JP7246827B2 - 自己診断機能を備える加工装置 - Google Patents

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Description

本発明は、自己診断機能を備え変化の有無を自ら診断できる加工装置に関する。
シリコンやサファイア等からなる被加工物から半導体デバイスや光デバイスを含むデバイスチップを形成する工程では、様々な加工装置が使用される。例えば、被加工物をデバイス毎に分割する切削装置や、レーザ加工するレーザ加工装置、該被加工物を研削して所定の厚みに薄化する研削装置等が使用される。
これらの加工装置は、被加工物を保持する保持テーブルと、被加工物を加工する加工ユニットと、を備える。そして、モータ等により保持テーブル及び加工ユニットを回転させる機構や、モータ等によりボールねじを回転させることで保持テーブル及び加工ユニットが固定されたスライダを移動させる機構が知られている(特許文献1及び特許文献2参照)。
加工装置を長年使用すると、該加工装置の各構成要素において損耗が徐々に進行する。例えば、ナットに緩みが生じる、または、ボールねじの溝が深くなる等の変化が生じる。これらの変化により保持テーブル及び加工ユニット等の回転や移動の様子にも変化が生じ、加工装置における加工において所定の結果が得られなくなる場合がある。
例えば、保持テーブルの加工送りに使用されるボールねじの溝が削れて深くなると、保持テーブルを載せたスライダが比較的軽い力で動くようになり、保持テーブルが移動しやすくなる。加工装置では、保持テーブルの過剰な移動を抑制するためにモータの出力が適宜制御されるが、軽い力でスライダが動くようになると、オーバーシュートが発生しやすく、位置を制御する際にオーバーシュートした分を逆方向に移動させる制御が繰り返され、保持テーブルが移動しながら前後方向に振動してしまう場合がある。
特開昭62-173147号公報 特開2012-161861号公報
このような加工装置の各構成要素の損耗等の変化に起因する問題が生じると、加工結果に直接的に影響が及ぶため、加工装置の各構成要素の変化の傾向を検知し、問題が発生する前の段階で対策を施したいという課題がある。
しかしながら、各構成要素の変化の傾向を検知するのは、非常に能力の高い一部の限られた作業者を除き容易には実施できない。そのため、変化の程度が加工結果に影響を及ぼすような許容されない大きさとなるまで対策を実施できない場合が多いのが実情である。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、各構成要素の変化の有無を判定できる自己診断機能を備える加工装置を提供することである。
本発明の一態様によれば、被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された被加工物を加工する加工ユニットと、を備える加工装置であって、該加工装置の各構成要素を制御する制御ユニットと、該加工ユニットによる加工が行われていない状態で加工装置の状態を診断する自己診断ユニットと、を備え、該自己診断ユニットは、該加工装置に所定範囲の振動数の振動を付与する振動源と、該振動源により発せられ該加工装置中を伝播した振動を観測し、振動波形を取得する振動センサと、を備え、該自己診断ユニットは、さらに、該制御ユニット中に、該加工装置の該各構成要素が正常な状態である際に、該加工装置中を伝播する振動が該振動センサで観測されることで取得された振動波形から該振動の周波数特性を算出し、該加工装置の各構成要素に共振が生じる振動数を固有振動数として記録する固有振動数記録部と、該振動センサが取得した振動波形から算出される該振動の周波数特性を蓄積する周波数特性記憶部と、該振動の周波数特性に含まれる振動ピークの振動数と、該振動ピークが帰属する該構成要素の該固有振動数記録部が記録する該固有振動数と、の差が所定の範囲を超える場合、該振動ピークが帰属する該構成要素に変化があると判定する判定部と、を備え、該制御ユニットには、該固有振動数記録部が該固有振動数を記録する際の該振動波形の取得時の該加工装置の該各構成要素の状態に関する情報が記憶され、該制御ユニットは、該加工装置の該稼働後に該周波数特性記憶部が該周波数特性を蓄積するとき該加工装置の該各構成要素の状態に関する該情報を基に該各構成要素を制御してから該振動源に振動を生じさせることを特徴とする自己診断機能を備える加工装置が提供される。
好ましくは、該振動源は、サーボモータを備えるアクチュエータであり、該サーボモータの回転の反転を繰り返して該所定範囲の振動数の振動を発生させる。さらに、好ましくは、該サーボモータは、該保持テーブル又は該加工ユニットを移動させるボールねじ、又は、該保持テーブルを回転させる。
また、好ましくは、該振動センサは、加速度センサである。
本発明の一態様に係る加工装置は、自己診断ユニットを備える。該自己診断ユニットは、振動源と、振動センサと、を備える。該振動源は、加工装置中を伝播する振動を発生でき、該振動センサは、該振動源で発せられ該加工装置中を伝播した振動を観測し、振動波形を取得できる。
該加工装置の各構成要素に特定の振動が伝播したとき、各構成要素に該振動に起因する共振が生じる。振動センサで取得される振動波形から振動の周波数特性を算出すると、該振動の周波数特性には各構成要素で生じた共振による振動ピークが現れる。各構成要素で共振が生じる振動数は固有振動数と呼ばれ、各構成要素はそれぞれ異なる固有振動数を有する。
そのため、該振動の周波数特性に現れた各振動ピークはその振動数を固有振動数とする構成要素の共振に帰属できる。なお、各構成要素に損耗等の変化が生じると、該振動の周波数特性に現れる振動ピークの振動数はシフトする。
該自己診断ユニットは、各構成要素に共振が生じる振動数を固有振動数として記録する固有振動数記録部と、判定部を備える。該判定部は、該振動の周波数特性に含まれる振動ピークの振動数と、該振動ピークが帰属する構成要素の該固有振動数と、を比較し、その差の大きさから該構成要素の変化の有無を判定する。すなわち、その差が所定の範囲を超えている場合、該振動ピークが帰属する該構成要素に変化があると判定する。
このように、本発明の一態様に係る加工装置では、各構成要素に変化が発生した際に自己診断ユニットにより該変化の発生を検出できる。そのため、該変化が大きくなり加工結果に問題を生じさせるようになる前に、該変化への対策を検討し実施できる。
したがって、本発明の一態様によると、各構成要素の変化の有無を判定できる自己診断機能を備える加工装置が提供される。
加工装置を模式的に示す斜視図である。 移動機構の一例を模式的に示す側面図である。 図3(A)は、洗浄ユニットによる洗浄を模式的に示す側面図であり、図3(B)は、洗浄ユニットでの振動の発生を模式的に示す側面図である。 図4(A)は、各構成要素に変化のない正常な状態における振動の周波数特性を模式的に示すチャートであり、図4(B)は、X軸ボールねじに変化がある場合における振動の周波数特性を模式的に示すチャートである。 図5(A)は、各構成要素に変化のない正常な状態における振動の周波数特性を模式的に示すチャートであり、図5(B)は、テーブルベースに変化がある場合における振動の周波数特性を模式的に示すチャートである。
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係る加工装置は、シリコンやサファイア等からなる被加工物から半導体デバイスや光デバイスを含むデバイスチップを形成する工程で使用される加工装置である。該加工装置は、例えば、被加工物をデバイス毎に分割する切削装置、レーザ加工するレーザ加工装置、該被加工物を研削して所定の厚みに薄化する研削装置、または、バイト切削するバイト切削装置等である。
図1は、本実施形態に係る加工装置を模式的に示す斜視図である。図1に示す加工装置は、被加工物を切削する切削装置である。以下、本実施形態では、該加工装置が切削装置2である場合を例に説明する。
切削装置2は、各構成要素を支持する基台4を備える。該基台4の前方の角部には、矩形の開口4aが形成されており、この開口4a内には、昇降するカセット支持台6が設けられる。カセット支持台6の上面には、複数のフレームユニット1を収容するカセット8が載せられる。なお、図1では、説明の便宜上、カセット8の輪郭のみを示している。
フレームユニット1は、環状のフレーム3と、該環状のフレーム3の開口に張られたテープ5と、該テープ5の上面に支持された被加工物7と、を有する。被加工物7は、例えば、シリコン等の半導体材料でなる円形のウェーハであり、その表面側は、中央のデバイス領域と、デバイス領域を囲む外周余剰領域とに分けられる。デバイス領域は、格子状に配列された分割予定ライン(ストリート)でさらに複数の領域に区画されており、各領域には、IC、LSI等のデバイスが形成される。
被加工物7の裏面側には、被加工物7よりも径の大きいテープ5が貼付されている。テープ5の外周部分は、環状のフレーム3に固定される。すなわち、被加工物7は、テープ5を介して環状のフレーム3に支持される。
なお、被加工物7はシリコン等の半導体材料でなる円形のウェーハ以外でもよく、被加工物7の材質、形状、構造等に制限はない。例えば、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる矩形の基板を被加工物7として用いることもできる。デバイスの種類、数量、配置等にも制限はない。
切削装置2には、カセット支持台6に載せられたカセット8に収容されたフレームユニット1を取り出して、該フレームユニット1を後述の保持テーブル14の上に載せる搬送機構(不図示)が設けられる。該搬送機構によると、切削加工が終了した後に該フレームユニット1を該カセット8に収容することもできる。
