JP7275476B2 - 積層フィルム及びその製造方法、並びにラミネート品 - Google Patents
積層フィルム及びその製造方法、並びにラミネート品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7275476B2 JP7275476B2 JP2018073706A JP2018073706A JP7275476B2 JP 7275476 B2 JP7275476 B2 JP 7275476B2 JP 2018073706 A JP2018073706 A JP 2018073706A JP 2018073706 A JP2018073706 A JP 2018073706A JP 7275476 B2 JP7275476 B2 JP 7275476B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- polyester
- laminated
- polyester film
- inorganic thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 47
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 238
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims description 203
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 88
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000013638 trimer Substances 0.000 claims description 18
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 112
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 74
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 66
- 239000002585 base Substances 0.000 description 56
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 description 46
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 36
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 36
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 12
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- -1 aromatic dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 8
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940093476 ethylene glycol Drugs 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 6
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 5
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 4
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004441 surface measurement Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical group [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 2
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000010227 cup method (microbiological evaluation) Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 2
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- MMINFSMURORWKH-UHFFFAOYSA-N 3,6-dioxabicyclo[6.2.2]dodeca-1(10),8,11-triene-2,7-dione Chemical group O=C1OCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 MMINFSMURORWKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004050 hot filament vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229940097364 magnesium acetate tetrahydrate Drugs 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- XKPKPGCRSHFTKM-UHFFFAOYSA-L magnesium;diacetate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O XKPKPGCRSHFTKM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Description
本発明は、高い水蒸気バリア性及び高い全光線透過率を有する積層フィルム及びその製造方法、並びに、高い水蒸気バリア性及び高い全光線透過率を有するラミネート品を提供することを目的とするものである。
<5> 前記ポリエステルフィルムは、実面積Sと、表面の投影面積Aとの比である実効面積(S/A)が1.001以下である<1>~<4>のいずれか1つに記載の積層フィルムである。
<6> 前記無機薄膜上に、保護樹脂層を備える<1>~<5>のいずれか1つに記載の積層フィルムである。
<7> ディスプレイ部材用である<1>~<6>のいずれか1つに記載の積層フィルムである。
第1の本発明の積層フィルムは、面配向度が160~180であり、かつ縦配向度が60~80であるポリエステルフィルム(以下、「第1の基材フィルム」と称することがある)と、アンカーコート層と、無機薄膜とを備えており、第1の基材フィルムの表面にアンカーコート層と無機薄膜とをこの順に備える。アンカーコート層と無機薄膜は、第1の基材フィルムの表面の片方のみに備えられていてもよいし、両方に備えられていてもよい。
