JP7221648B2 - 照明装置及び検査装置 - Google Patents
照明装置及び検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7221648B2 JP7221648B2 JP2018202969A JP2018202969A JP7221648B2 JP 7221648 B2 JP7221648 B2 JP 7221648B2 JP 2018202969 A JP2018202969 A JP 2018202969A JP 2018202969 A JP2018202969 A JP 2018202969A JP 7221648 B2 JP7221648 B2 JP 7221648B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- illumination light
- illumination
- annular aperture
- aperture stop
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21S—NON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
- F21S2/00—Systems of lighting devices, not provided for in main groups F21S4/00 - F21S10/00 or F21S19/00, e.g. of modular construction
- F21S2/005—Systems of lighting devices, not provided for in main groups F21S4/00 - F21S10/00 or F21S19/00, e.g. of modular construction of modular construction
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V5/00—Refractors for light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
- H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21W—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO USES OR APPLICATIONS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS
- F21W2131/00—Use or application of lighting devices or systems not provided for in codes F21W2102/00-F21W2121/00
- F21W2131/40—Lighting for industrial, commercial, recreational or military use
- F21W2131/403—Lighting for industrial, commercial, recreational or military use for machines
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
- F21Y2115/00—Light-generating elements of semiconductor light sources
- F21Y2115/30—Semiconductor lasers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
実施形態1に係る検査装置を説明する。検査装置は、例えば、半導体検査工程における検査対象の半導体ウエハを検査する。図1は、実施形態1に係る検査装置を例示した構成図である。図1に示すように、検査装置1は、検査対象50を照明光L10で照明する照明装置10を備えている。まず、照明装置10の構成を説明する。その後、照明装置10を備えた検査装置1の構成を説明し、検査装置1の動作を説明する。
図1に示すように、照明装置10は、半導体検査工程における検査対象50を、照明光L10で照明する。照明装置10は、光源11、ファイバ12、コリメータレンズ13a、フォーカスレンズ13b、拡散板14、輪帯開口絞り15、視野絞り16、ミラー17、コンデンサレンズ18、ビームスプリッタ19、対物レンズ20を備えている。
次に、検査装置1を説明する。図1に示すように、検査装置1は、照明装置10の他、結像レンズ21、画像センサ22も備えている。検査装置1は、例えば、落射照明方式の顕微鏡である。
次に、検査装置1の動作を説明する。検査装置1の動作を、比較例の動作と対比させて説明する。図4は、比較例に係る検査装置101の動作を例示した構成図である。図4に示す検査装置101は、拡散板14及び輪帯開口絞り15を有していない。図4では、光源11、コリメータレンズ13a、フォーカスレンズ13b、視野絞り16、ミラー17、コンデンサレンズ18を省略している。
次に、実施形態2を説明する。本実施形態の輪帯開口絞りの遮光部は、照明光L10を反射する反射部材を含んでいる。図10は、実施形態2に係る検査装置の輪帯開口絞り25を例示した平面図である。
次に、実施形態3を説明する。実施形態3の輪帯開口絞りの遮光部は、グラデーションタイプとなっている。図11は、実施形態3に係る検査装置の輪帯開口絞り35を例示した平面図である。図11には、輪帯開口絞り35を介した照明光L10の強度を例示したグラフも示している。
10 照明装置
11 光源
12 ファイバ
13a コリメータレンズ
13b フォーカスレンズ
14 拡散板
15、25、35、45 輪帯開口絞り
15a、25a、35a 遮光部
15b、25b、35b 外側遮光部
15c、25c、35c 開口部
15d アーム
16 視野絞り
17 ミラー
18 コンデンサレンズ
19 ビームスプリッタ
20 対物レンズ
20a 領域
21 結像レンズ
22 画像センサ
50 検査対象
51 検査面
CD 回転軸
CL 光軸
L10、L110 照明光
L20 光
L111、L112 反射光
Claims (12)
- 照明光としてレーザ光を生成する光源と、
前記照明光の光軸に直交する断面の中心部を遮光する遮光部を含む輪帯開口絞りと、
を備え、
前記輪帯開口絞りを介した前記照明光で照明する照明装置であって、
前記遮光部は、前記照明光を反射する反射部材を含み、
前記遮光部は、前記光軸方向から見て、前記遮光部の中心から周縁に向かって前記照明光を反射する割合が小さい、
照明装置。 - 前記照明光の位相を空間的または時間的の少なくともいずれかに変化させる位相変調素子をさらに備えた、
請求項1に記載の照明装置。 - 前記位相変調素子は、時間的に位置が変化する拡散板である、
請求項2に記載の照明装置。 - 前記輪帯開口絞りは、前記照明光の平行光路に配置される、
請求項1~3のいずれか一項に記載の照明装置。 - 前記輪帯開口絞りを介した前記照明光を集光する対物レンズをさらに備え、
前記輪帯開口絞りは、前記対物レンズの入射瞳位置に配置される、
請求項1~3のいずれか一項に記載の照明装置。 - 前記輪帯開口絞りは、前記照明光の発散または収束光路に配置される、
請求項1~3のいずれか一項に記載の照明装置。 - 前記遮光部は、前記光軸方向から見て、前記遮光部の中心から周縁に向かって前記照明光を透過する割合が大きい、
請求項1~6のいずれか一項に記載の照明装置。 - 前記輪帯開口絞りは、透過基材に対し、前記遮光部の部分を付着、塗装、蒸着及びスパッタのうち、いずれかにより形成された、
請求項1~7のいずれか一項に記載の照明装置。 - 前記レーザ光を生成する光源は、半導体レーザであることを特徴とする、
請求項1~8のいずれか一項に記載の照明装置。 - 前記半導体レーザは、ファブリペロー型半導体レーザであることを特徴とする、
請求項9に記載の照明装置。 - 照明光としてレーザ光を生成する光源と、
前記照明光の光軸に直交する断面の中心部を遮光する遮光部を含む輪帯開口絞りと、
前記輪帯開口絞りを介した前記照明光を検査対象に集光するとともに、前記照明光により照明された前記検査対象からの光を集光する対物レンズと、
前記対物レンズにより集光された前記検査対象からの光を受光する画像センサと、
を備え、
前記遮光部の大きさは、前記照明光が前記対物レンズに入射する面における前記照明光の反射光が前記画像センサに入射しないように決定される、
検査装置。 - 照明光としてレーザ光を生成する光源と、
前記照明光の光軸に直交する断面の中心部を遮光する遮光部を含む輪帯開口絞りと、
前記輪帯開口絞りを介した前記照明光を検査対象に集光するとともに、前記照明光により照明された前記検査対象からの光を集光する対物レンズと、
前記対物レンズにより集光された前記検査対象からの光を受光する画像センサと、
を備え、
前記遮光部の大きさは、前記検査対象からの反射光と前記画像センサ上で可干渉なフレアが前記画像センサに入射しないように決定される、
検査装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018202969A JP7221648B2 (ja) | 2018-10-29 | 2018-10-29 | 照明装置及び検査装置 |
KR1020180163949A KR20200049425A (ko) | 2018-10-29 | 2018-12-18 | 조명 장치 및 검사 장치 |
US16/547,492 US11314073B2 (en) | 2018-10-29 | 2019-08-21 | Lighting device and inspection apparatus having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018202969A JP7221648B2 (ja) | 2018-10-29 | 2018-10-29 | 照明装置及び検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020071051A JP2020071051A (ja) | 2020-05-07 |
JP7221648B2 true JP7221648B2 (ja) | 2023-02-14 |
Family
ID=70547505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018202969A Active JP7221648B2 (ja) | 2018-10-29 | 2018-10-29 | 照明装置及び検査装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7221648B2 (ja) |
KR (1) | KR20200049425A (ja) |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003156710A (ja) | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Toshiba Corp | レーザ光源装置 |
JP2003177102A (ja) | 2001-09-13 | 2003-06-27 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法およびその装置 |
JP2003185810A (ja) | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Pentax Precision Co Ltd | 輪帯状ndフィルター及びその製造方法 |
JP2005156516A (ja) | 2003-11-05 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法及びその装置 |
JP2007033790A (ja) | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Olympus Corp | 顕微鏡照明装置 |
JP2007517230A (ja) | 2003-12-29 | 2007-06-28 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 照射装置および方法 |
JP2008129315A (ja) | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corp | 光源装置、画像表示装置 |
JP2008275612A (ja) | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | 半導体製造用のサブストレート上の構造体を測定する高解像度を備えた装置及び測定装置におけるアパーチャの使用 |
JP2010160307A (ja) | 2009-01-08 | 2010-07-22 | Seiko Epson Corp | 光学素子および画像表示装置 |
JP2010224311A (ja) | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Panasonic Corp | レーザ光源装置 |
JP2011013597A (ja) | 2009-07-06 | 2011-01-20 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置及びプロジェクター |
JP2013044879A (ja) | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 光学顕微鏡装置及びこれを備えた検査装置 |
JP2015111222A (ja) | 2013-12-06 | 2015-06-18 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 照明装置、光学検査装置及び光学顕微鏡 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58154817A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-14 | Olympus Optical Co Ltd | 電子撮像光学装置 |
US4873653A (en) * | 1986-04-09 | 1989-10-10 | Carl-Zeiss-Stiftung | Microscope system for providing three-dimensional resolution |
JP3250190B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2002-01-28 | 旭精密株式会社 | 輪帯状ndフィルター |
-
2018
- 2018-10-29 JP JP2018202969A patent/JP7221648B2/ja active Active
- 2018-12-18 KR KR1020180163949A patent/KR20200049425A/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003177102A (ja) | 2001-09-13 | 2003-06-27 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法およびその装置 |
JP2003156710A (ja) | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Toshiba Corp | レーザ光源装置 |
JP2003185810A (ja) | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Pentax Precision Co Ltd | 輪帯状ndフィルター及びその製造方法 |
JP2005156516A (ja) | 2003-11-05 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法及びその装置 |
JP2007517230A (ja) | 2003-12-29 | 2007-06-28 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 照射装置および方法 |
JP2007033790A (ja) | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Olympus Corp | 顕微鏡照明装置 |
JP2008129315A (ja) | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corp | 光源装置、画像表示装置 |
JP2008275612A (ja) | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | 半導体製造用のサブストレート上の構造体を測定する高解像度を備えた装置及び測定装置におけるアパーチャの使用 |
JP2010160307A (ja) | 2009-01-08 | 2010-07-22 | Seiko Epson Corp | 光学素子および画像表示装置 |
JP2010224311A (ja) | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Panasonic Corp | レーザ光源装置 |
JP2011013597A (ja) | 2009-07-06 | 2011-01-20 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置及びプロジェクター |
JP2013044879A (ja) | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 光学顕微鏡装置及びこれを備えた検査装置 |
JP2015111222A (ja) | 2013-12-06 | 2015-06-18 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 照明装置、光学検査装置及び光学顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200049425A (ko) | 2020-05-08 |
JP2020071051A (ja) | 2020-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9784987B2 (en) | Apodization for pupil imaging scatterometry | |
US7456978B2 (en) | Shape measuring apparatus | |
US20200217651A1 (en) | Method and System for Optical Three Dimensional Topography Measurement | |
TW201807400A (zh) | 使用奇點光束之暗場晶圓奈米缺陷檢驗系統 | |
JP6546172B2 (ja) | 反射光学素子、特にマイクロリソグラフィの光学特性を測定する測定構成体 | |
JP2004184309A (ja) | 干渉計 | |
JP2022528003A (ja) | 対物レンズに対する試料の変位を検出する方法及び装置 | |
JP5820729B2 (ja) | 光束分岐素子、およびマスク欠陥検査装置 | |
JP2011095642A (ja) | 照明光学系、照明方法、及び検査装置 | |
JP2023527995A (ja) | 埋込計量ターゲット用撮像システム | |
JPH04353800A (ja) | 軟x線顕微鏡 | |
JP7221648B2 (ja) | 照明装置及び検査装置 | |
JP6288617B2 (ja) | 照明装置、光学検査装置及び光学顕微鏡 | |
US9915519B2 (en) | Measuring system and measuring method | |
JP2006343121A (ja) | 光ビーム測定装置 | |
JP2009288075A (ja) | 収差測定装置及び収差測定方法 | |
JP2579416B2 (ja) | リソグラフィ用の光学系 | |
US11733176B2 (en) | Inspection device and method of measuring wavefront aberration | |
US8764241B2 (en) | Ring light source system for interferometer with adjustable ring radius and ring radial width | |
US11314073B2 (en) | Lighting device and inspection apparatus having the same | |
JPH11118446A (ja) | 2次元配列型共焦点光学装置 | |
TWI797466B (zh) | 曝光裝置及物品的製造方法 | |
TW201229556A (en) | Observing optical system and laser processing equipment | |
JP2004085463A (ja) | レンズ点像観察装置および方法 | |
KR20160034806A (ko) | 조명 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210810 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220809 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230117 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7221648 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |