JP7257901B2 - 光学フィルム - Google Patents
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Description
[1]ポリアミドイミド樹脂を含んでなる光学フィルムであって、
式(1)
ΔHz<0.5 (1)
[式(1)中、ΔHzはHza-Hzbを表し、Hzaは室温において屈曲半径1mmで1回折り曲げて平面状に戻すマンドレル試験(JIS K 5600-5-1:1999に準拠)後の光学フィルムのヘイズ(%)を表し、Hzbは該マンドレル試験前の光学フィルムのヘイズ(%)を表す]
の関係を満たす、光学フィルム。
[2]前記ポリアミドイミド樹脂は、ジカルボン酸化合物由来の構成単位、テトラカルボン酸化合物由来の構成単位、及びジアミン化合物由来の構成単位を含む樹脂であり、さらに平均一次粒子径が100nm以下のシリカ粒子を含む、[1]に記載の光学フィルム。
[3]前記シリカ粒子の平均一次粒子径は80nm以下である、[2]に記載の光学フィルム。
[4]前記ポリアミドイミド樹脂を構成するジカルボン酸化合物由来の構成単位は、式(I)
で表される化合物由来の構成単位を含み、
式(2)
0<RSi≦32+2/3×R(I) (2)
[式(2)中、RSiは光学フィルムの質量に対するシリカ粒子の含有量(質量%)を表し、R(I)はポリアミドイミド樹脂を構成する全構成単位の総モル数に対する式(I)で表される化合物由来の構成単位の含有量(モル%)を表す]
の関係を満たす、[2]又は[3]に記載の光学フィルム。
[5]前記式(2)は、5≦RSi≦50である、[4]に記載の光学フィルム。
[6]前記ポリアミドイミド樹脂を構成するテトラカルボン酸化合物由来の構成単位は、式(II)
で表される化合物由来の構成単位を含み、及び前記ポリアミドイミド樹脂を構成するジアミン化合物由来の構成単位は、式(III)
で表される化合物由来の構成単位を含む、[2]~[5]のいずれかに記載の光学フィルム。
[7]ポリアミドイミド樹脂を構成するジカルボン酸化合物由来の構成単位は、式(IV)
で表される化合物由来の構成単位を含む、[2]~[6]のいずれかに記載の光学フィルム。
本明細書においてポリアミドイミド樹脂とは、イミド基を含む繰り返し構造単位とアミド基を含む繰り返し構造単位の両方を含有する重合体を表す。ポリアミドイミド樹脂は、ジカルボン酸化合物、テトラカルボン酸化合物、必要に応じてトリカルボン酸化合物を含むカルボン酸化合物と、ジアミン化合物とが共重合された樹脂であることが好ましい。そのため、本発明のポリアミドイミド樹脂は、ジカルボン酸化合物由来の構成単位、テトラカルボン酸化合物由来の構成単位、及び必要に応じてトリカルボン酸化合物由来の構成単位を含むカルボン酸化合物由来の構成単位とジアミン化合物由来の構成単位とを含む。なお、本明細書において、「化合物由来の構成単位」を単に、「単位」と称する場合がある。例えば、ジカルボン酸「化合物由来の構成単位」をジカルボン酸「単位」と称し、テトラカルボン酸「化合物由来の構成単位」をテトラカルボン酸「単位」と称し、ジアミン「化合物由来の構成単位」をジアミン「単位」と称する場合などがある。
で表される化合物由来の構成単位(ジカルボン酸化合物(I)由来の構成単位と称する場合がある)を含むことが好ましい。
で表される化合物由来の構成単位(テトラカルボン酸化合物(II)由来の構成単位と称する場合がある)を含むことが好ましく、ポリアミドイミド樹脂を構成するジアミン化合物由来の構成単位は、式(III)
で表される化合物由来の構成単位(ジアミン化合物(III)由来の構成単位と称する場合がある)を含むことが好ましい。ここで、ポリアミドイミド樹脂において、ジカルボン酸化合物(I)由来の構成単位は、ジカルボン酸化合物(I)とジアミン化合物との反応(重縮合)により形成されたアミド基を介して、ジアミン化合物由来の構成単位と結合し得る。テトラカルボン酸化合物(II)由来の構成単位は、テトラカルボン酸化合物(II)とジアミン化合物との反応(重縮合)により形成されたイミド基を介して、ジアミン化合物由来の構成単位と結合し得る。ジアミン化合物(III)由来の構成単位は、ジアミン化合物(III)とジカルボン酸、トリカルボン酸又はテトラカルボン酸との反応(重縮合)により形成されたアミド基又はイミド基を介して、ジカルボン酸化合物由来の構成単位、トリカルボン酸化合物由来の構成単位又はテトラカルボン酸化合物由来の構成単位と結合し得る。
で表される化合物由来の構成単位(ジカルボン酸化合物(IV)由来の構成単位と称する場合がある)を含むことが好ましい。
*は結合手を表し、
W1は、単結合、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-Ar-、-SO2-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2-Ar-、-Ar-C(CH3)2-Ar-又は-Ar-SO2-Ar-を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。得られる光学フィルムの弾性率を向上しやすい観点から、式(VI)や式(VII)において、YやY1は、それぞれ式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましい。また、W1は、光学フィルムの黄色度を抑制しやすい観点から、それぞれ独立して、単結合、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-又は-C(CF3)2-であることが好ましく、単結合、-O-、-CH2-、-C(CH3)2-又は-C(CF3)2-であることがより好ましく、-C(CH3)2-又は-C(CF3)2-であることがさらに好ましい。
これらの中でも、好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組み合わせて使用できる。
V1、V2及びV3は、それぞれ独立して、単結合、-O-、-S-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-又は-CO-を表す。
1つの例は、V1及びV3が単結合、-O-又は-S-であり、かつ、V2が-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-又は-SO2-である。V1とV2との各環に対する結合位置、及び、V2とV3との各環に対する結合位置は、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位であることが好ましく、パラ位であることがより好ましい。また、V1、V2及びV3は、ポリアミドイミド樹脂を含んでなる光学フィルムの弾性率を向上しやすい観点から、それぞれ独立して、単結合、-O-又は-S-であることが好ましく、単結合又は-O-であることがより好ましい。
本発明の光学フィルムは、シリカ粒子を含んでいてよい。シリカ粒子の平均一次粒子径は、好ましくは10nm以上、より好ましくは15nm以上、さらに好ましくは20nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは80nm以下、さらに好ましくは60nm以下、特に好ましくは40nm以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、光学フィルムの透明性を向上できるとともに、耐屈曲性を向上することもできる。また、シリカ粒子の平均一次粒子径が上記の上限以下であると、光学フィルムの厚みが比較的厚くても、ヘイズ値が低減されやすい。特に、シリカ粒子の平均一次粒子径が好ましくは80nm以下、より好ましくは60nm以下であると、例えば光学フィルムの厚みが30μm以上であっても、低いヘイズ値、好ましくは1.0%以下、より好ましくは0.8%以下のヘイズ値(Hzbに対応する)を示すことができる。なお、本発明において、平均一次粒子径は、BET法により測定できる。
本発明の光学フィルムは、前記ポリアミドイミド樹脂を含んでなり、式(1)
ΔHz<0.5 (1)
[式(1)中、ΔHzはHza-Hzbを表し、Hzaは、室温において屈曲半径1mmで1回折り曲げて平面状に戻すマンドレル試験(JIS K 5600-5-1:1999に準拠)後の光学フィルムのヘイズ(%)を表し、Hzbは該マンドレル試験前の光学フィルムのヘイズ(%)を表す]
の関係を満たす。本発明の光学フィルムは、式(1)の関係を満たすため、優れた耐屈曲性を有するとともに、高温・高湿下での光学特性の安定性に優れる。また、本発明の光学フィルムは、ヘイズ等が低く、透明性にも優れている。すなわち、本発明の光学フィルムは、光学フィルムを連続で折り曲げて戻すことを繰り返しても、光学フィルムにキズ、割れ、白濁等が生じにくく、透明性等の優れた光学特性を維持することができる。しかも、高温高湿下、例えば温度85℃・相対湿度85%の環境下で、光学フィルムを折り曲げた状態で保管しても、光学フィルムにキズ、割れ、白濁等が生じにくく、透明性等の優れた光学特性を維持することができる。そのため、本発明の光学フィルムは、画像表示装置の部材、特にフレキシブルディスプレイの前面板(ウィンドウフィルム)などに用いることができる。フレキシブルディスプレイの前面板(ウィンドウフィルム)に用いるには、繰り返し使用する際の耐久性の観点から、温度85℃・相対湿度85%の環境下に24時間保管前後の上記ΔHz’が、0.4未満、好ましくは0.3以下、より好ましくは0.2以下であるとよい。なお、ΔHz’は実施例に記載の方法により測定し、算出することができる。
画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブルディスプレイとしては、フレキシブル特性を有する画像表示装置、例えばテレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びウェアラブルデバイス等が挙げられる。
0<RSi≦32+2/3×R(I) (2)
[式(2)中、RSiは光学フィルムの質量に対するシリカ粒子の含有量(質量%)を表し、R(I)はポリアミドイミド樹脂を構成する全構成単位の総モル数に対する式(I)で表される化合物由来の構成単位の含有量(モル%)を表す]
の関係を満たすことが好ましい。
Tにおける炭素数1~5のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、2-メチル-ブトキシ基、3-メチルブトキシ基、2-エチル-プロポキシ基等が挙げられる。
Tは、好ましくは水素原子、フッ素原子、塩素原子又はメチル基であり、より好ましくは水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。
光学フィルムの弾性率が上記範囲であると、光学フィルムの耐屈曲性が向上されやすい。
なお、弾性率は、例えば(株)島津製作所製オートグラフAG-ISを用いて、10mm幅の試験片をチャック間距離500mm、引張速度20mm/minの条件でS-S曲線を測定し、その傾きから測定できる。
(a)ポリアミドイミド樹脂及びシリカ粒子を含む液(ポリアミドイミドワニスと称する場合がある)を調製する工程(ポリアミドイミドワニス調製工程)、
(b)ポリアミドイミドワニスを基材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び(c)塗布された液(塗膜)を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を含む方法によって製造することができる。