第1の本発明の積層フィルムは、更に、他の機能性層を備えていてもよく、例えば、第1の本発明の積層フィルムは無機薄膜上に保護層、バリア性能向上層等のトップコート層を備えていてもよい。また、アンカーコート層及び無機薄膜層を第1の基材フィルム表面の片方にのみ備え、当該表面とは反対側に易接着層、易滑層、離型層、帯電防止層、光調整層などの付加機能を有する層を備えていてもよい。
第2の本発明の積層フィルムは、第2の基材フィルムと無機薄膜との間に、アンカーコート層を備えていてもよいし、更に、他の機能性層を備えていてもよい。他の機能性層としては、例えば、第1の本発明の積層フィルムにおける他の機能性層が挙げられ、具体的には、易接着層、易滑層、離型層、帯電防止層、光調整層などの付加機能を有する層が挙げられる。
第2の本発明の積層フィルムは、無機薄膜上に保護層、バリア性能向上層等のトップコート層を備えていてもよいし、無機薄膜層を第2の基材フィルム表面の片方にのみ備え、当該表面とは反対側に上記機能性層を備えていてもよい。
しかしながら、驚くべきことに、配向度の高いポリエステルフィルムに無機薄膜を積層すると、却ってガスバリア性が下がることがわかった。具体的には、第1の本発明の積層フィルムにおいては、面配向度が180を超えない範囲であり、かつ縦配向度が80を超えない範囲であるポリエステルフィルムを用い、ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に、アンカーコート層と無機薄膜とをこの順に備えることで、高いガスバリア性及び高い全光線透過率を有することがわかった。
また、第2の本発明の積層フィルムにおいては、面配向度が165以上であり、一方向の配向度が85以上である二軸延伸されたポリエステルフィルムの片面に、無機薄膜を備えることで、高いガスバリア性及び高い全光線透過率を有することがわかった。
本発明の積層フィルムが、このように高いガスバリア性及び高い全光線透過率を有する理由は定かではないが、以下の理由によるものと推察される。
全光線透過率を高めるには、通常、無機薄膜の膜厚を小さくする必要があるが、無機薄膜が薄くなるほど、積層体のガスバリア性は低下してしまう傾向にある。
しかし、本発明においては、特定の配向性のポリエステルフィルムを用いるため、ポリエステルフィルムに無機薄膜が密着し易く、更にアンカーコート層を介在させて密着性が高まっているために、積層体のガスバリア性を損なわずに、無機薄膜の膜厚を小さくすることができ、全光線透過率を高めることができると考えられる。
全光線透過率を高めるには、通常、無機薄膜の膜厚を小さくする必要があるが、無機薄膜が薄くなるほど、積層体のガスバリア性は低下してしまう傾向にある。
しかし、本発明においては、特定の配向性のポリエステルフィルムを用いるため、ポリエステルフィルムに無機薄膜が密着し易く、積層体のガスバリア性を損なわずに、無機薄膜の膜厚を小さくすることができ、全光線透過率を高めることができると考えられる。
第1及び第2の本発明の積層フィルムは、特に、水蒸気バリア性に優れるものであるが、酸素バリア性にも優れる。
以下、第1及び第2の積層フィルムの各構成要素について、詳細に説明する。
第1の本発明の積層フィルムは、基材層として、面配向度(ΔP)が160~180であり、かつ縦配向度(ΔnP)が60~80であるポリエステルフィルム(第1の基材フィルム)を備える。第1の基材フィルムは、縦方向(フィルム搬送方向)にのみ延伸された1軸延伸フィルムであってもよいし、更に横方向(フィルム搬送方向に直交する方向)に延伸された2軸延伸フィルムであってもよい。
第1の本発明においては、ポリエステルフィルムの面配向度(ΔP)が160以上であることで、ポリエステルフィルムのガスバリア性及び全光線透過率を高めることができる。一方、面配向度(ΔP)が180を超えると、ポリエステルフィルム表面に無機薄膜を積層したとき、十分なガスバリア性を得ることができない。
第1の本発明におけるポリエステルフィルムの縦配向度(ΔnP)が60以上であることで、ポリエステルフィルムのガスバリア性及び全光線透過率を高めることができる。一方、縦配向度(ΔnP)が80を超えると、ポリエステルフィルム表面に無機薄膜を積層したとき、十分なガスバリア性を得ることができない。
第1の本発明におけるポリエステルフィルムの縦配向度(ΔnP)は、積層フィルムのガスバリア性及び全光線透過率をより高める観点から、60~75が好ましく、60~72がより好ましく、61.5~66.4が更に好ましい。
中でも、第1の本発明におけるポリエステルフィルムは、2軸延伸フィルムであることが好ましい。ポリエステルフィルムの縦配向度を上記の範囲内に制御しながら、面配向度を所定の値以上とする手段としては、横配向度を高める態様が挙げられる。すなわち、第1の本発明では、無機薄膜との密着性向上、ひいてはガスバリア性向上のために、後述する通り、横配向度を高めることが好ましい。第1の基材フィルムにおける横配向度の好適な範囲としては、後述する第2の基材フィルムにおける横配向度の好適な範囲と同様とすることができる。
第2の基材フィルムは、縦方向と横方向に延伸された二軸延伸フィルムである。第2の基材フィルムは、また、面配向度(ΔP)が165以上であり、縦方向と横方向のいずれか一方向の配向度が85以上である。
第2の基材フィルムは、積層フィルムのガスバリア性及び全光線透過率をより高める観点から、縦方向と横方向のいずれか一方向の配向度が、85~105が好ましく、90~105がより好ましい。
第2の本発明におけるポリエステルフィルムの面配向度(ΔP)は、積層フィルムのガスバリア性及び全光線透過率をより高める観点から、165~180が好ましく、165~175がより好ましい。
第2の本発明におけるポリエステルフィルムの縦配向度(ΔnP)は、積層フィルムのガスバリア性及び全光線透過率をより高める観点から、60~75がより好ましく、60~72が更に好ましく、61.5~66.4が特に好ましい。
なお、第2の本発明において、第2の基材フィルムにおける「縦方向と横方向のいずれか一方向の配向度」及び「縦配向度」を「基材フィルム面における任意の一方向の配向度」と読み替え、第2の基材フィルムにおける「横配向度(ΔnPv)」を「当該任意の一方向に直交する方向の配向度」と読み替えることができる。
JIS K 7142-1996 5.1(A法)により、ナトリウムD線を光源とし、アッベ屈折計により、ポリエステルフィルム長手方向の屈折率(nx)、幅方向の屈折率(ny)、及び厚み方向の屈折率(nz)を測定する。測定結果を下記式に当てはめることで、面配向度(面配向係数ともいう;ΔP)及び縦配向度(縦面配向係数ともいう;ΔnP)を算出することができる。
ΔP=((nx+ny)/2-nz)×1000
ΔnP=(nx-(ny+nz)/2)×1000
更に、面配向度(ΔP)と縦配向度(ΔnP)とから、下記式にて、横配向度(横面配向係数ともいう;ΔnPv)を算出することができる。
ΔnPv=ΔP-ΔnP
ポリエステルフィルムは、積層フィルムのガスバリア性及び全光線透過率をより高める観点から、固有粘度(IV)が0.61~0.75dl/gであることが好ましい。