カセット支持台6の側方には、X軸方向(前後方向、加工送り方向)に長い矩形の開口4bが形成される。この開口4b内には、X軸移動テーブル10、X軸移動テーブル10をX軸方向に移動させるX軸移動機構58(図2参照)及びX軸移動機構58を覆う防塵防滴カバー12が設けられる。
X軸移動テーブル10の上方には、フレームユニット1を保持するための保持テーブル14が設けられる。保持テーブル14の上面には多孔質部材が配設されており、該多孔質部材の上面がフレームユニット1を保持する保持面14aとなる。該保持テーブル14は、該保持面14a上に載せられたフレームユニット1を挟持するクランプ14bを外周部に備える。
該多孔質部材は、保持テーブル14の内部に形成された吸引路(不図示)を介して吸引源(不図示)に接続される。該保持面14aの上にフレームユニット1を載せ、吸引源を作動させて該吸引路及び該多孔質部材を通じて該フレームユニット1に負圧を作用させると、フレームユニット1が保持テーブル14に吸引保持される。
開口4bに近接する位置には、上述したフレームユニット1を保持テーブル14へと搬送する搬送ユニット(不図示)が設けられる。搬送ユニットで搬送されたフレームユニット1は、例えば、上面側が上方に露出するように保持テーブル14の保持面14aに載せられる。また、該搬送ユニットは、切削加工後のフレームユニット1を後述の洗浄ユニット50に搬送する。
基台4の上面には、2組の切削ユニット22a,22bを支持するための門型の支持構造24が、開口4bを跨ぐように配置される。支持構造24の前面上部には、Y軸方向に平行な一対のY軸ガイドレール28が配設される。Y軸ガイドレール28には、2組の切削ユニット22a,22bをそれぞれ支持する2つのY軸移動プレート30がスライド可能に取り付けられる。
各Y軸移動プレート30の裏面側(後面側)には、ナット部(不図示)が設けられ、このナット部には、Y軸ガイドレール28に平行なY軸ボールねじ32がそれぞれ螺合される。各Y軸ボールねじ32の一端部には、Y軸パルスモータ34が連結される。Y軸パルスモータ34でY軸ボールねじ32を回転させれば、Y軸移動プレート30は、Y軸ガイドレール28に沿ってY軸方向に移動する。
各Y軸移動プレート30の表面(前面)には、Z軸方向に平行な一対のZ軸ガイドレール36が設けられる。Z軸ガイドレール36には、Z軸移動プレート38がスライド可能に取り付けられる。
各Z軸移動プレート38の裏面側(後面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Z軸ガイドレール36に平行なZ軸ボールねじ40がそれぞれ螺合される。各Z軸ボールねじ40の一端部には、Z軸パルスモータ42が連結される。Z軸パルスモータ42でZ軸ボールねじ40を回転させれば、Z軸移動プレート38は、Z軸ガイドレール36に沿ってZ軸方向に移動する。
各Z軸移動プレート38の下部には、それぞれ切削ユニット22a,22bが設けられる。この切削ユニット22a,22bは、回転軸となるスピンドルの一端側に装着された円環状の切削ブレードを備える。切削ユニット22a,22bは、該切削ブレード及び保持テーブル14に保持されたフレームユニット1に切削液を供給する切削液供給手段を備える。該切削液は、例えば、純水である。
また、切削ユニット22a,22bに隣接する位置には、被加工物7等を撮像するカメラユニット(撮像ユニット)48が設けられる。Y軸移動プレート30をY軸方向に移動させると、切削ユニット22a,22b及びカメラユニット48は、Y軸方向に割り出し送りされる。また、Z軸移動プレート38をZ軸方向に移動させると、切削ユニット22a,22b及びカメラユニット48は、昇降する。
保持テーブル14をX軸方向に移動させるX軸移動機構について図2を用いて説明する。図2は、X軸移動機構を模式的に示す側面図である。図2では、環状のフレーム3、テープ5、X軸移動テーブル10、防塵防滴カバー12、及びクランプ14b等が省略されている。
X軸移動機構58は、切削装置2の基台4の内部の底のベース56の上に配設される。X軸移動機構58は、X軸サーボモータ60と、一端がX軸サーボモータ60に接続されたX軸ボールねじ62と、を備える。X軸ボールねじ62には保持テーブルスライダ64のナット部が螺合されており、X軸サーボモータ60によりX軸ボールねじ62を回転させると、保持テーブルスライダ64がX軸方向に移動する。
保持テーブルスライダ64の上方には、テーブルベース66が載り、保持テーブル14はθ軸モータ66aを介してテーブルベース66に支持される。θ軸モータ66aは、保持テーブル14を保持面14aに垂直な方向に沿った軸のまわりに回転させる。
被加工物7を切削する際には、保持テーブル14にテープ5を介して被加工物7を保持させ、θ軸モータ66aを作動させカメラユニット48を使用して被加工物7の方向と、加工送り方向と、を合わせる。そして、切削ユニット22に装着された環状の切削ブレードを回転させ、切削ユニット22を所定の高さに下降させ、X軸移動機構58を作動させて保持テーブル14を加工送りし、切削ブレードを被加工物7に切り込ませる。