第三級アミンとしては、前述の芳香族アミンや脂肪族アミンなどが挙げられる。脱水剤としては、無水酢酸やプロピオン酸無水物、イソ酪酸無水物、ピバル酸無水物、酪酸無水物、イソ吉草酸無水物などが挙げられる。このポリアミドイミド樹脂混合液に貧溶媒を加えて再沈殿法によりポリアミドイミド樹脂を析出させ、乾燥し沈殿物を取り出す。必要に応じて沈殿物をメタノール等の溶媒で洗浄して乾燥させ、ポリアミドイミド樹脂を得る。次いで、ポリアミドイミド樹脂を溶剤に溶解し、前記シリカ粒子及び必要に応じて前記紫外線吸収剤や前記他の添加剤を添加して撹拌することにより、ポリアミドイミドワニスを調製する。なお、シリカ粒子を含むシリカゾルの分散媒を、ポリアミドイミド樹脂が溶解可能な溶剤、例えば下記のポリアミドイミドワニスの調製に用いられる溶剤と置換したシリカゾルをポリアミドイミド樹脂に添加してもよい。
さらに、本発明の光学フィルムを表示装置への実装に供するにあたり、光学フィルムの輸送時に該フィルムの汚染等を防ぐために、該フィルムの表面に保護フィルムを貼合することができる。
実施例及び比較例で得られた光学フィルムを、ダンベルカッターを用いて68mm×28mmの大きさにカットし、ヘイズコンピューター(スガ試験機(株)製、「HGM-2DP」)を用いて、マンドレル試験前の光学フィルムのヘイズHzb(%)を測定した。
その後、以下のようなマンドレル試験(JIS K 5600-5-1:1999に準拠)を行い、Hza(%)を測定した。まず、室温(25℃)において、屈曲半径1mmの円筒形のマンドレルに沿って、光学フィルムのヘイズHzb(%)を測定した箇所を均等に折り曲げた。その直後(1~2秒後)、折り曲げた光学フィルムを平面状に戻し、該平面状の光学フィルムの折り曲げてあった箇所のヘイズHza(%)を測定した。測定結果から、ΔHz(=Hza-Hzb)を算出し、以下のように評価した。
○…ΔHz<0.5
×…ΔHz≧0.5
実施例及び比較例で得られた光学フィルムを、ダンベルカッターを用いて68mm×28mmの大きさにカットし、ヘイズコンピューター(スガ試験機(株)製、「HGM-2DP」)を用いて、得られた光学フィルムのヘイズHzd(%)を測定した。その後、以下のような耐久試験を行い、試験後のHzc(%)を測定した。まず、恒温恒湿環境耐久試験機(ユアサシステム機器(株)製、「CL09-type01D01-FSC90」)に、ヘイズHzd(%)を測定した箇所を屈曲半径1mmで折り曲げた光学フィルムを投入し、屈曲半径1mm(折り曲げられた光学フィルムの両端は平行になるように保持)、温度85℃・相対湿度85%の環境下で、24時間該光学フィルムを保管した。その後、折り曲げた光学フィルムを平面状に戻し、30℃相対湿度50%環境下で30分間定置した。該平面状の光学フィルムの折り曲げてあった箇所のヘイズHzc(%)を測定した。測定結果から、ΔHz’(=Hzc-Hzd)を算出し、以下のように評価した。
○…ΔHz’<0.4
×…ΔHz’≧0.4
実施例及び比較例で得られた光学フィルムを、ダンベルカッターを用いて10mm×100mmの大きさにカットした。カットしたフィルムをMIT耐折疲労試験機(東洋精機製作所(株)製「MIT-DA」 形式:0530)本体にセットして、試験速度175cpm、折り曲げ角度135°、加重750g、折り曲げクランプのR 1.0mmの条件で、裏表両方向への折り曲げ試験を実施し、各フィルムの耐屈曲回数(破断せずに折り曲げ可能な回数)を測定した。以下のように評価した。
○…耐屈曲回数が1万回以上であり良好。
×…耐屈曲回数が1万回未満であり、不良。
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定
・前処理方法
実施例及び比較例で得られたポリアミドイミド樹脂にDMF溶離液(10mmol臭化リチウム溶液)を濃度2mg/mLとなるように加え、80℃にて30分間攪拌しながら加熱し、冷却後、0.45μmメンブランフィルターでろ過したものを測定溶液とした。
・測定条件
カラム:TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0mm I.D.×150mm×3本)
溶離液:DMF(10mMの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/min.