ポリエステルフィルムの固有粘度(IV)が大きいことは、ポリエステルの平均分子量が大きいか、または、低分子量体が少ないことを意味する。従って、ポリエステルフィルムに積層する無機薄膜を、蒸着等の高い熱エネルギーを持って堆積又は積層する無機薄膜の下地としては強固なものとなり易いことから、無機蒸着膜(例えば、シリカ蒸着膜)の成長を阻害しにくい。そのため、ポリエステルフィルムのIV値が0.61dl/g以上であれば、無機蒸着膜が十分成長し、より水蒸気バリア性の高い膜を形成し易い。
一方、フィルムのIV値が0.75dl/g以下であることで、ポリエステルの柔軟性を損ないにくいため、ポリエステルフィルムを製膜し易い。
当該固有粘度(IV)は、0.62~0.70dl/gがより好ましく、0.63~0.67dl/gが更に好ましい。
ポリエステルの重合度及び低分子量体の含有量は、ポリエステルフィルムの原料であるポリエステルの重合条件(重合温度、反応時間、触媒量、触媒種、添加剤等)を調整したり、固相重合法等のような原料の製造工程自体等を変更することにより、調整することができる。また、適当な原料を選択することによって製膜した後のポリエステルフィルムの固有粘度(IV)を調整することができる。
積層フィルムの基材層を構成するポリエステルフィルムは、単層であってもよいし、ポリエステルフィルムを2層以上積層した多層であってもよいが、ガスバリア性をより高める観点から、ポリエステルフィルムは少なくとも3層以上の積層構成であることが好ましい。
フィルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形した後、ミクロトームで切断し、フィルムの断面を透過型電子顕微鏡写真にて観察する。その断面のうちフィルム表面とほぼ平行に2本、明暗によって界面が観察される。その2本の界面とフィルム表面までの距離を10枚の写真から測定し、平均値を積層厚さとする。このようにして、多層ポリエステルフィルムの層構成を確認した後、露出したフィルム断面において、各ポリエステル層の中央部1箇所をNano Navi II/E-Sweep/nano-TA2(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製)を用いて、下記測定条件により測定を行い、N=3の平均値をもって、ポリエステル層の軟化点とする。なお、測定値に関しては、得られた測定チャートより、昇温カーブと降温カーブとの各々のカーブにおける接線を引き、接線の交点を求める。次に得られた接線の交点を通り、測定温度軸と垂直に交わる点をもって、軟化点とする。
昇温速度:5℃/sec
探針:サーマルカンチレバーAN2-200
測定温度範囲:常温(23℃)~300℃
測定雰囲気:大気圧
オリゴマー含有量が0.5重量%以下であるポリエステルを使用することで、また、当該ポリエステルの含有量が80重量%以上であることで、高い張力がかかる条件下でのスパッタリング工程及び、過酷な条件下での積層フィルムの使用に関して、所望する耐久性を確保し易い。
更に、ポリエステルフィルムは、表面オリゴマー量が3.0mg/m2以下であることが好ましい。表面オリゴマー量とは、ポリエステルフィルム表面に、4mlのDMF(ジメチルホルムアミド)を接触させ、3分間放置することで、DMFに析出するポリエステルオリゴマーの単位面積当たりの析出量(表面析出オリゴマー量)をいう。表面オリゴマー量の測定方法の詳細は後述する実施例の記載の通りである。
当該表面オリゴマー量は、基材層が2層以上のポリエステルフィルムで構成されている場合は、基材層全層となる多層ポリエステルフィルム表層の量であり、基材層が1層のポリエステルフィルムで構成されている場合は、基材層全層となる単層ポリエステルフィルム表層の量である。
ポリエステルフィルムの表面オリゴマー量は、少ないほど良く、2.3mg/m2以下であることがより好ましく、1.9mg/m2以下であることが更に好ましい。
既述のように、本発明においては、ポリエステルフィルムは3層以上の多層構成であることが望ましいが、その場合、ポリエステルフィルムは、1層以上の中間層と、中間層を挟む2つの表層で構成される。このとき、通常、多層ポリエステルフィルムは、中間層と表層とで適当な原料を組み合わせて二軸押出しで製膜するが、中間層のポリエステルフィルムが、例えば、3.0重量%を超えるオリゴマーを含有していても、表層のポリエステルフィルム中のオリゴマー量を3.0重量%以下の含有量とすることでポリエステルフィルム全体として、表面オリゴマー量を低減することができる。更には、ポリエステルフィルムの表面層にオリゴマー析出防止のコーティングを施すことによっても表面オリゴマーの低減が可能である。
ポリエステルフィルム中(基材層が2層以上のポリエステルフィルムで構成されている場合は、1層以上のポリエステルフィルム中)には、易滑性付与を主たる目的として、粒子が含有されていることが好ましい。ポリエステルフィルムに含有する粒子の種類は易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、具体例としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の粒子が挙げられる。また、特公昭59-5216号公報、特開昭59-217755号公報等に記載されている耐熱性有機粒子を用いてもよい。この他の耐熱性有機粒子の例として、熱硬化性尿素樹脂、熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等が挙げられる。さらに、ポリエステル製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。
粒子の平均粒径は、粒度分布測定装置を用いて測定される平均粒径d50として確認することができる。
基材層が2層以上のポリエステルフィルムで構成されている場合は、粒子は少なくとも何れかの層に含有されていればよい。基材層が3層以上のポリエステルフィルムで構成されている場合も同様であるが、少なくとも何れか一方の表層に粒子が含有されていることが好ましい。なお、当該粒子含有量は、基材層が2層以上のポリエステルフィルムで構成されている場合は、基材層全層となる多層ポリエステルフィルム中の量であり、基材層が1層のポリエステルフィルムで構成されている場合は、基材層全層となる単層ポリエステルフィルム中の量である。
ポリエステルフィルム中の粒子含有量が0.001重量%以上であることで、フィルムの易滑性が十分に得られ、一方、5重量%以下であることで、所望するバリア性能を損ねにくい。
また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって、ポリエステルフィルム中に粒子を添加することができる。
ポリエステルフィルム厚み(第2の基材フィルムにおいては二軸延伸フィルムとしての厚み)に関しては、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、用途上、9~250μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは12~125μmの範囲がよい。