開口4bに対して開口4aと反対側の位置には、円形の開口4cが形成される。開口4c内には、被加工物7の切削後にフレームユニット1等を洗浄加工するための洗浄ユニット50が設けられる。開口4cの内部に設けられた洗浄ユニット50は、フレームユニット1を保持する保持テーブルとして機能する洗浄テーブル52と、該洗浄テーブル52に保持されたフレームユニット1の上方から該フレームユニット1に洗浄液を吐出する洗浄ノズル54と、を備える。該洗浄液は、例えば、純水である。
洗浄ユニット50について図3(A)を用いて詳述する。図3(A)は、洗浄ユニット50による洗浄加工を模式的に示す側面図である。図3(A)には、洗浄ユニット50に搬入されたフレームユニット1の断面図が示されている。
図3(A)に示す通り、洗浄ユニット50は、洗浄テーブル52の回転駆動源となるサーボモータ70bと、洗浄テーブル52を支持し該サーボモータ70bによる回転力を洗浄テーブル52に伝達する回転軸70aと、を備える。サーボモータ70bの外周には、例えば、昇降機構を備える複数の脚が装着される。該昇降機構は、洗浄テーブル52を昇降できる。
切削後の被加工物7の洗浄ユニット50による洗浄加工時には、まず、洗浄テーブル52上にフレームユニット1を載せ、フレームユニット1を洗浄テーブル52に吸引保持させる。次に、サーボモータ70bを作動させて洗浄テーブル52を回転させる。そして、洗浄ノズル54から下方に洗浄液64aを噴出させながら、洗浄ノズル54をフレームユニット1の上方でサーボモータ70bの回転軸に垂直な面内に移動させる。
切削装置2は、図1に示す通り、該切削装置2の各構成要素を制御する制御ユニット16を備える。制御ユニット16が制御する構成要素は、例えば、カセット支持台6、保持テーブル14、切削ユニット22a,22b、Y軸パルスモータ34、Z軸パルスモータ42、カメラユニット48、洗浄ユニット50、及びX軸移動機構58等である。ただし、該制御ユニット16が制御する構成要素はこれに限定されない。
切削装置2を長年使用すると、切削装置2の各構成要素の損耗が徐々に進行して各構成要素が変化し、切削装置2における加工において所定の結果が得られなくなる場合がある。例えば、X軸ボールねじ62の溝が削れて深くなると、保持テーブル14を載せた保持テーブルスライダ64が比較的軽い力で動くようになり、保持テーブル14が移動しやすくなる場合がある。
そこで、保持テーブル14の過剰な移動を抑制するために、X軸サーボモータ60の出力が適宜制御される。しかし、軽い力で保持テーブルスライダ64が動くようになると、オーバーシュートが発生しやすく、位置を制御する際にオーバーシュートした分を逆方向に移動させる制御が繰り返される場合がある。そして、その結果、保持テーブル14が移動しながら前後方向に振動してしまい、加工結果に悪影響を及ぼす場合がある。このように損耗等の変化により問題が生じると加工結果に直接的に影響が及ぶため、切削装置2は、切削装置2の状態を診断する自己診断ユニットをさらに備える。
該自己診断ユニットは、例えば、切削装置(加工装置)2に所定範囲の振動数の振動を付与する振動源と、該振動源により発せられ該切削装置2中を伝播した振動を観測し、振動波形を取得する振動センサと、を備える。
該振動源は、例えば、該振動を発生させるためだけに切削装置2の任意の位置に設けられてもよい。また、切削装置2には、各構成要素を回転または移動させるための多数のアクチュエータが備えられており、該アクチュエータを自己診断ユニットの振動源として使用してもよい。
例えば、振動源として使用されるアクチュエータは、X軸移動機構58が備えるX軸サーボモータ60である。X軸サーボモータ60を作動させ回転の反転を繰り返すと、X軸ボールねじ62が反転を繰り返しながら回転し、保持テーブルスライダ64がX軸方向に前後に移動する。この移動に伴って振動が生じ、該振動が切削装置2の内部を伝播する。
このとき、X軸サーボモータ60の回転の反転の頻度を変化させることで、該振動の振動数を調整できる。そして、所定範囲の振動数の振動を発生させて、切削装置2の内部に該振動を伝播させる。
該振動を観測する振動センサは、変位センサ、速度センサ、又は加速度センサ等から適宜選択される。例えば、圧電素子、AEセンサ、または、MEMSセンサ等である。図1及び図2に振動センサの設置個所の例を示す。図1に示す通り、振動センサ18は、例えば、切削ユニット22a,22b、支持構造24の前面、または、支持構造24の上面等に設置される。さらに、図2に示す通り、ベース56、または、テーブルベース66等に設置される。
振動センサは、該振動センサに振動が伝播したとき、例えば、振動の強度(変位、速度、または、加速度等)と、時間と、の関係を振動波形として取得する。そして、該振動波形を、例えば、高速フーリエ変換(FFT)等の方法で解析すると、振動の強度と、該振動の振動数(周波数)と、の関係が周波数特性として算出される。または、振動源から発せられる振動の振動数を走査し、振動センサで観測された振動の強度と、振動源から発せられる振動の振動数と、の関係をプロットすることで算出されてもよい。
振動源及び振動センサ18は、切削装置2の制御ユニット16に接続されており、該制御ユニット16により制御される。該振動源は制御ユニット16の指示により振動を発し、振動センサ18は制御ユニット16の指示により該振動を観測することで取得された振動波形を制御ユニット16に送る。
切削装置2の各構成要素に該振動が伝播するとき、該振動の振動数が特定の値であると該構成要素で共振が生じる。この共振が生じる際の振動の振動数は固有振動数と呼ばれる。固有振動数は、構成要素の形状、材質、質量等により決定され、各構成要素はそれぞれ異なる固有振動数を有する。各構成要素では、固有振動数以外の振動数の振動は減衰しやすく、固有振動数の振動は共振により減衰が抑制される。
そのため、振動源により所定の範囲の振動数の振動を発生させ、振動センサで該振動を観測して振動波形を取得し、横軸が振動数、縦軸が振動強度で表される振動の周波数特性を算出すると、該振動の周波数特性には該固有振動数に対応する振動数の振動ピークが現れる。該振動ピークは、それぞれ帰属される構成要素に損耗等の変化が生じると振動数がシフトする。該自己診断ユニットは、該振動の周波数特性に現れる振動ピークの振動数の固有振動数からのずれの大きさを用いて各構成要素の変化の有無を判定する。
まず、各構成要素が正常な状態である際に振動源に振動を生じさせ切削装置2中を伝播する振動を振動センサで観測して振動波形を取得し、該振動の周波数特性を算出し、振動ピークの振動数を各構成要素の固有振動数として記録する。その後、切削装置2を稼働させた後、再び振動源に振動を生じさせ該振動の周波数特性を算出する。そして、該振動の周波数特性に現れる振動ピークの振動数が該固有振動数からシフトしていた場合、その振動ピークが帰属する構成要素に正常な状態からの変化があったことが検出される。
該自己診断ユニットは、さらに、固有振動数記録部と、周波数特性記憶部と、を制御ユニット16中に備える。固有振動数記録部16aは、切削装置(加工装置)2の各構成要素に共振が生じる振動数を固有振動数として記録する。
各構成要素の固有振動数を知るには、例えば、各構成要素に物理的に衝撃を与えて振動させるハンマリング試験を実施するとよい。固有振動数を割り出したい対象の構成要素に所定の方法で衝撃を与え、生じる振動をいずれかの振動センサ18で観測する。この場合、振動の周波数特性には、主に該対象の構成要素の固有振動数の振動ピークが現れる。そのため、該振動ピークの振動数を該構成要素の固有振動数として固有振動数記録部16aに記録させる。周波数特性記憶部16bは、振動センサ18が取得した振動波形から算出された該振動の周波数特性を記録し蓄積する。
切削装置2に振動を伝播させる際、いずれのアクチュエータを振動源として作動させるかと、いずれの振動センサ18で振動を観測するかと、により振動波形は大きく変化する。例えば、変化の有無を監視する対象である構成要素に比較的近い振動源及び振動センサ18を使用して振動波形を取得すると、振動の周波数特性に該構成要素における共振に帰属されるピークが明確に現れやすく、該構成要素の変化の有無を捉えやすい。
そこで、周波数特性記憶部16bには、該振動の周波数特性とともに、該振動の振動源として使用されたアクチュエータと、観測に使用された振動センサ18と、が記憶されてもよい。
該自己診断ユニットは、さらに、判定部を制御ユニット16中に備える。判定部16cは、切削装置2の各構成要素に損耗等の変化が生じているか否かを判定する機能を備える。判定部16cは、算出された該振動の周波数特性に含まれる振動ピークの振動数と、該振動ピークが帰属する該構成要素の該固有振動数と、の差が所定の範囲を超える場合、該振動ピークが帰属する該構成要素に変化があると判定する。
次に、自己診断ユニットにおける判定について説明する。ここでは、振動源となるアクチュエータをX軸移動機構58のX軸サーボモータ60(図2参照)とし、テーブルベース66に固定された振動センサ18(図2参照)を振動の観測に使用してX軸ボールねじ62の変化の有無を判定する場合を例に説明する。この場合、X軸サーボモータ60を繰り返し反転駆動させて、保持テーブルスライダ64にX軸方向に沿った振動68aを生じさせる。
図4(A)は、各構成要素が正常な状態である場合における振動の周波数特性を模式的に示すチャートである。すなわち、図4(A)には、X軸ボールねじ62に変化が生じる前の周波数特性72aが示されている。該周波数特性72aは、例えば、切削装置2の稼働前や、メンテナンス実施直後等の所定のタイミングに取得された振動波形から算出される。
本実施形態で示される各周波数特性は、横軸が振動数(Hz)の対数軸、縦軸が振動強度(任意単位)のチャートで表される。図4(A)に示された通り、周波数特性72aには、複数の振動数(Hz)に振動ピークが現れる。各振動ピークは、該振動ピークが帰属される構成要素で共振が生じたことを示す。
例えば、ハンマリング試験によりX軸ボールねじ62の固有振動数が400Hz程度であるとの情報が取得され、固有振動数記録部16aに該情報が登録される。この場合、周波数特性72aにおいてX軸ボールねじ62の固有振動数74である400Hz近傍に現れる振動ピーク76aは、X軸ボールねじ62に帰属される。
次に、切削装置2の稼働を繰り返した後に取得される、一部の構成要素に変化がある場合の周波数特性を図4(B)に示す。図4(B)は、X軸ボールねじ62に変化がある場合における振動の周波数特性を模式的に示すチャートである。図4(B)に示された周波数特性72bと、図4(A)に示された周波数特性72aと、を比較すると、周波数特性72bではX軸ボールねじ62に帰属される振動ピーク76bが、固有振動数74から高振動数側にシフトしていることがわかる。
このとき、X軸ボールねじ62の変化が許容される範囲内であり、振動ピーク76bの振動数と、固有振動数74と、の差82bが許容される所定の範囲に収まる場合、判定部16cは、X軸ボールねじ62に変化があるとは判定しない。その一方で、X軸ボールねじ62の変化が許容される範囲を超えており、該差82bが該所定の範囲を超えている場合、判定部16cは、振動ピーク76bの帰属されるX軸ボールねじ62に変化があると判定する。
なお、変化の有無の判定に使用される該差82bの所定の範囲は、各構成要素に対して適宜設定されてもよい。例えば、切削装置(加工装置)2における加工に不具合を生じさせる程に該構成要素の変化が大きい場合に現れる該差82bの範囲に設定される。または、間もなく加工に不具合を生じさせることが見込まれ、不具合が生じる前に該構成要素に対する是正措置が必要であると認められる程に該構成要素の変化が大きい場合に現れる該差82bの範囲に設定される。
判定部16cによる判定の他の例について図5を用いて説明する。ここでは、テーブルベース66の変化の有無を判定する場合の例を説明する。上述の例と同様に、振動源となるアクチュエータをX軸移動機構58のX軸サーボモータ60とし、テーブルベース66に固定された振動センサ18を振動の観測に使用する。この場合においても、X軸サーボモータ60を繰り返し反転駆動させて、保持テーブルスライダ64にX軸方向に沿った振動68aを生じさせる。
図5(A)は、各構成要素が正常な状態における振動の周波数特性を模式的に示すチャートである。すなわち、図5(A)には、テーブルベース66に変化が生じる前の周波数特性72cが示されている。例えば、ハンマリング試験によりテーブルベース66の固有振動数が180Hz程度であるとの情報が取得され、固有振動数記録部16aに該情報が登録される。この場合、周波数特性72cにおいてテーブルベース66の固有振動数78である180Hz近傍に現れる振動ピーク80aは、テーブルベース66に帰属される。
次に、切削装置2の稼働を繰り返した後に取得される、一部の構成要素に変化がある場合の振動の周波数特性を図5(B)に示す。図5(B)は、テーブルベース66に変化がある場合における振動の周波数特性を模式的に示すチャートである。図5(B)に示された周波数特性72dと、図5(A)に示された周波数特性72cと、を比較すると、周波数特性72dではテーブルベース66に帰属される振動ピーク80bが、固有振動数78から高振動数側にシフトしていることがわかる。
このとき、テーブルベース66の変化が許容される範囲を超えており、振動ピーク80bの振動数と、テーブルベース66の固有振動数78と、の差82bが該所定の範囲を超えている場合、判定部16cは振動ピーク80bに変化があると判定する。
判定部16cによる判定時には、振動源としてX軸サーボモータ60以外の構成要素を使用して振動を発生させてもよい。例えば、保持テーブル14を保持面14aに垂直な方向に沿った軸の周りに回転させるθ軸モータ66aを振動源として使用してもよい。その場合、図2に示す通り、反転駆動を繰り返して所定の範囲の振動数で振動68bを発生させる。
なお、該制御ユニット16には、振動波形の取得時の切削装置2の各構成要素の状態に関する情報が記憶されてもよく、振動の観測時には、記憶された該情報を基に制御ユニット16が各構成要素を制御してもよい。例えば、X軸ボールねじ62に対する保持テーブルスライダ64の相対位置により振動波形が変化する。そのため、切削装置2の稼働前後の各構成要素の変化の有無を判定する際には、振動の測定を一定の条件で実施するために、該相対位置についても測定毎に同じでなければならない。
そこで、該制御ユニット16には、X軸ボールねじ62やテーブルベース66の状態に関する情報として、X軸ボールねじ62に対する保持テーブルスライダ64の相対位置が記憶される。そして、該変化の有無の判定時には、制御ユニット16は、該情報に基づいて保持テーブルスライダ64を所定の位置に移動させてから振動源に振動を発生させ振動センサ18に振動波形を取得させる。
また、判定部16cによる判定を実施する際には、切削ユニット(加工ユニット)による切削(加工)や洗浄ユニット50による被加工物7の洗浄加工が実施されていない間に実施される。各構成要素で共振により生じる振動は、被加工物7の加工や洗浄で切削装置2に生じる振動よりも微弱である傾向にある。そのため、被加工物7の加工や洗浄を実施している間に判定部16cによる判定を実施しようとすると、加工や洗浄により生じる振動波形に共振による振動が埋もれてしまう場合があるからである。
さらに、振動源により発せられる振動の振動数を走査して振動の周波数特性を算出する場合、判定部16cによる判定を実施する際に、振動の振動源等に劣化が生じ、判定部16cによる判定時に予定された振動を発することができない場合がある。例えば、X軸ボールねじ62が大きく劣化して、所定の振動数の振動を発生させるためにX軸サーボモータ60を作動させても、目的の振動数の振動が発生しない場合がある。
そのため、該振動源が目的の振動数の振動を発せられる状態であるか予め点検がされてもよい。例えば、保持テーブルスライダ64に振動の振動数を検出できる振動センサを装着し、該振動源に所定の振動数の振動を発生させるよう指令を出し、該振動センサに該所定の振動数の振動が検出されるか否か試験するとよい。この場合、該指令と、検出された振動と、の関係からX軸サーボモータ60の変化の有無を判定することもできる。
以上に説明する通り、本実施形態に係る加工装置は、自己診断機能を実現する自己診断ユニットを備える。そのため、高い能力の作業者が加工装置を点検しなくても、各構成要素に変化が発生した際に該変化の発生を検出できる。ここで、自己診断ユニットとは、振動源と、振動センサと、固有振動数記録部と、周波数特性記憶部と、判定部と、等を備え、これらが協働して加工装置の状態を診断するユニットである。したがって、本実施形態により、自己診断機能を備える加工装置が提供される。
なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、自己診断ユニットの判定部16cによりX軸移動機構58に属する構成要素の変化の有無が判定部16cにより判定される場合について説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。例えば、判定部16cにより洗浄ユニット50に属する構成要素の変化の有無が判定されてもよい。図3(B)は、洗浄ユニット50での振動の発生を模式的に示す側面図である。
洗浄ユニット50に属する構成要素の変化の有無を判定する際に自己診断ユニットの振動源として、例えば、洗浄テーブル52を回転させるサーボモータ70bが使用される。この場合、反転を繰り返しながらサーボモータ70bを作動させて振動68cを生じさせる。すると、例えば、洗浄テーブル52、または、回転軸70a等の変化の有無を判定できる。
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
1 フレームユニット
3 フレーム
5 テープ
7 被加工物
2 切削装置
4 基台
4a,4b,4c 開口
6 カセット支持台
8 カセット
10 X軸移動テーブル
12 防塵防滴カバー
14 保持テーブル
14a 保持面
14b クランプ
16 制御ユニット
16a 固有振動数記録部
16b 周波数特性記憶部
16c 判定部
18 振動センサ
22,22a,22b 切削ユニット
24 支持構造
28 Y軸ガイドレール
30 Y軸移動プレート
32 Y軸ボールねじ
34 Y軸パルスモータ
36 Z軸ガイドレール
38 Z軸移動プレート
40 Z軸ボールねじ
42 Z軸パルスモータ
48 カメラユニット
50 洗浄ユニット
52 洗浄テーブル
54 洗浄ノズル
54a 洗浄液
56 ベース
58 X軸移動機構
60,70b サーボモータ
62 X軸ボールねじ
64 保持テーブルスライダ
66 テーブルベース
66a θ軸モータ
68a,68b,68c 振動
70a 回転軸
72a,72b 振動波形
74,78 固有振動数
76a,76b,80a,80b ピーク
82a,82b 差

Claims (4)

  1. 被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された被加工物を加工する加工ユニットと、を備える加工装置であって、
    該加工装置の各構成要素を制御する制御ユニットと、
    該加工ユニットによる加工が行われていない状態で加工装置の状態を診断する自己診断ユニットと、を備え、
    該自己診断ユニットは、
    該加工装置に所定範囲の振動数の振動を付与する振動源と、
    該振動源により発せられ該加工装置中を伝播した振動を観測し、振動波形を取得する振動センサと、を備え、
    該自己診断ユニットは、さらに、該制御ユニット中に、
    該加工装置の該各構成要素が正常な状態である際に、該加工装置中を伝播する振動が該振動センサで観測されることで取得された振動波形から該振動の周波数特性を算出し、該加工装置の各構成要素に共振が生じる振動数を固有振動数として記録する固有振動数記録部と、
    該振動センサが取得した振動波形から算出される該振動の周波数特性を蓄積する周波数特性記憶部と、
    該振動の周波数特性に含まれる振動ピークの振動数と、該振動ピークが帰属する該構成要素の該固有振動数記録部が記録する該固有振動数と、の差が所定の範囲を超える場合、該振動ピークが帰属する該構成要素に変化があると判定する判定部と、を備え
    該制御ユニットには、該固有振動数記録部が該固有振動数を記録する際の該振動波形の取得時の該加工装置の該各構成要素の状態に関する情報が記憶され、
    該制御ユニットは、該加工装置の稼働後に該周波数特性記憶部が該周波数特性を蓄積するとき該加工装置の該各構成要素の状態に関する該情報を基に該各構成要素を制御してから該振動源に振動を生じさせることを特徴とする自己診断機能を備える加工装置。
  2. 該振動源は、サーボモータを備えるアクチュエータであり、該サーボモータの回転の反転を繰り返して該所定範囲の振動数の振動を発生させることを特徴とする請求項1記載の自己診断機能を備える加工装置。
  3. 該サーボモータは、該保持テーブル又は該加工ユニットを移動させるボールねじ、又は、該保持テーブルを回転させることを特徴とする請求項2記載の自己診断機能を備える加工装置。
  4. 該振動センサは、加速度センサであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の自己診断機能を備える加工装置。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112021005064T5 (de) * 2020-11-27 2023-07-06 Fanuc Corporation Werkzeugmaschine und diagnoseverfahren
JPWO2022131184A1 (ja) * 2020-12-18 2022-06-23

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012161861A (ja) 2011-02-04 2012-08-30 Disco Corp 加工装置
JP2013257253A (ja) 2012-06-14 2013-12-26 Nsk Ltd ボールねじ装置の異常検出装置及び異常検出方法
JP2014130059A (ja) 2012-12-28 2014-07-10 Canon Inc 接触式三次元形状測定装置及びプローブ制御方法
JP2018028512A (ja) 2016-08-19 2018-02-22 オークマ株式会社 回転軸を有する機械
JP2018194303A (ja) 2017-05-03 2018-12-06 上銀科技股▲フン▼有限公司 リニアガイドウェイの予圧変化を計測する方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62173147A (ja) 1986-01-24 1987-07-30 Disco Abrasive Sys Ltd 温度変化に起因する誤差が低減された精密装置
US5518347A (en) * 1995-05-23 1996-05-21 Design And Manufacturing Solutions, Inc. Tuned damping system for suppressing vibrations during machining
TWI609737B (zh) * 2016-12-22 2018-01-01 Hiwin Tech Corp 偵測工具機的線性滑軌預壓值變化的方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012161861A (ja) 2011-02-04 2012-08-30 Disco Corp 加工装置
JP2013257253A (ja) 2012-06-14 2013-12-26 Nsk Ltd ボールねじ装置の異常検出装置及び異常検出方法
JP2014130059A (ja) 2012-12-28 2014-07-10 Canon Inc 接触式三次元形状測定装置及びプローブ制御方法
JP2018028512A (ja) 2016-08-19 2018-02-22 オークマ株式会社 回転軸を有する機械
JP2018194303A (ja) 2017-05-03 2018-12-06 上銀科技股▲フン▼有限公司 リニアガイドウェイの予圧変化を計測する方法

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