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
実施例及び比較例で得られた光学フィルムを、ABSデジマチックインジケーター((株)ミツトヨ製、「ID-C112BS」)を用いて、光学フィルムの厚みを測定した。
ゾル-ゲル法により作製されたBET径(BET法で測定された平均一次粒子径)が27nmのアモルファスシリカゾルを原料とし、溶媒置換により、γ-ブチロラクトン(以下、GBLと表記することもある)置換シリカゾルを調製した。得られたゾルを目開き10μmのメンブレンフィルターでろ過し、GBL置換シリカゾルを得た。得られたGBL置換シリカゾルは、シリカ成分(無機粒子)が30質量%であった。
1.合成例1
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMB)65g(202.97mmol)及びN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)834.69gを加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)27.09g(60.98mmol)を添加し、室温で3時間撹拌した。その後、4,4’-オキシビス(ベンゾイルクロリド)(OBBC)12.00g(40.66mmol)、次いでテレフタロイルクロリド(TPC)20.63g(101.64mmol)をフラスコに加え、室温で1時間撹拌した。次いで、フラスコに4-メチルピリジン6.63g(71.15mmol)と無水酢酸18.68g(182.95mmol)とを加え、室温で30分間撹拌後、オイルバスを用いて70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、100℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(TPC/6FDA/OBBC/TFMB=50/30/20/100)を得た。ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量(Mw)は310,000であった。
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、TFMB40g(124.91mmol)及びDMAc682.51gを加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに6FDA16.78g(37.77mmol)を添加し、室温で3時間撹拌した。その後、OBBC3.72g(12.59mmol)、次いでTPC15.34g(75.55mmol)をフラスコに加え、室温で1時間撹拌した。次いで、フラスコに4-メチルピリジン8.21g(88.14mmol)と無水酢酸15.43g(151.10mmol)とを加え、室温で30分間撹拌後、オイルバスを用いて70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、100℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(TPC/6FDA/OBBC/TFMB=60/30/10/100)を得た。ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量(Mw)は400,000であった。
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、TFMB53.05g(165.66mmol)及びDMAc670.91gを加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに、6FDA22.11g(49.77mmol)、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)4.88g(16.59mmol)を添加し、次いで、TPC20.21g(99.54mmol)を添加し、室温で1時間撹拌した。次いで、フラスコにピリジン10.53g(133.08mmol)と無水酢酸13.77g(134.83mmol)とを加え、室温で30分間撹拌後、オイルバスを用いて70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、100℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミドを得た。ポリアミドイミドの重量平均分子量(Mw)は、190,000であった。
窒素雰囲気下、溶媒トラップ及びフィルターを取り付けた真空ポンプが接続された反応容器に、1.25gのイソキノリンを投入した。次に、反応容器にGBL375.00g、及びTFMB104.12gを投入し、混合物を撹拌して溶解させた。さらに、6FDA145.88gを反応容器に加えた後、混合物を撹拌しつつオイルバスで昇温を開始した。加えたTFMBと6FDAとのモル比は1.00:0.99であり、混合物中のモノマー濃度は40質量%であった。反応容器の内温が80℃に到達したところで650mmHgまで減圧し、続けて内温180℃まで昇温した。内温が180℃に到達した後、さらに4時間加熱撹拌を行った。その後、大気圧まで復圧し、内温を155℃まで冷却し、ポリイミド溶液を得た。155℃にてGBLを加えてポリイミドの固形分が24質量%である均一溶液を調製し、その後、反応容器から均一溶液であるポリイミドワニス(1)を取り出した。得られたポリイミドワニス中のポリイミドについて、GPC測定を行ったところ、重量平均分子量(Mw)は360,000であった。
1.実施例1~4
合成例1で得られたポリアミドイミド樹脂(TPC/6FDA/OBBC/TFMB=50/30/20/100)をGBLで希釈し、GBL置換シリカゾルを加えて十分に混合することで、表1に記載の組成である樹脂/シリカ粒子混合ワニスを得た。その際、樹脂とシリカ粒子の濃度が8.0~15.0質量%となるように混合ワニスを調製した。得られたポリアミドイミドワニスを目開き10μmのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の膜厚が55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、50μmの厚みを有するポリアミドイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