ポリエステルフィルムの厚さは、フィルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形した後、ミクロトームで切断し、フィルムの断面を透過型電子顕微鏡写真にて観察することにより測定することができる。
ポリエステルフィルムが多層構成である場合、フィルム断面のうち、フィルム表面とほぼ平行に1本以上の界面が、明暗によって観察される。例えば、ポリエステルフィルムが3層構成であるときは、2本、明暗によって界面が観察される。その1本以上の界面とフィルム表面までの距離を10枚の写真から測定し、平均値を積層厚さとして求めることができる。
ポリエステルフィルム表面は、平均粗さ(Sa)、最大粗さ(St)、実効面積(S/A)等により確認することができ、凹凸が少ないことが好ましい。特に、ポリエステルフィルムは、実面積Sと、ポリエステルフィルム表面の投影面積Aとの比である実効面積(S/A)が1.001以下であることが好ましい。
実効面積(S/A)が上記範囲となるポリエステルフィルム表面は、何れの面であってもよいが、少なくともアンカーコート層又は無機薄膜と接する表面の実効面積(S/A)が上記範囲であることが好ましい。
実効面積(S/A)は、観察エリアの実面積(凹面と凸面を含む全面積)Sと、ポリエステルフィルムの観察エリアの投影面積Aとの比を表し、この値が大きいほどポリエステルフィルムの表面積が大きいということを意味する。
一方、ポリエステルフィルムに積層する無機薄膜を蒸着により積層する場合、無機薄膜(例えば、シリカ蒸着膜)はポリエステルフィルム全面に、均質に積層することから、ポリエステルフィルムの表面積が小さいほど、無機薄膜の実質厚みが厚くなり、水蒸気バリア性能が向上する。また、ポリエステルフィルム表面の凹凸が少ないほど、シリカ蒸着膜の厚薄の差が大きくなりにくいため、薄い箇所から水蒸気が透過してしまうことを抑制することができる。
かかる観点から、ポリエステルフィルムの実効面積(S/A)は、1.0009以下であることがより好ましい。
ポリエステルフィルムの表面粗さは、例えば、非接触表面計測システム「日立化成株式会社製Vertscan)」を用いることにより測定することができる。
次に本発明の積層フィルムを構成するポリエステルフィルムの製造方法について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。
まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および/または液体塗布密着法が好ましく採用される。
次に、得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。
第1の積層フィルムを構成するポリエステルフィルム(第1の基材フィルム)の製造に当たっては、一段目の延伸の延伸温度は、通常70~120℃、好ましくは80~110℃であり、一段目の延伸の延伸倍率は通常2.5~7.0倍、好ましくは3.0~6.0倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常70~170℃であり、延伸倍率は通常3.0~7.0倍、好ましくは4.0~6.0倍、さらに好ましくは5.0~6.0倍である。そして、引き続き180~270℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を2段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。
本発明においては特に、横延伸倍率を通常よりも高くすることにより、ポリエステルの分子結晶を横方向に強く配列させることが可能となる。その結果、ガスの通り道という観点から、フィルム厚み方向において、横方向に配列した分子結晶が障害物の役目をはたすため、ガスは分子結晶を避けて移動しなければならないと推察される。そのため、フィルム中のガスの移動経路が より長くなるため、単位時間あたりにフィルムを通過できるガス量としてとらえた場合、そのガス量が少なくなり、ガスバリア性が良好となるものと考えられる。
第1の本発明の積層フィルムにおいては、第1の基材フィルムと無機薄膜との密着性を向上させることを目的として、第1の基材フィルムと無機薄膜との間にアンカーコート層を設ける。
第2の本発明の積層フィルムにおいても、第2の基材フィルムと無機薄膜との密着性を向上させることを目的として、第2の基材フィルムと無機薄膜との間にアンカーコート層を設けることが好ましい。
アンカーコート層は、例えば、アンカーコート剤を基材フィルム表面に塗工することで形成することができる。
バインダー成分としては、具体的には、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂やエチレン-ビニルアルコール系樹脂等のビニルアルコール系樹脂、ビニルエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、イソシアネート基含有樹脂、カルボジイミド基含有樹脂、アルコキシル基含有樹脂、オキサゾリン基含有樹脂及びスチレン系樹脂等が挙げられる。これらバインダー成分は、1種単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
重合性不飽和単量体としては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ターシャリーブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート及びステアリル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル、またアクリル樹脂を形成した後に架橋性化合物と架橋させる観点から、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート及びフタル酸とプロピレングリコールとから得られるポリエステルジオールのモノ(メタ)アクリレート等水酸基を有する(メタ)アクリルモノマーや、アミノ基及びカルボキシル基等他の架橋性官能基を有する(メタ)アクリルモノマー並びに(メタ)アクリル酸等の酸性官能基を有する(メタ)アクリルモノマー等が挙げられる。
アンカーコート層に架橋構造を有するバインダー成分を含める観点から、アンカーコート剤は、イソシアネート系化合物等の硬化剤を含有することが好ましい。
上記イソシアネート系化合物の具体例として、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネートや、キシレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート及びナフタレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート等が挙げられる。ガスバリア性、あるいは基材フィルム及び無機薄膜との密着性の点から、イソシアネート基が2つ以上のポリイソシアネートが好ましく、より好ましくはイソシアネート基が3つ以上のポリイソシアネートである。
