JP7263658B2 - 青色光による暴露に際しての損傷からヒト皮膚を保護するための方法 - Google Patents
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Description
[実施形態1]
青色光に対する暴露に際しての損傷からヒト皮膚を保護するための方法であって、有効量のビタミンB 3 又はその誘導体及び有効量のビタミンB 6 又はその誘導体を含有する化粧品組成物を前記皮膚に塗布するステップを含む方法。
[実施形態2]
前記ビタミンB 3 又はその誘導体は、ナイアシンアミドであり、前記ビタミンB 6 又はその誘導体は、塩酸ピリドキシンである、実施形態1に記載の方法。
[実施形態3]
前記ビタミンB 3 又はその誘導体の有効量は、前記組成物の総重量に基づいて、0.5~10重量%の範囲で、好ましくは1~10重量%の範囲で、最も好ましくは1~5重量%の範囲で選択される、実施形態1~2のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態4]
前記ビタミンB 6 又はその誘導体の有効量は、前記組成物の総重量に基づいて、0.02~6重量%の範囲で、好ましくは0.05~4重量%の範囲で、最も好ましくは0.1~3重量%の範囲で選択される、実施形態1~3のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態5]
ナイアシンアミドの量は、塩酸ピリドキシンの量よりも多い、実施形態1~4のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態6]
前記損傷は、活性酸素種、活性窒素種、及び/又は活性カルボニル種の生成の結果である、実施形態1~5のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態7]
前記組成物は、少なくとも1つのUVフィルタ物質をさらに含む、実施形態1~6のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態8]
前記少なくとも1つのUVフィルタ物質は、ポリシリコーン-15、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、オクトクリレン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、ホモサレート、ビス-エチルヘキシロキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、二酸化チタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルフォナート、及びその混合物からなる群から選択される、実施形態7に記載の方法。
[実施形態9]
前記組成物は、スキンケア組成物である、実施形態1~8のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態10]
前記組成物は、O/W乳化剤の存在下において水性相中に分散した油性相を含むO/Wエマルションの形態をしている、実施形態1~9のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態11]
前記O/W乳化剤は、セチルリン酸カリウムである、実施形態10に記載の方法。
[実施形態12]
青色光に暴露された場合のヒトにおける活性酸素種の生成及び/又はカルボニル化タンパク質の形成を低下させるための方法であって、有効量のナイアシンアミド及び塩酸ピリドキシンを含有する化粧品組成物を皮膚に塗布するステップを含む方法。
[実施形態13]
前記化粧品組成物の総重量に基づいて、前記化粧品組成物中の前記ナイアシンアミドの有効量は、0.5~10重量%の範囲で選択され、塩酸ピリドキシンの量は、0.02~6重量%の範囲で選択される、実施形態1~12のいずれか1つに記載の方法。
[実施形態14]
電磁放射の副作用からのヒト皮膚の保護において使用するためのナイアシンアミド及び塩酸ピリドキシンの組み合わせ。
[実施形態15]
前記副作用は、活性酸素種の形成及び/又は光誘発性の酸化ストレスである、実施形態14に記載の使用。
以下の実施例は、本発明の組成物及び効果をさらに示すために提供される。これらの実施例は、例証にすぎず、本発明の範囲を限定するようには決して意図されない。
T.Rudolph et.al.(SOFW-Journal,140,3-2014)の論文に従って、ベータ-カロテン(DSM、β-カロテン結晶、ロット番号WC01503161)を、0.5%(w/w)の濃度までo-キシレン中に溶解し、シリンジによりPMMAプレート(Schoenberg、サンドブラスト、粗度2μm)に均一に(homogenously)塗布した。10分間の乾燥(室温、暗中)の後に、表2に概説される製剤を塗布し(2μLcm-2)、指で広げた。1つの製剤当たり、3回の反復実験を実施し、照射した。プラセボクリーム(活性剤なし)による対応する3回の反復実験を調製し、これらもまた照射した。照射は、3MEDの照射線量により500Wm-2の総放射照度でAtlas SunTester XLS+において行った。PMMAプレートの上に、UVカットオフフィルタを置いた。このUVカットオフフィルタは、Schott GG400-3とする。
保護%=([(吸光度サンプル)*100]/[吸光度プラセボ]-100)
(プラセボ(最大の分解)の照射後の452nmでの吸光度を0%に設定した)。
Claims (14)
- 青色光に対する暴露に際しての損傷からヒト皮膚を保護するための方法であって、有効量のナイアシンアミド及び有効量の塩酸ピリドキシンを含有する化粧品組成物を前記皮膚に塗布するステップを含む方法。
- ナイアシンアミドの有効量は、前記組成物の総重量に基づいて、0.5~10重量%の範囲で選択される、請求項1に記載の方法。
- 塩酸ピリドキシンの有効量は、前記組成物の総重量に基づいて、0.02~6重量%の範囲で選択される、請求項1又は2に記載の方法。
- ナイアシンアミドの量は、塩酸ピリドキシンの量よりも多い、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記損傷は、活性酸素種、活性窒素種、及び/又は活性カルボニル種の生成の結果である、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記組成物は、少なくとも1つのUVフィルタ物質をさらに含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのUVフィルタ物質は、ポリシリコーン-15、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、オクトクリレン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、ホモサレート、ビス-エチルヘキシロキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、二酸化チタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルフォナート、及びその混合物からなる群から選択される、請求項6に記載の方法。
- 前記組成物は、スキンケア組成物である、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記組成物は、O/W乳化剤の存在下において水性相中に分散した油性相を含むO/Wエマルションの形態をしている、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記O/W乳化剤は、セチルリン酸カリウムである、請求項9に記載の方法。
- 青色光に暴露された場合のヒトにおける活性酸素種の生成及び/又はカルボニル化タンパク質の形成を低下させるための方法であって、有効量のナイアシンアミド及び塩酸ピリドキシンを含有する化粧品組成物を皮膚に塗布するステップを含む方法。
- 前記化粧品組成物の総重量に基づいて、前記化粧品組成物中の前記ナイアシンアミドの有効量は、0.5~10重量%の範囲で選択され、塩酸ピリドキシンの量は、0.02~6重量%の範囲で選択される、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。
- ナイアシンアミド及び塩酸ピリドキシンの組み合わせを含む、青色光の悪影響からヒト皮膚を保護するための組成物。
- 前記悪影響は、活性酸素種の形成及び/又は光誘発性の酸化ストレスである、請求項13に記載の組成物。
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