合成例1で得られたポリアミドイミド樹脂(TPC/6FDA/OBBC/TFMB=50/30/20/100)を、合成例2で得られたポリアミドイミド樹脂(TPC/6FDA/OBBC/TFMB=60/30/10/100)に変更したこと以外は、実施例1~4と同様に、シリカ粒子を含むポリアミドイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
合成例1で得られたポリアミドイミド樹脂を、合成例3で得られたポリアミドイミド樹脂(TPC/6FDA/BPDA/TFMB=60/30/10/100)に変更したこと以外は、実施例2と同様に、50μmの厚みを有するポリアミドイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
シリカ粒子の平均一次粒子径を20nmに変更したこと以外は、実施例6と同様に、50μmの厚みを有するポリアミドイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
ポリアミドイミドフィルム(光学フィルム)に対するシリカ粒子の含有量RSiを10質量%とし、シリカ粒子の平均一次粒子径を83nmに変更したこと以外は、実施例5と同様に、50μmの厚みを有するポリアミドイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
合成例3で得られたポリアミドイミド樹脂(TPC/6FDA/BPDA/TFMB=60/30/10/100)をDMAcで希釈して濃度22質量%のポリアミドイミドワニスを調製した。得られたポリアミドイミドワニスを目開き10μmのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の膜厚が55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、50μmの厚みを有するポリアミドイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
合成例4で得られたポリイミド樹脂(6FDA/TFMB=100/100)をGBL/DMAc=10/90比で希釈して濃度15.7質量%のポリイミドワニスを調製した。得られたポリイミドワニスを目開き10μmのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の膜厚が55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、50μmの厚みを有するポリイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
合成例4で得られたポリイミド樹脂(6FDA/TFMB=100/100)をGBLで希釈し、GBL置換シリカゾルを加え十分に混合することで樹脂/シリカ粒子混合ワニスを得た。その際、樹脂とシリカ粒子の濃度が15.0質量%となるように混合ワニスを調製した。得られたポリイミドワニスを目開き10μmのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の膜厚が55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、50μmの厚みを有するポリイミドフィルム(光学フィルム)を得た。
Claims (8)
- ポリアミドイミド樹脂を含んでなる光学フィルムであって、
式(1)
ΔHz<0.5 (1)
[式(1)中、ΔHzはHza-Hzbを表し、Hzaは室温において屈曲半径1mmで1回折り曲げて平面状に戻すマンドレル試験(JIS K 5600-5-1:1999に準拠)後の光学フィルムのヘイズ(%)を表し、Hzbは該マンドレル試験前の光学フィルムのヘイズ(%)を表す]
の関係を満たし、該ポリアミドイミド樹脂は、ジカルボン酸化合物由来の構成単位、テトラカルボン酸化合物由来の構成単位、及びジアミン化合物由来の構成単位を含む樹脂であり、該ジカルボン酸化合物由来の構成単位は、式(I)
で表される化合物由来の構成単位を含み、該ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量は210,000以上500,000以下である、光学フィルム。 - 式(1)におけるHzbは1.0%以下である、請求項1に記載の光学フィルム。
- 平均一次粒子径が100nm以下のシリカ粒子をさらに含む、請求項1又は2に記載の光学フィルム。
- 前記シリカ粒子の平均一次粒子径が80nm以下である、請求項3に記載の光学フィルム。
- 式(2)
0<RSi≦32+2/3×R(I) (2)
[式(2)中、RSiは光学フィルムの質量に対するシリカ粒子の含有量(質量%)を表し、R(I)はポリアミドイミド樹脂を構成する全構成単位の総モル数に対する式(I)で表される化合物由来の構成単位の含有量(モル%)を表す]
の関係を満たす、請求項3又は4に記載の光学フィルム。 - 前記式(2)は、5≦RSi≦50である、請求項5に記載の光学フィルム。
- 前記ポリアミドイミド樹脂を構成するテトラカルボン酸化合物由来の構成単位は、式(II)
で表される化合物由来の構成単位を含み、及び前記ポリアミドイミド樹脂を構成するジアミン化合物由来の構成単位は、式(III)
で表される化合物由来の構成単位を含む、請求項1~6のいずれかに記載の光学フィルム。 - ポリアミドイミド樹脂を構成するジカルボン酸化合物由来の構成単位は、式(IV)
で表される化合物由来の構成単位を含む、請求項1~7のいずれかに記載の光学フィルム。
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