第1の本発明の積層フィルムは、第1の基材フィルムであるポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に、アンカーコート層と無機薄膜とをこの順に備える。
第2の本発明の積層フィルムは、第2の基材フィルムであるポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に無機薄膜を備える。第2の本発明の積層フィルムが、更にアンカーコート層を備える場合は、第2の基材フィルムの少なくとも一方の表面にアンカーコート層と無機薄膜とをこの順に備えることが好ましい。
無機薄膜を構成する無機物質としては、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、錫、ニッケル、チタン、又は、これらの酸化物、炭化物、窒化物、あるいは、これらの混合物が挙げられる。中でも、無機物質は、基材層であるポリエステルフィルムとの相互作用及び密着性の観点から、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化炭化珪素、酸化窒化炭化珪素、酸化アルミニウム、ダイアモンドライクカーボンであることが好ましい。特に、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化炭化珪素、酸化窒化炭化珪素、及び酸化アルミニウムは、高いガスバリア性が安定に維持できる点で好ましい。
無機薄膜は単層からなるもの、2層以上からなるもののいずれであってもよい。また、無機薄膜が2層以上からなる場合は、同一の層でも異なる層でもよい。
この保護樹脂層は、無機薄膜にバリア安定性、接着性、耐水性、耐水接着性、耐擦傷性、ガスバリア向上効果、光学調整層、上塗り剤との密着性、印刷適性、帯電防止性等を付与させるために形成される。
保護樹脂層は、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、イソシアネート系樹脂、オキサゾリン系樹脂、カルボジイミド系樹脂、アルコール性水酸基含有樹脂及びアイオノマー樹脂の中から選ばれる少なくとも1種を含む塗工液を、前記無機薄膜表面に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
第1の本発明の積層フィルムは、既述の特定の配向性を有するポリエステルフィルム(第1の基材フィルム)にアンカーコート層と無機薄膜を積層した構成であることで、優れたガスバリア性と高い全光線透過率を有する。第2の本発明の積層フィルムは、既述の特定の配向性を有するポリエステルフィルム(第2の基材フィルム)に無機薄膜を積層した構成であることで、優れたガスバリア性と高い全光線透過率を有する。
ガスバリア性としては、特に水蒸気バリア性に優れるものであるが、酸素バリア性にも優れるため、例えば、本発明の積層フィルムを食品包装用フィルムに用いた場合、食品の酸化劣化を抑制することができる。
本発明のガスバリア性積層体の水蒸気バリア性は、JIS Z0222「防湿包装容器の透湿度試験方法」、JIS Z0208「防湿包装材料の透湿度試験方法(カップ法)」の諸条件に準じて、水蒸気透過率を測定することにより、確認することができる。
また、本発明のガスバリア性積層体は、JIS K 7126 B法に準じて、例えば、酸素透過率測定装置(MOCON社製「OX-TRAN 2/21型酸素透過率測定装置」)により、温度25℃、相対湿度80%の条件下で、酸素透過率〔cc/(m2・24hr・atm)〕を測定することにより判断することができる。
ディスプレイ部材用積層フィルムの使用方法は特に制限されず、例えば、容器を覆うフィルムとすることで、容器に収納された食品等の製品の包装に用いることができ、製品の視認性を損ねずに、包装された製品の鮮度を保つことができる。
本発明の積層フィルムの製造方法は、特に制限されるものではなく、基材フィルムと無機薄膜とが積層されるように、また、第1の本発明の積層フィルムにおいては、更に、基材フィルムと無機薄膜との間にアンカーコート層が介在するように、各層を積層する。
具体的には、下記工程を有する製造方法であることが好ましい。
既述のように、アンカーコート層の積層は、例えば、アンカーコート剤を基材フィルム表面に塗工すればよい。また、無機薄膜の積層は、例えば、アンカーコート層上に、既述の無機物質を蒸着したり(蒸着法)、該無機物質を塗工すること(コーティング法)等により、実施することができる。
無機薄膜の積層は、例えば、基材フィルム上(アンカーコート層を備える場合は、アンカーコート層上)に、既述の無機物質を蒸着したり(蒸着法)、該無機物質を塗工すること(コーティング法)等により、実施することができる。
本発明のラミネート品は、被着体の少なくとも一方の表面に、本発明の積層フィルムが貼り合わされてなる。
本発明の積層フィルムは、優れたガスバリア性と高い全光線透過率を有するため、被着体に本発明の積層フィルムが直接貼り合わされることで、被着体の視認性を損ねずに、被着体の水蒸気による劣化、酸化劣化等を防ぐことができる。
被着体は特に制限されず、金属製品、樹脂製品、ガラス製品、食品、家具等、種々の製品が挙げられる。
ポリエステルフィルムを製造するためのポリエステル原料として、次のポリエステル(A)~(D)を製造した。
テレフタル酸ジメチル100重量部とエチレングリコール60重量部とを出発原料とし、触媒として酢酸マグネシウム・四水塩0.09重量部を反応器にとり、反応開始温度を150℃とし、メタノールの留去とともに徐々に反応温度を上昇させ、3時間後に230℃とした。4時間後、実質的にエステル交換反応を終了させた。この反応混合物にエチルアシッドフォスフェート0.04部を添加した後、三酸化アンチモン0.04部を加えて、4時間重縮合反応を行った。すなわち、温度を230℃から徐々に昇温し280℃とした。一方、圧力は常圧より徐々に減じ、最終的には0.3mmHgとした。反応開始後、反応槽の攪拌動力の変化により、固有粘度0.63に相当する時点で反応を停止し、窒素加圧下ポリマーを吐出させた。得られたポリエステル(A)の固有粘度は0.63dl/g、エステル環状三量体の含有量は0.97重量%であった。
ポリエステル(A)を、あらかじめ160℃で予備結晶化させた後、温度220℃の窒素雰囲気下で固相重合し、固有粘度0.85dl/g、エステル環状三量体の含有量が0.46重量%のポリエステル(B)を得た。
ポリエステルAの製造方法において、エチルアシッドフォスフェート0.04部を添加後、エチレングリコールに分散させた平均粒径(d50)が3.2μmのシリカ粒子を0.6部、三酸化アンチモン0.04部を加えて、固有粘度0.65に相当する時点で重縮合反応を停止した以外は、ポリエステルAの製造方法と同様の方法を用いてポリエステル(C)を得た。得られたポリエステル(C)は、固有粘度0.65dl/g、エステル環状三量体の含有量は0.89重量%であった。
ポリエステルAの製造方法において、固有粘度0.60に相当する時点で反応を停止する以外は同様に製造してポリエステル(D)を得た。得られたポリエステル(D)は、固有粘度0.60dl/g、エステル環状三量体の含有量は0.94重量%であった。
