JP2009288075A - 収差測定装置及び収差測定方法 - Google Patents
収差測定装置及び収差測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009288075A JP2009288075A JP2008140957A JP2008140957A JP2009288075A JP 2009288075 A JP2009288075 A JP 2009288075A JP 2008140957 A JP2008140957 A JP 2008140957A JP 2008140957 A JP2008140957 A JP 2008140957A JP 2009288075 A JP2009288075 A JP 2009288075A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- light
- lens
- collimator lens
- aberration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
【課題】 多様な被検光学系を幅広い波長領域で測定できる収差測定装置を提供する。
【解決手段】 収差測定装置(100)は、被検光学系(SP)を照明する点光源(11,17)と、被検光学系(SP)からの光を平行光とするコリメータレンズ(23)と、コリメータレンズからの平行光を検出手段上に結像させるマイクロレンズアレイ(41)と、被検光学系とマイクロレンズアレイとの間に設けられ被検光学系からの光の焦光点位置にコリメータレンズの光軸を合わせる光軸合わせ光学系(31,33)と、マイクロレンズアレイによる結像を検出する検出手段(43)と、を備える。
【選択図】 図1
【解決手段】 収差測定装置(100)は、被検光学系(SP)を照明する点光源(11,17)と、被検光学系(SP)からの光を平行光とするコリメータレンズ(23)と、コリメータレンズからの平行光を検出手段上に結像させるマイクロレンズアレイ(41)と、被検光学系とマイクロレンズアレイとの間に設けられ被検光学系からの光の焦光点位置にコリメータレンズの光軸を合わせる光軸合わせ光学系(31,33)と、マイクロレンズアレイによる結像を検出する検出手段(43)と、を備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は、光学系あるいは光学素子の収差を測定するための装置に関し、特に収差特性を効果的に測定できるハルトマン方式又はシャックハルトマン方式の収差測定装置に関するものである。
光学系あるいは光学素子の結像性能を評価するための装置としては、フィゾー型干渉計やシアリング干渉計などが広く使われている。これら干渉計では基本的にコヒーレント光源を必要とするため、測定できる波長が制約されてしまうという短所があった。またデジタルカメラや放送機器用カメラ等に使用される撮影レンズは、波面収差が比較的大きく、干渉計での収差測定が困難な場合がある。
また、撮影レンズでは色収差や波長による収差特性の違いを評価することが必要であるが、これはコヒーレント単色光源を使う干渉計では測定困難なため、定性的な評価やMTF測定だけで評価せざるを得ないことが多い。
このため、コヒーレントな光源を必要としない収差測定器としては、特許文献1に示されるシャックハルトマン方式がレンズ又は反射鏡などの波面収差の測定で使用されている。シャックハルトマン方式は被検光学系で集光された光束をコリメータレンズで平行光とし、その平行光がマイクロレンズアレイに入射する。マイクロレンズアレイを通して瞳分割された複数の像は二次元フォトセンサ上で結像する。二次元フォトセンサで検出した各々の像位置のズレから、被検光学系の収差量が算出される。
特開2003−121300号公報
しかし、撮影レンズのように、多様な焦点距離やFナンバーの被検光学系を測定する場合には問題が生じる。また、可視光領域で使用される撮影レンズでは赤色から紫色までの波長において色収差も生じている。このように多様な被検光学系を測定しようとすると、被検光学系の射出瞳位置も被検光学系によって異なるため、マイクロレンズアレイの位置が被検光学系の入射瞳と共役な射出瞳の位置から大きくずれてしまう。
そこで、本発明の目的は、多様な被検光学系を幅広い波長領域で測定できる収差測定装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、被検光学系の収差を測定する収差測定装置は、被検光学系を照明する点光源と、被検光学系からの光を平行光とするコリメータレンズと、コリメータレンズからの平行光を検出手段上に結像させるマイクロレンズアレイと、被検光学系とマイクロレンズアレイとの間に設けられ被検光学系からの光の焦光点位置にコリメータレンズの光軸を合わせる光軸合わせ光学系と、マイクロレンズアレイによる結像を検出する検出手段と、を備える。
この構成により、光軸合わせ光学系により軸上色収差による位置ずれを防止することができるため、このように多様な被検光学系を測定しても、精度の良い収差測定が可能となる。
この構成により、光軸合わせ光学系により軸上色収差による位置ずれを防止することができるため、このように多様な被検光学系を測定しても、精度の良い収差測定が可能となる。
多様な被検光学系を幅広い波長領域で測定する際でも、精度良い収差測定ができる収差測定装置を提供することができる。
以下に、本発明の実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
<実施形態1>
図1に実施形態1の第1収差測定装置100を示す。
<実施形態1>
図1に実施形態1の第1収差測定装置100を示す。
図1において、第1収差測定装置100は、白色光源である測定光源11、光源用コンデンサーレンズ13、波長選択フィルター15及びピンホール板17を有している。
測定光源11は光源用コンデンサーレンズ13に向けて白色光を照射する。光源用コンデンサーレンズ13を透過した白色光は波長選択フィルター15に入射し、ピンホール板17の開口部17aで集光する。波長選択フィルター15は特定の波長の光、例えば赤色の波長、青色の波長を選択することができる波長フィルターである。ピンホール板17は例えば光学ガラスに開口部17aを除いてクロムを蒸着させた板である。つまり、測定光源11から発した白色光は、波長選択フィルター15により所望の単色光に変換され、ピンホール板17を通過して点光源となる。
第1収差測定装置100は、コリメータレンズ21、平行平板31、コリメータレンズ23、マイクロレンズアレイ41及びCCD等の二次元フォトセンサ43を有している。さらに、第1収差測定装置100は、コンピュータCP及び平行平板31を回転させる回転駆動部33を有している。そして、コリメータレンズ21と平行平板31との間に検査対象である被検レンズSPが設置される。
ピンホール板17を通過した点光源は、コリメータレンズ21により必要な口径を有する平行光となり、被検レンズSPに入射する。被検レンズSPからの射出光は焦点面FPで収斂した後拡大して、光軸合わせ光学系である平行平板31を通過してコリメータレンズ23に入射する。コリメータレンズ23を通過した光は小口径の平行光となり、マイクロレンズアレイ41にて多数の像点に結像される。その結像面にはCCD等の二次元フォトセンサ43が置かれ、マイクロレンズアレイ41によって生成された像点の各々の光量分布を検出する。二次元フォトセンサ43からの信号はコンピュータCP内の画像信号処理部によって演算され、各像点の位置情報が算出される。この像位置のずれ量が波面の局所的な傾斜に対応し、これから横収差(縦収差)、波面収差が計算される。
図1に示されるように、平行平板31は焦点面FPの集光点位置FFからコリメータレンズ23までの拡大光束中に配置されており、回転駆動部33によって回転させられる。平行平板31は石英ガラスからなり、その厚さは3mmから50mm程度である。回転駆動部33はステッピングモータなどから構成され、コンピュータCPからの駆動信号により平行平板31を回転させる。
図1の上段の被検レンズSPは、被検レンズSPの光軸の波面収差を測定する図であり、被検レンズSPの軸外すなわち、ある画角における波面収差の測定であれば、図1の下段に描かれているように、被検レンズSPを光軸から傾ける。そして被検レンズSPの所定波長における集光点位置FFが平行平板31及びコリメータレンズ23の焦点位置にほぼ合致するように、被検レンズSPを光軸方向に平行移動させて測定する。被検レンズSPを光軸方向に平行移動させない場合には、平行平板、コリメータレンズ23、マイクロレンズアレイ41及び二次元フォトセンサ43を光軸方向に平行移動させてもよい。なお、被検レンズSPの焦点面FPと第一収差測定装置100の光軸との交点を「集光点位置」とする。この「集光点位置」は被検レンズSPを光軸から傾けていない場合、被検レンズSPの焦点位置と一致する。
図2は、実施形態1の第1収差測定装置100において、平行平板31を回転させた状態を示した図である。図2(a)はその全体図、(b)は平行平板31周辺の拡大図である。
図2(a)は、被検レンズSPを光軸方向に平行移動させて、600nmの波長の被検レンズSPの集光点位置FF600がこの第1収差測定装置100の光軸上に合った状態である。例えば、被検レンズSPのある画角における波面収差を400nmの波長で測定した後、600nmの波長で波面収差を測定する場合には、被検レンズSPの倍率色収差によって被検レンズSPの集光点位置FFが変わってしまう。
図2(b)において、集光点位置FF400は400nmの波長における被検レンズSPの焦点位置を示している。集光点位置FF600は600nmの波長における被検レンズSPの焦点位置を示したものである。このように、集光点位置FFは400nmから600nmの波長に変わると、被検レンズSPの焦点位置が焦点面FPにおいて集光点位置FF400から集光点位置FF600にシフトする。このため、波長選択フィルター15で所定の波長で波面収差を測定する際に、被検レンズSPの集光点位置FFに応じて、コリメータレンズ23の光軸と被検レンズSPの集光点位置FFとを合わせる必要が生じる。
このため、回転駆動部33が平行平板31を回転させる。集光点位置FF600から拡大する光線(一点鎖線)は、平行平板31によって屈折しコリメータレンズ23に入射する。波長により平行平板31の回転角度を調整することにより、図2(b)に示すように、集光点位置FF400からの光線(点線)と同じように、集光点位置FF600からの光線をコリメータレンズ23の光軸に合わせることができる。
このような第1収差測定装置100において、被検レンズSPのFナンバーがコリメータレンズ23のFナンバーより小さい場合には、被検レンズSPのアパチャーを通過した光束の一部しかコリメータレンズを通過できないので、アパチャー全域の収差測定ができなくなる。このような状態を防ぐため、焦点距離が異なる複数のコリメータレンズ23をターレットなどに保持して、コリメータレンズ23を交換できるようにしてもよい。
以上説明したように、本実施形態によれば、撮影レンズなど幅広い波長の光を透過する被検レンズSPの波面収差を任意の波長で高精度に測定することが可能となる。
<実施形態2>
図3は実施形態2の第2収差測定装置110の図である。図3において、実施形態1の第1収差測定装置100と同じ部材には同じ符号を付している。図4は、平行平板31周辺の拡大図である。
図3は実施形態2の第2収差測定装置110の図である。図3において、実施形態1の第1収差測定装置100と同じ部材には同じ符号を付している。図4は、平行平板31周辺の拡大図である。
図3の第2収差測定装置110は、コリメータレンズ23とマイクロレンズアレイ41との間に平行平板31が配置されている。そして、第2収差測定装置110の光軸に対して直交する方向にコリメータレンズ23が移動可能となっている。コリメータレンズ23をその光軸と直交する方向に移動するため、直線駆動部25が設けられている。この直線駆動部25はステッピングモータなどから構成され、コンピュータCPからの駆動信号によりコリメータレンズ23を直線移動させる。また、平行平板31は実施形態1と同様に回転駆動部33により回転させられる。
図4(a)において、集光点位置FF400は400nmの波長における被検レンズSPの焦点位置を示し集光点位置FF600は600nmの波長における被検レンズSPの焦点位置を示したものである。このように、集光点位置FFは600nmから400nmの波長に変わると、被検レンズSPの焦点位置が焦点面FPにおいて集光点位置FF600から集光点位置FF400にシフトする。集光点位置FF600から拡大する光線(一点鎖線)と集光点位置FF400から拡大する光線(点線)は、コリメータレンズ23に入射する。つまり、波面収差を測定する際に光の波長に応じて被検レンズSPの集光点位置FFとコリメータレンズ23の光軸とを合わせる必要が生じる。
このため、図4(b)に示すように、まず、集光点位置FF600から集光点位置FF400にコリメータレンズ23の光軸を合わす。つまり、被検レンズSPの光軸と直交する方向に直線駆動部25でコリメータレンズ23を移動させる。図4(b)ではコリメータレンズ23は下方向に移動している。この状態では、集光点位置FF400にコリメータレンズ23の光軸が合っているだけで、マイクロレンズアレイ41に入射する平行光は、集光点位置FF400と集光点位置FF600との位置ずれ量だけずれている。
そこで、コリメータレンズ23からの平行光線がマイクロレンズアレイ41に入射するように平行平板31を回転させる。すると、集光点位置FF600からの平行光がマイクロレンズアレイ41に入射する位置と同じ位置に集光点位置FF400からの平行光が入射する。以上により、集光点位置FF600からの光線(一点鎖線)と同じように、集光点位置FF400からの光線(点線)をコリメータレンズ23の光軸に合わせることができる。
実施形態2では、実施形態1と異なり平行平板31を平行光束中に入れたが、このような構成であっても、平行平板31の回転によって倍率色収差を補正することができる。
<実施形態3>
図5は実施形態3の第3収差測定装置120の図である。図5において、実施形態1の第1収差測定装置100と同じ部材には同じ符号を付している。
図5は実施形態3の第3収差測定装置120の図である。図5において、実施形態1の第1収差測定装置100と同じ部材には同じ符号を付している。
図5の第3収差測定装置120は、測定光源11、光源用コンデンサーレンズ13、波長選択フィルター15及びピンホール板17を有している。また、第3収差測定装置120は、コリメータレンズ21、その隣に配置されたビームスプリッタ51、コンデンサーレンズ52及び反射鏡53を有している。また、第3収差測定装置120は、コンデンサーレンズ55、平行平板31、コリメータレンズ23を備えている。さらに第3収差測定装置120は、マイクロレンズアレイ41、二次元フォトセンサ43、コンピュータCP及び回転駆動部33を備えている。
ピンホール板17を通過した点光源は、コリメータレンズ21により必要な口径を有する平行光となりビームスプリッタ51に入射する。ビームスプリッタ51を通過した平行光はコンデンサーレンズ52で収斂されて被検レンズSPの焦点面FPで集光し、その後拡大して被検レンズSPに入射し、被検レンズSPから出射される。無限遠の被検レンズSPの波面収差測定であれば反射鏡53は平面鏡とし、有限の被検レンズSPであれば、反射鏡M1は凸面鏡とする。反射鏡52で反射された光は、被検レンズSPを再び透過し、焦点面FPで一旦集光してから拡大し、コンデンサーレンズ52で平行光になる。
コンデンサーレンズ52からの平行光は、ビームスプリッタ51で反射され、コンデンサーレンズ55で集光される。そして再び集光光は拡大し、平行平板31に入り、コリメータレンズ23で平行光となる。つまり平行平板31は、コンデンサーレンズ55で集光点からコリメータレンズ23までの拡大光束中に配置されている。そしてコリメータレンズ23を通過した光は小口径の平行光となり、マイクロレンズアレイ41にて多数の像点に結像される。その結像は二次元フォトセンサ43で電気信号に変換され、像点の光量分布を検出する。
波長選択フィルター15が例えば波長600nmから波長400nmの光に選択すると、被検レンズSPの結像位置が、倍率色収差分シフトする。この際に、回転駆動部33が平行平板31を回転させると、コンデンサーレンズ55からの光線をコリメータレンズ23の光軸に合わせることができる。この光軸合わせの詳細は、図2で説明したとおりである。
なお、図5において、実線で示される平行平板31は拡大光束中に配置されているが、点線で示す平行平板31はコンデンサーレンズ55の収斂光束中に配置されている。このように、コンデンサーレンズ55の収斂光束中に平行平板31を配置させ、回転駆動部33が収斂光束中の平行平板31を回転させても倍率色収差の距離を調整させることができる。
<実施形態4>
図6は実施形態4の第4収差測定装置130の図である。図6において、実施形態3の第3収差測定装置120と同じ部材には同じ符号を付している。
図6は実施形態4の第4収差測定装置130の図である。図6において、実施形態3の第3収差測定装置120と同じ部材には同じ符号を付している。
図6の第4収差測定装置130は、コンデンサーレンズ55とコリメータレンズ23との間に平行平板31が配置されておらず、コリメータレンズ23とマイクロレンズアレイ41に平行平板31が配置されている。
そして、第4収差測定装置130のコンデンサーレンズ55の光軸に対して直交する方向にコリメータレンズ23が移動可能となっている。コリメータレンズ23をその光軸と直交する方向に移動するため、直線駆動部25が設けられている。この直線駆動部25はコンピュータCPからの駆動信号によりコリメータレンズ23を直線移動させる。また、平行平板31は実施形態3と同様に回転駆動部33により回転させられる。
第4収差測定装置130において、コリメータレンズ23の直線移動と平行平板31の回転は図4で説明した場合と同様である。
なお、実施形態3の第3収差測定装置120においても、実施形態4の第4収差測定装置130においても、被検レンズSPは屈折レンズであった。しかし、被検レンズSPの代わりに被検ミラーSP’であってもよい。すなわち、図6において、被検レンズSP及び反射鏡53を取り外し、その代わりに被検ミラーSP’を配置させればよい。そして被検ミラーSP’の焦点が焦点面FPに一致する位置にこの被検ミラーSP’は配置される。
<平行平板31の回転角度について>
図7は、平行平板31の回転により光軸がどれだけのシフト量δとなるかを示した図である。実施形態1から実施形態4において、平行平板31が回転する角度(θ)について説明する。
図7は、平行平板31の回転により光軸がどれだけのシフト量δとなるかを示した図である。実施形態1から実施形態4において、平行平板31が回転する角度(θ)について説明する。
まず、図7のように平行平板31の境界において光の入射角をθ、射出角をθ’とすると、図から
δ = d×cos(θ) (1)
となり、dはθ及びθ’から
d = t×{tan(θ)−tan(θ’)} (2)
と計算できる。
δ = d×cos(θ) (1)
となり、dはθ及びθ’から
d = t×{tan(θ)−tan(θ’)} (2)
と計算できる。
さらに、平行平板の屈折率をnとすると、スネルの法則から、
sin(θ) =n×sin(θ’) (3)
が成り立つ。
θが十分小さいと仮定して、θの二次以上の項を無視すると、(1)、(2)式より、
δ≒ t×{θ−θ’} (4)
となる。さらに、(3)式より、
δ≒ t・θ・{1−1/n} (5)
が成り立つ。このような計算をコンピュータCPが行い、回転駆動部33に回転量θの信号を送る。
sin(θ) =n×sin(θ’) (3)
が成り立つ。
θが十分小さいと仮定して、θの二次以上の項を無視すると、(1)、(2)式より、
δ≒ t×{θ−θ’} (4)
となる。さらに、(3)式より、
δ≒ t・θ・{1−1/n} (5)
が成り立つ。このような計算をコンピュータCPが行い、回転駆動部33に回転量θの信号を送る。
したがって、被検レンズSPの倍率色収差によって焦点位置がシフトするシフト量(δ)に応じて、平行平板31を回転させることで、被検レンズSPの集光点位置FFとコリメータレンズ23の光軸とを合わせることができる。
<波長選択について>
実施形態1から実施形態4では、白色光源である測定光源11及び波長選択フィルター15を使って波長選択を行った。この構成以外にもLED(Laser Emitting Diode)を使って波長選択を行ってもよい。
実施形態1から実施形態4では、白色光源である測定光源11及び波長選択フィルター15を使って波長選択を行った。この構成以外にもLED(Laser Emitting Diode)を使って波長選択を行ってもよい。
図8は、ターレット板19に異なる波長のLEDを複数配置した図であり、(a)が側面図、(b)がピンホール板17を取り除いた正面図である。
ターレット板19には、ほぼ均等に、350nmの光を照射するLED350、400nmの光を照射するLED350、350nmの光を照射するLED350、350nmの光を照射するLED400、450nmの光を照射するLED450、500nmの光を照射するLED500、550nmの光を照射するLED550、600nmの光を照射するLED600、650nmの光を照射するLED650、及び700nmの光を照射するLED700を配置している。この8つのLEDを備えることで可視光領域をほぼ網羅することができる。また、各LEDとピンホール板17とは近接して配置されている。
コンピュータCPからの信号によりステッピングモータMが回転すると、適切な波長のLEDがピンホール板17を通過して点光源となる。LEDは指向性にすぐれているためLEDとピンホール17との間にレンズなどを挿入していないが、必要であれば、凸レンズを配置してもよい。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
例えば、実施形態1から実施形態4の収差測定装置はマイクロレンズアレイ41を使用したシャックハルトマン方式を説明した。しかし、マイクロレンズアレイ41の代わりに二次元に配列した複数の開口を有するマスクを使用したハルトマン方式の収差測定装置にも適用できる。さらに二次元に配列した複数の開口を有するマスクに位相シフターを取り付けた位相シフトマスクを使用したハルトマン方式の収差測定装置にも適用できる。
例えば、実施形態1から実施形態4の収差測定装置はマイクロレンズアレイ41を使用したシャックハルトマン方式を説明した。しかし、マイクロレンズアレイ41の代わりに二次元に配列した複数の開口を有するマスクを使用したハルトマン方式の収差測定装置にも適用できる。さらに二次元に配列した複数の開口を有するマスクに位相シフターを取り付けた位相シフトマスクを使用したハルトマン方式の収差測定装置にも適用できる。
11 … 測定光源
13 … 光源用コンデンサーレンズ
15 … 波長選択フィルター
17 … ピンホール板
19 … ターレット板
21 … コリメータレンズ
23 … コリメータレンズ
31 … 平行平板
33 … 回転駆動部
41 … マイクロレンズアレイ
43 … 二次元フォトセンサ
51 … ビームスプリッタ、
52 … コンデンサーレンズ
53 … 反射鏡
55 … コンデンサーレンズ、
100 … 第1収差測定装置
110 … 第2収差測定装置
120 … 第3収差測定装置
130 … 第4収差測定装置
CP … コンピュータ
FF … 焦光点位置
FP … 焦点面
SP … 被検光学系(被検レンズ)、SP’… 被検光学系(被検ミラー)、
13 … 光源用コンデンサーレンズ
15 … 波長選択フィルター
17 … ピンホール板
19 … ターレット板
21 … コリメータレンズ
23 … コリメータレンズ
31 … 平行平板
33 … 回転駆動部
41 … マイクロレンズアレイ
43 … 二次元フォトセンサ
51 … ビームスプリッタ、
52 … コンデンサーレンズ
53 … 反射鏡
55 … コンデンサーレンズ、
100 … 第1収差測定装置
110 … 第2収差測定装置
120 … 第3収差測定装置
130 … 第4収差測定装置
CP … コンピュータ
FF … 焦光点位置
FP … 焦点面
SP … 被検光学系(被検レンズ)、SP’… 被検光学系(被検ミラー)、
Claims (7)
- 被検光学系の収差を測定する検出手段を備えた収差測定装置において、
被検光学系を照明する点光源と、
前記被検光学系からの光を平行光とするコリメータレンズと、
前記コリメータレンズからの平行光を前記検出手段上に二次元に分布する複数の光束を形成する光束形成部と、
前記被検光学系と前記光束形成部との間に設けられ、前記被検光学系からの光の焦光点位置に前記コリメータレンズの光軸を合わせる光軸合わせ光学系と、
を備えることを特徴とする収差測定装置。 - 前記光軸合わせ光学系は平行平板ガラスを含み、この平行平板は前記光軸に交差する方向の軸を中心に回転させる回転駆動部を有することを特徴とする請求項1記載の収差測定装置。
- 前記平行平板ガラスは前記被検光学系と前記コリメータレンズとの間に配置されていることを特徴とする請求項2記載の収差測定装置。
- 前記平行平板ガラスは前記コリメータレンズと前記光束形成部との間に配置され、前記コリメータレンズを前記光軸に交差する方向に移動させる駆動部を有することを特徴とする請求項2記載の収差測定装置。
- 前記点光源は、主光源とピンホール板とによって形成され、
前記主光源と前記ピンホールとの間に波長選択フィルターが配置されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の収差測定装置。 - 前記点光源は、主光源とピンホール板とによって形成され、
前記主光源は異なる波長の複数のLEDからなり、この複数のLEDが選択に配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の収差測定装置。 - 前記光束形成部はマイクロレンズアレイ、開口部を有するマスク又は開口部を有する位相シフトマスクを含むことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の収差測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008140957A JP2009288075A (ja) | 2008-05-29 | 2008-05-29 | 収差測定装置及び収差測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008140957A JP2009288075A (ja) | 2008-05-29 | 2008-05-29 | 収差測定装置及び収差測定方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009288075A true JP2009288075A (ja) | 2009-12-10 |
Family
ID=41457428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008140957A Pending JP2009288075A (ja) | 2008-05-29 | 2008-05-29 | 収差測定装置及び収差測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009288075A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011125971A1 (ja) * | 2010-04-05 | 2011-10-13 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置 |
CN102539121A (zh) * | 2012-01-12 | 2012-07-04 | 浙江大学 | 一种圆柱形幕墙建筑的阳光聚焦安全性分析方法 |
JP2016109613A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | 三菱電機株式会社 | 波面収差計測装置 |
CN112556997A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-26 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种大口径光学系统检测方法、装置、设备及存储介质 |
CN114705228A (zh) * | 2022-03-25 | 2022-07-05 | 北京无线电计量测试研究所 | 一种多光束平行激光生成装置、平行准直调节装置及方法 |
-
2008
- 2008-05-29 JP JP2008140957A patent/JP2009288075A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011125971A1 (ja) * | 2010-04-05 | 2011-10-13 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置 |
CN102844651A (zh) * | 2010-04-05 | 2012-12-26 | 株式会社尼康 | 波前像差测定装置 |
US8558996B2 (en) | 2010-04-05 | 2013-10-15 | Nikon Corporation | Wavefront aberration measuring apparatus |
US8687179B2 (en) | 2010-04-05 | 2014-04-01 | Nikon Corporation | Wavefront aberration measuring apparatus |
JP5725018B2 (ja) * | 2010-04-05 | 2015-05-27 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置 |
CN102539121A (zh) * | 2012-01-12 | 2012-07-04 | 浙江大学 | 一种圆柱形幕墙建筑的阳光聚焦安全性分析方法 |
JP2016109613A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | 三菱電機株式会社 | 波面収差計測装置 |
CN112556997A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-26 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种大口径光学系统检测方法、装置、设备及存储介质 |
CN112556997B (zh) * | 2020-11-30 | 2021-10-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种大口径光学系统检测方法、装置、设备及存储介质 |
CN114705228A (zh) * | 2022-03-25 | 2022-07-05 | 北京无线电计量测试研究所 | 一种多光束平行激光生成装置、平行准直调节装置及方法 |
CN114705228B (zh) * | 2022-03-25 | 2024-03-08 | 北京无线电计量测试研究所 | 一种多光束平行激光生成装置、平行准直调节装置及方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9989746B2 (en) | Light microscope and microscopy method | |
US7388696B2 (en) | Diffuser, wavefront source, wavefront sensor and projection exposure apparatus | |
JP6600312B2 (ja) | ビーム伝播カメラ及び光ビーム解析の方法 | |
EP3779556B1 (en) | Optical illumination device | |
JP6370626B2 (ja) | 照明光学系、照明装置、及び照明光学素子 | |
US6693704B1 (en) | Wave surface aberration measurement device, wave surface aberration measurement method, and projection lens fabricated by the device and the method | |
JP2009288075A (ja) | 収差測定装置及び収差測定方法 | |
JP2005098933A (ja) | 収差測定装置 | |
JP2011085432A (ja) | 軸上色収差光学系および三次元形状測定装置 | |
JP3303595B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた観察装置 | |
US10527518B2 (en) | Wavefront measurement device and optical system assembly device | |
EP3460386B1 (en) | Displacement sensor | |
US9442006B2 (en) | Method and apparatus for measuring the shape of a wave-front of an optical radiation field | |
JP2008026049A (ja) | フランジ焦点距離測定装置 | |
US11971531B2 (en) | Method and microscope for determining the thickness of a cover slip or slide | |
JP2010169424A (ja) | 光学性能評価装置 | |
JP2005017127A (ja) | 干渉計および形状測定装置 | |
JP2013195410A (ja) | 検出装置及び検出方法 | |
JP2009288074A (ja) | 収差測定装置 | |
JP2009288076A (ja) | 収差測定装置 | |
JP2006118944A (ja) | レンズの評価装置 | |
JP2003177292A (ja) | レンズの調整装置および調整方法 | |
JP2020076649A (ja) | 分光光学系、分光計測システム、及び、半導体検査方法 | |
KR102315010B1 (ko) | 파라볼릭 미러를 이용한 반사형 fpm | |
KR100738387B1 (ko) | 비축 조사에 의한 파면 측정장치 |