 |
TW202110992A (zh) | 2021-03-16 |
US20210002475A1 (en) | 2021-01-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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