ポリエステル(C)の製造に用いたシリカ粒子の平均粒径(d50)と、ポリエステル(A)~(D)の固有粘度及びエステル環状三量体の含有量は、次のようにして求めた。
島津製作所製遠心沈降式粒度分布測定装置(SA-CP3型)を用いて測定した等価球形分布における積算体積分率50%の粒径を平均粒径d50とした。
ポリエステル(A)~(D)の固有粘度(dl/g)は、ポリエステル(A)~(D)に非相溶な成分を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlで当該ポリエステル1gを溶解させ、30℃で測定した。
ポリエステル(A)~(D)をそれぞれ約200mg秤量し、クロロホルム/HFIP(ヘキサフルオロ-2-イソプロパノル)の比率3:2の混合溶媒2mlに溶解させた。溶解後、クロロホルム20mlを追加した後、メタノール10mlを少しずつ加えた。沈殿物を濾過により除去し、さらに、沈殿物をクロロホルム/メタノールの比率2:1の混合溶媒で洗浄し、濾液・洗浄液を回収し、エバポレーターにより濃縮、その後、乾固させた。乾固物をDMF(ジメチルホルムアミド)25mlに溶解後、この溶液を液体クロマトグラフィー(株式会社島津製作所製「LC-7A」)に供給して、DMF中のエステル環状三量体量を求めた。
得られたエステル環状三量体量をクロロホルム/HFIP混合溶媒に溶解させたポリエステル原料量で割って、含有エステル環状三量体量(重量%)とした。DMF中のエステル環状三量体量は、標準試料ピーク面積と測定試料ピーク面積のピーク面積比より求めた(絶対検量線法)。
なお、液体クロマトグラフの条件は下記のとおりとした。
移動相A:アセトニトリル
移動相B:2%酢酸水溶液
カラム:三菱化学株式会社製「MCI GEL ODS 1HU」
カラム温度:40℃
流速:1ml/分
検出波長:254nm
〔ポリエステルフィルムF1の製造〕
ポリエステル(B)、(C)をそれぞれ90重量%、10重量%の割合でブレンドした原料を表層原料とし、ポリエステル(A)100重量%の原料を中間層の原料として、2台のベント付き押出機に供給し、290℃で溶融押出した後、静電印加密着法を用いて表面温度を40℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して無定形フィルムを得た。
このフィルムを85℃で縦方向に3.7倍延伸した。その後、フィルムをテンターに導き、100℃で横方向に5.2倍延伸し、230℃で熱処理した後に、横方向に2%の弛緩処理を行い、厚さ23μm(厚み構成比=3μm/17μm/3μm)のポリエステルフィルムF1を得た。
ポリエステルフィルムF1の製造において、表層原料及び中間層原料の押出量を変更し、2軸延伸後のポリエステルフィルムの厚さ50μm(厚み構成比=6μm/38μm/6μm)に調整した以外は同様にして、ポリエステルフィルムF2を得た。
ポリエステルフィルムF1の製造において、表層原料及び中間層原料の押出量を変更し、縦方向に4.3倍延伸、横方向に4.5倍延伸して、2軸延伸後のポリエステルフィルムの厚さ10μm(厚み構成比=2μm/6μm/2μm)に調整した以外は同様にして、ポリエステルフィルムF3を得た。
ポリエステル(D)、(C)をそれぞれ90重量%、10重量%の割合でブレンドした原料を表層原料とし、ポリエステル(A)100重量%の原料を中間層の原料として製造し、厚さ23μm(厚み構成比=3μm/17μm/3μm)のポリエステルフィルムF4を得た。
ポリエステル(B)、(C)をそれぞれ85重量%、15重量%の割合でブレンドした原料を表層原料とし、ポリエステル(A)100重量%の原料を中間層の原料として製造し、厚さ23μm(厚み構成比=3μm/17μm/3μm)のポリエステルフィルムF5を得た。
ポリエステル(A)、(C)をそれぞれ80重量%、20重量%の割合でブレンドした原料を表層原料とし、ポリエステル(A)100重量%の原料を中間層の原料として、2台のベント付き押出機に供給し、290℃で溶融押出した後、静電印加密着法を用いて表面温度を40℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して無定形フィルムを得た。
このフィルムを85℃で縦方向に3.0倍延伸した。その後、フィルムをテンターに導き、100℃で横方向に5.2倍延伸し、230℃で熱処理した後に、横方向に2%の弛緩処理を行い、厚さ12μm(厚み構成比=1μm/10μm/1μm)のポリエステルフィルムF101を得た。
ポリエステルフィルムF1の製造において、縦方向に3.2倍延伸、横方向に3.2倍延伸する以外は同様にして、2軸延伸ポリエステルフィルムを製造し、厚さ23μm(厚み構成比=3μm/17μm/3μm)のポリエステルフィルムF102を得た。
フィルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形した後、ミクロトームで切断し、フィルムの断面を透過型電子顕微鏡写真にて観察した。その断面のうちフィルム表面とほぼ平行に2本、明暗によって界面が観察される。その2本の界面とフィルム表面までの距離を10枚の写真から測定し、平均値を積層厚さとした。
飽和ポリエステル(東洋紡績株式会社製 バイロン300)とイソシアネート化合物(東ソー株式会社製コロネートL)を1:1重量比になるように配合し、アンカーコート剤を調製した。
〔実施例1〕
基材フィルムとして、ポリエステルフィルムF1上に前記アンカーコート剤を塗布乾燥して、厚さ100nmのアンカーコート層を形成した。次いで、真空蒸着装置を使用して1.33×10-3Pa(1×10-5Torr)の真空下でSiOを加熱蒸発させ、アンカーコート層表面に厚み50nmのSiOx(x=1.5)の金属酸化物薄膜(無機薄膜)が隣接する積層フィルムを得た。
基材フィルムとして、ポリエステルフィルムF2を用いた以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
基材フィルムとして、ポリエステルフィルムF3を用いた以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
基材フィルムとして、ポリエステルフィルムF4を用いた以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
基材フィルムとして、ポリエステルフィルムF5を用いた以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
基材フィルムとして、ポリエステルフィルムF101を用いた以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
基材フィルムとして、ポリエステルフィルムF102を用いた以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
〔フィルム表面の平均粗さ(Sa)、最大粗さ(St)、実効面積(S/A)〕
実施例及び比較例の積層フィルムの製造に用いたポリエステルフィルムについて、非接触表面計測システムを用いて、フィルム表面の平均粗さ(Sa)、最大粗さ(St)、実効面積(S/A)を計測した。
