JP7242228B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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以下、本発明の第1の実施形態について図面を用いて説明する。
次に、本発明の第2の実施形態に係る基板処理装置について、図6を参照して説明する。第1実施形態と異なる部分を中心に説明し、共通する部分の説明は適宜省略する。なお、第1の実施形態と共通する構成部分については、共通の名称、符号を使用する。
次に、本発明の第3の実施形態に係る基板処理装置について、図7を参照して説明する。第1実施形態と異なる部分を中心に説明し、共通する部分の説明は適宜省略する。なお、第1の実施形態と共通する構成部分については、共通の名称、符号を使用する。
13 処理室
15 回転テーブル(基板保持テーブル)
17 回転駆動部
18 処理液供給部
21 ミスト収集機構
23 制御部
27 回転駆動モータ
28 回転軸
31 アーム
33 2流体ノズル
35 回転軸体
36 駆動モータ
41 気体供給部
43 液体供給部
51 ミスト収集部
51a 曲面
52 ミスト除去部
52a ノズル
53 ミスト回収部
56a、56b 電極
57 誘電体(絶縁体)
58 コーティング層
59 液滴
62 排液管
Claims (11)
- 基板に処理液を含むミストを供給して処理する基板処理装置であって、
前記基板を保持する基板保持テーブルと、
前記基板に前記処理液を含むミストを供給するノズルと、
前記ノズルにより前記基板に前記ミストが供給され、雰囲気中に飛散するミストを収集するミスト収集機構と、
前記ミスト収集機構を所定の電荷に帯電させる制御部と、を有し、
前記ミスト収集機構は、前記所定の電荷に帯電して前記ミストを収集する面状のミスト収集部と、該ミスト収集部により収集された前記ミストを前記ミスト収集部から除去するミスト除去部と、ミスト除去部により前記ミスト収集部から除去された前記ミストを回収する回収部と、を有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記ノズルは、処理液をミストにして前記基板に供給する2流体ノズルであることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、前記所定の電荷として前記ミストに帯電する電荷と逆の電荷に前記ミスト収集機構を帯電させることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、前記ミストの電位に応じて前記ミスト収集機構を所定の電位に帯電させる請求項1乃至3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記ミスト収集部は、前記ノズルを取り付けたアーム部に設けることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記ミスト収集部は、前記基板の周囲に設けた環状のカップ体の所定位置に設けることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記ミスト収集部は、前記基板を処理する処理室内の前記基板の出し入れ口を挟むように設けることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記ミスト除去部は、前記ミスト収集部に気体を吹き付けるノズルを有する構造である請求項1に記載の基板処理装置。
- 基板に処理液を含むミストを供給して処理する基板処理方法であって、
基板保持テーブルに保持された前記基板にノズルにより前記処理液を含むミストを供給するミスト供給工程と、
前記ノズルにより供給された雰囲気中のミストを、所定の電荷に帯電するミスト収集機構により収集するミスト収集工程と、を有し、
前記ミスト収集工程は、前記ミスト収集機構により収集された前記ミストを除去する工程と、前記ミスト収集機構から除去された前記ミストを回収する工程と、を有することを特徴とする基板処理方法。 - 前記ミスト収集工程は、前記所定の電荷として前記ミストに帯電する電荷と逆の電荷に前記ミスト収集機構を帯電させることを特徴とする請求項9に記載の基板処理方法。
- 前記ミスト収集工程は、前記ミストの電位に応じて所定の電位に前記ミスト収集機構を帯電させる請求項9又は10に記載の基板処理方法。
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US20050039773A1 (en) | 2003-08-22 | 2005-02-24 | Tokyo Electron Limited | Particle removal apparatus and method and plasma processing apparatus |
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2018
- 2018-09-26 JP JP2018179662A patent/JP7242228B2/ja active Active
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