非接触表面計測システムは、直接位相検出干渉法、いわゆるマイケルソンの干渉を利用した2光束干渉法を用いた、非接触表面計測システム「日立化成社株式会製Vertscan)」を使用した。
実施例及び比較例の積層フィルムの製造に用いたポリエステルフィルムの固有粘度(IV)について、次のようにして測定した。フィルムIVは、各フィルムを粉砕して1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlで当該フィルム1gを溶解させ、30℃で測定した。
実施例及び比較例の積層フィルムの製造に用いたポリエステルフィルムの表面オリゴマー量は、次のようにして測定した。
まず、ポリエステルフィルムを空気中、180℃で10分間加熱した。その後、加熱した当該フィルムを、上部が開いた縦横10cm、高さ3cmの箱になるように、測定面(無機薄膜を積層する側の表面)を内面として箱形の形状を作成した。次いで、作成した箱の中にDMF(ジメチルホルムアミド)4mlを入れて3分間放置した後、DMFを回収し、液体クロマトグラフィー供給して、DMF中のオリゴマー量を求めた。
液体クロマトグラフィー:株式会社島津製作所製、LC-7A
移動相A:アセトニトリル
移動相B:2%酢酸水溶液
カラム:三菱化学株式会社製『MCI GEL ODS 1HU』
カラム温度:40℃
流速:1ml/分
検出波長:254nm
DMF中のエステル環状三量体は、標準試料ピーク面積と測定試料ピーク面積のピーク面積比より求めた(絶対検量線法)。なお、標準試料の作成は、予め分取したエステル環状三量体を正確に秤量し、正確に秤量したDMFに溶解し、作成した。
実施例及び比較例の積層フィルムの製造に用いたポリエステルフィルムについて、王子計測機器株式会社製マイクロ波方式の分子配向計(型式:MOA-6015)を用いて、MOR(Molecular Oriented Ratio)値を測定した。
実施例及び比較例の積層フィルムの製造に用いたポリエステルフィルムの面配向度(ΔP)及び縦配向度(ΔnP)は、次のようにして測定した。
JIS K 7142-1996 5.1(A法)により、ナトリウムD線を光源とし、アッベ屈折計により、ポリエステルフィルム長手方向の屈折率(nx)、幅方向の屈折率(ny)、及び厚み方向の屈折率(nz)を測定した。測定結果を下記式に当てはめることで、面配向度(面配向係数ともいう;ΔP)、縦配向度(縦面配向係数ともいう;ΔnP)及び横配向度(横配向係数ともいう;ΔnPv)を算出した。
ΔP=((nx+ny)/2-nz)×1000
ΔnP=(nx-(ny+nz)/2)×1000
ΔnPv=ΔP-ΔnP
実施例及び比較例の積層フィルムの水蒸気バリア性は、JIS Z0222「防湿包装容器の透湿度試験方法」、JIS Z0208「防湿包装材量の透湿度試験方法(カップ法)」の諸条件に準じ、次の手法で評価した。
厚さ60μmの無軸延伸ポリプロピレン(CPP)フィルム(東洋紡績(株)製「P1146」)の表面に、ウレタン系接着剤〔東洋モートン(株)製AD900とCAT-RT85を、D900:CAT-RT85=10:1.5(重量比)の割合で配合したもの〕を塗布し、次いで乾燥し、厚さ約3μmの接着剤層を形成した。
この接着剤層上に実施例及び比較例の積層フィルムの無機薄膜層側が接着剤層と隣接するようにラミネートし、水蒸気バリア性評価用の試料フィルムを得た。
透湿面積10.0cm×10.0cm角の各試料フィルムを2枚用い、吸湿剤として無水塩化カルシウム約20gを入れ四辺を封じた袋を作製し、その袋を温度40℃相対湿度90%の恒温恒湿装置に入れ、48時間以上間隔で重量増加がほぼ一定になる目安として14日間まで、重量測定(0.1mg単位)し、水蒸気透過率を下記式から算出した。
水蒸気透過率[g/m2/day]=(m/s)/t
m;試験期間最後2回の秤量間隔の増加重量(g)
s;透湿面積(m2)
t;試験期間最後2回の秤量間隔の時間(h)/24(h)
実施例及び比較例の積層フィルムの全光線透過率は、JIS K7105に準じて測定した。
また、実施例1~実施例5の積層フィルムは、面配向度が165以上であり、一方向の配向度が85以上である二軸延伸されたポリエステルフィルムに、無機薄膜を備えており、水蒸気透過率が0.060g/m2/dayよりも低く、水蒸気バリア性に優れると共に、全光線透過率はいずれも80%以上であり、高い全光線透過率を有することがわかった。
Claims (14)
- 面配向度が160~180であり、かつ縦配向度が60~80であり、かつ、表面オリゴマー(環状三量体)量が3.0mg/m2以下であるポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に、アンカーコート層と無機薄膜とをこの順に備える積層フィルム。
- 面配向度が160~180であり、縦配向度が60~80であるポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に、アンカーコート層と無機薄膜とをこの順に備え、該アンカーコート層の厚みが0.1~500nmであり、水蒸気透過率が0.060g/m2/dayよりも低い積層フィルム。
- 前記ポリエステルフィルムの表面オリゴマー(環状三量体)量が3.0mg/m2以下である請求項2に記載の積層フィルム。
- 面配向度が165~180であり、横配向度が85以上であり、かつ、表面オリゴマー(環状三量体)量が3.0mg/m2以下である二軸延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に、無機薄膜を備える積層フィルム。
- 面配向度が165~180であり、横配向度が85以上であるポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に、アンカーコート層と無機薄膜とをこの順に備え、該アンカーコート層の厚みが0.1~500nmであり、水蒸気透過率が0.060g/m2/dayよりも低い積層フィルム。
- 前記ポリエステルフィルムの表面オリゴマー(環状三量体)量が3.0mg/m2以下である請求項5に記載の積層フィルム。
- 前記ポリエステルフィルムと、前記無機薄膜との間にアンカーコート層を備える請求項4に記載の積層フィルム。
- 前記ポリエステルフィルムは、固有粘度(IV)が0.61~0.75dl/gである請求項1~7のいずれか1項に記載の積層フィルム。
- 前記ポリエステルフィルムは、実面積Sと、表面の投影面積Aとの比である実効面積(S/A)が1.001以下である請求項1~8のいずれか1項に記載の積層フィルム。
- 前記無機薄膜上に、保護樹脂層を備える請求項1~9のいずれか1項に記載の積層フィルム。
- ディスプレイ部材用である請求項1~10のいずれか1項に記載の積層フィルム。
- ポリエステルフィルムを、一段目に2.5~3.8倍の延伸倍率で延伸し、次いで、一段目の延伸方向と直交する方向に4.0~6.0倍の延伸倍率で延伸して二軸延伸ポリエステルフィルムを製造し、
該二軸延伸ポリエステルフィルムにアンカーコート層と無機薄膜とをこの順に積層する請求項1、2又は5に記載の積層フィルムの製造方法。 - ポリエステルフィルムを、一段目に2.5~3.8倍の延伸倍率で延伸し、次いで、一段目の延伸方向と直交する方向に4.0~6.0倍の延伸倍率で延伸して二軸延伸ポリエステルフィルムを製造し、
該二軸延伸ポリエステルフィルムに無機薄膜を積層する請求項4に記載の積層フィルムの製造方法。 - 被着体の少なくとも一方の表面に、請求項1~11のいずれか1項に記載の積層フィルムが貼り合わされたラミネート品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017084725 | 2017-04-21 | ||
JP2017084725 | 2017-04-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018183984A JP2018183984A (ja) | 2018-11-22 |
JP7275476B2 true JP7275476B2 (ja) | 2023-05-18 |
Family
ID=64356981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018073706A Active JP7275476B2 (ja) | 2017-04-21 | 2018-04-06 | 積層フィルム及びその製造方法、並びにラミネート品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7275476B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000103023A (ja) | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 透明蒸着用積層ポリエステルフィルム |
JP2009202390A (ja) | 2008-02-27 | 2009-09-10 | Toray Ind Inc | 包装用二軸配向ポリエステルフィルムおよびそれを用いた包装体 |
JP2015093412A (ja) | 2013-11-11 | 2015-05-18 | 三菱樹脂株式会社 | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4247847B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2009-04-02 | 東レ株式会社 | 透明蒸着用ポリエステルフィルム |
-
2018
- 2018-04-06 JP JP2018073706A patent/JP7275476B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000103023A (ja) | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 透明蒸着用積層ポリエステルフィルム |
JP2009202390A (ja) | 2008-02-27 | 2009-09-10 | Toray Ind Inc | 包装用二軸配向ポリエステルフィルムおよびそれを用いた包装体 |
JP2015093412A (ja) | 2013-11-11 | 2015-05-18 | 三菱樹脂株式会社 | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018183984A (ja) | 2018-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI535765B (zh) | 聚酯薄膜 | |
US8877343B2 (en) | Laminated polyester film | |
KR102612318B1 (ko) | 2축 배향 폴리에스테르 필름, 및 2축 배향 폴리에스테르 필름의 제조 방법 | |
US20120315499A1 (en) | Release film | |
WO2007094382A1 (ja) | 成形部材用ポリエステルフィルム | |
JP2009042653A (ja) | 偏光膜保護用ポリエステルフィルム | |
JPWO2018179726A1 (ja) | 二軸配向ポリエステルフィルム及びその製造方法 | |
CN106459444B (zh) | 聚酯薄膜及其制造方法,以及使用该聚酯薄膜的聚酯模制品及其制造方法 | |
JP5142421B2 (ja) | 透明蒸着用2軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム | |
TWI700307B (zh) | 二軸配向聚酯薄膜 | |
JP7275476B2 (ja) | 積層フィルム及びその製造方法、並びにラミネート品 | |
JP2013001022A (ja) | 光学用積層ポリエステフィルムロール | |
JP2012006985A (ja) | 積層ポリエステルフィルム | |
JP2016210066A (ja) | 積層ポリエステルフィルム | |
JP4216962B2 (ja) | 離型フィルム | |
JP4894108B2 (ja) | 透明蒸着用ポリエステルフィルム及び透明蒸着ポリエステルフィルム | |
JP6897149B2 (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP4703179B2 (ja) | 積層ポリエステルフィルム | |
JP6515445B2 (ja) | 表面保護フィルム用ポリエステルフィルムロールおよび導電性フィルム積層体 | |
JP7421867B2 (ja) | 導電積層体の製造方法 | |
JP7073882B2 (ja) | 積層フィルム | |
JP7375499B2 (ja) | 積層ポリエステルフィルム及びその製造方法 | |
JP6167628B2 (ja) | ガラス貼り合わせ用ポリエステルフィルム | |
JP2007111877A (ja) | 成形部材用二軸配向ポリエステルフィルム | |
WO2013136875A1 (ja) | 二軸配向ポリエステルフィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210330 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220111 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220308 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220512 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220809 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230417 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7275476 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |