JP2011085432A - 軸上色収差光学系および三次元形状測定装置 - Google Patents

軸上色収差光学系および三次元形状測定装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 波長変動に応じた焦点位置変動に伴う非点収差変動を抑制しどの波長においても解像力が維持できる軸上色収差光学系を提供することを目的とする。
【解決手段】 軸上色収差光学系(10)は、被測定物(S)の三次元形状を測定する三次元形状測定装置(100)に使用される軸上色収差光学系(10)である。そして、軸上色収差を発生させる光学素子(101)と、光学素子(101)の軸上色収差を発生させる面上に配置された開口絞り(102)と、開口絞り(102)と被測定物(S)との間に配置される正のパワーを有する正パワー光学系(103)とを備える。正パワー光学系は、以下の条件を満たす。f・θ<h<f・tanθ
ただし、h:正パワー光学系の像高、f:正パワー光学系の焦点距離、θ:回折光学素子への光束入射角度
【選択図】 図7

Description

本発明は、軸上色収差を有する軸上色収差光学系およびこの軸上色収差光学系を使った三次元形状測定装置に関するものである。
従来、工業製品部品の三次元表面形状を非接触で光学的に精密測定する技術として様々な技術が知られている。その1つとして特許文献1は光学系の軸上色収差を利用して三次元形状を測定する技術を開示している。特許文献1に開示された三次元形状測定装置は、軸上色収差を持たせた投影光学系を用いて、連続スペクトラム光または波長可変光源で何らかのパターンを測定物上に投影結像する。そして、この投影結像を同一設計の光学系で撮像し、パターンの合焦波長と投影光学系の軸上色収差とを比較することで、測定物の表面の微細な凹凸を算出する。特許文献1に開示された三次元形状測定装置は、微細な凹凸を検出することを目的としている。
特開2009−145279号公報
しかし、特許文献1に開示された三次元形状測定装置は、測定物の比較的に深い凹凸、例えば数ミリ以上の段差を測定する場合では十分ではなく、光軸方向(深さ方向)に測定範囲を拡大したい要望が強い。
また、視野角が比較的大きい場合には、波長によって大きな焦点位置変動が発生すると、視野周辺領域において非点収差も変動してしまい、投影光学系の結像性能が悪化する。
そこで、光軸方向の測定範囲の拡大に合せて光軸方向と直交する方向の測定範囲を拡大する場合においても、波長変動に応じた焦点位置変動に伴う非点収差変動を抑制して、解像力が維持できる軸上色収差光学系を提供することを目的とする。また軸上色収差光学系を使った三次元形状測定装置を提供する。
第1態様の軸上色収差光学系は、被測定物の三次元形状を測定する三次元形状測定装置に使用される軸上色収差光学系である。そして、この軸上色収差光学系は軸上色収差を発生させる光学素子と、光学素子の軸上色収差を発生させる面上に配置された開口絞りと、開口絞りと被測定物との間に配置される正のパワーを有する正パワー光学系とを備える。ここで、正パワー光学系は、以下の条件を満たす。
f・θ<h<f・tanθ
ただし、
h:正パワー光学系の像高
f:正パワー光学系の焦点距離
θ:回折光学素子への光束入射角度
第2態様の三次元形状測定装置は、被測定体の三次元形状を測定する三次元形状測定装置である。そして、異なる波長の光を出力することができる光源と、光を透過する領域を有するパターンが所定の方向に沿って繰り返される二次元チャートと、光源から出力された光によって照明された二次元チャートの像を被測定体に投影する第1態様の軸上色収差光学系とを備える。
本発明は、より大きな軸上色収差を有する軸上色収差光学系を実現し、軸上色収差光学系光軸方向の測定範囲をより拡大でき、軸上色収差量の線形性を改善しより広い波長範囲の光を同等に利用でき、波長変動に応じた焦点位置変動に伴う非点収差変動を抑制しどの波長においても解像力が維持できる。
三次元形状測定装置100の構成を説明するための概略図である。 二次元チャート12をスペクトラム光源11の光軸LKに沿って見た平面図である。 回折光学素子101を説明するための図である。 軸上色収差光学系10の軸上色収差について模式的に説明するための図である。 被測定体S上に投影される二次元チャート12の像の合焦位置が波長によって変化することを説明するための図である。 正パワー光学系103を説明するための概略図である。 軸上色収差光学系10の構成を示した図である。 (a)は、波長の700nmである光束LLが軸上色収差光学系10に入射する場合である。 (b)は、波長の600nmである光束LLが軸上色収差光学系10に入射する場合である。 (c)は、波長の500nmである光束LLが軸上色収差光学系10に入射する場合である。 波長が700nmである場合の球面収差、非点収差、歪曲収差を示した図である。 波長が600nmである場合の球面収差、非点収差、歪曲収差を示した図である。 波長が500nmである場合の球面収差、非点収差、歪曲収差を示した図である。 (a)は、波長が700nmである場合において入射角度が10度、7度、0度に対応するスポットダイアグラムを示した図である。 (b)は、波長が600nmである場合において入射角度が10度、7度、0度に対応するスポットダイアグラムを示した図である。 (c)は、波長が500nmである場合において入射角度が10度、7度、0度に対応するスポットダイアグラムを示した図である。 各波長に対する軸上色収差光学系10の軸上色収差発生量を示した図である。
<三次元形状測定装置100の構成>
図1は、三次元形状測定装置100の構成を説明するための概略図である。
図1にされた三次元形状測定装置100は、軸上色収差光学系10と、この軸上色収差光学系10に光束LLを照射するスペクトラム光源11と、二次元チャート12と、コリメータレンズ13と、偏光ビームスプリッタ14と、1/4波長板15とを含んでいる。また、三次元形状測定装置100は軸上色収差光学系10により被測定体Sに照射された光束LLを結像する結像光学系16と、波長帯分岐プリズム17と、第1撮像装置181と、第2撮像装置182と、第3撮像装置183と、制御ユニット19とを有している。さらに、制御ユニット19はスペクトラム光源11と、第1撮像装置181と、第2撮像装置182と、第3撮像装置183とに接続されている。
ここで、軸上色収差光学系10の光軸LKの方向をZ軸方向とし、そのZ軸方向に垂直な平面を被測定体Sの載置されるXY平面として説明する。
スペクトラム光源11は、複数の波長帯域においてそれぞれの中で波長を変えて、複数の部分波長帯(スペクトラム)の光を同時に出力できる光源である。つまり、スペクトラム光源11は各波長帯域の中で波長帯(スペクトラム)を変えて光束LLを出力する。ここで、スペクトラム光源11は、光源装置111と、光源コリメータ112と、拡散素子113と、照明光学系114とを備えている。
光源装置111は、所望の波長帯を有する光束LLを出力する。光源コリメータ112は、光源装置111から出力された光束LLをコリメートし、平行光束とする。拡散素子113は、光束コリメータ112で平行光束とされた光束LLを拡散する。拡散素子113として、例えば拡散板、又はフライアイレンズ等を用いればよい。照明光学系114は、正のパワーを有し、その焦点位置が拡散素子113に一致するよう配置される。
二次元チャート12は、スペクトラム光源11によって照明される。また、二次元チャート12は、拡散素子113が配置された側とは反対側の照明光学系114の焦点位置に配置され、且つ後述のコリメータレンズ13の焦点位置に配置される。図2を参照して、二次元チャート12が有するパターンについて説明する。図2は、二次元チャート12をスペクトラム光源11の光軸LKに沿って見た平面図である。
二次元チャート12には、図2に示されるようにピンホール120が二次元的に配列されている。そして、二次元チャート12では、ピンホール120による二次元パターンが、光軸LKと直交し且つ互いに直交する2つの方向に沿って繰り返される。ピンホール120は、光を透過する透過領域として機能する。
そのほか、二次元チャートにはストライプ状のスリットが所定の方向に沿って配置された縞模様パターンが形成されたものでもよい。
図1に戻り三次元形状測定装置100の構成を説明する。コリメータレンズ13は二次元チャート12の透過領域を通過した光束LLを平行光束にする。図1に示されたように、コリメータレンズ13は正のパワーを有し、軸上色収差及び倍率色収差の両方ともを十分除去するように設計されている。
偏光ビームスプリッタ14は、光束LLのP偏光成分(又はS偏光成分)を透過し、S偏光成分(P偏光成分)を反射する。これにより、偏光ビームスプリッタ14で反射された光束LLは直線偏光化される。偏光ビームスプリッタ14は、反射により光束LLの光路を略90°偏向する。また、偏光ビームスプリッタ14は、被測定体Sでの散乱された後、後述の1/4波長板15を通過した光束LLのうち、所定の直線偏光成分を有する光を透過する。
1/4波長板15は、偏光ビームスプリッタ14で光路が偏向された光束LLを円偏光に変換する。1/4波長板15は、被測定体Sでの散乱光の中の所定の偏光成分光を直線偏光に変換する。このとき、この成分光の偏光面は、偏光ビームスプリッタ14で反射された光束LLの偏光面に対し光軸LKを中心として90°回転しているので、偏光ビームスプリッタ14を透過する。
軸上色収差光学系10は、無限遠共役設計の正のパワーを有する光学系であって、軸上色収差は所定量有しているが、倍率色収差については十分除去されている光学系である。軸上色収差光学系10は、回折光学素子101と開口絞り102と正パワー光学系103とを備える。
回折光学素子101は所定の量の軸上色収差を発生する光学素子である。また、回折光学素子101は正パワー光学系103の焦点面上に設置される。開口絞り102は、回折光学素子101及び正パワー光学系103の間に配置される。正パワー光学系103は、スペクトラム光源11から出力される所定の波長帯域内の光に対して倍率色収差が十分に補正された対物光学系である。正パワー光学系103については、図6以降で詳述する。
図3は、回折光学素子101を説明するための図である。回折光学素子101は例えばホログラフィック素子であり、図3(a)は+Z側から見た回折光学素子101の平面図である。図3(a)に示されたように回折光学素子101は同心円溝パターンを有している。ここで、同心円溝パターンは光軸LKから離れるほど、そのピッチが大きくなり、光軸LKから最も離れている周辺部Pにおいては百本/mm以上のピッチを有している。
図3(b)は、図3(a)に示された回折光学素子101の製造方法を示した図である。ここで、回折光学素子101の基板は光学ガラスの平行平面板であり、+Z側の面に感光剤が塗布されている。ホログラフィー生成は、−Z側からホログラフィー生成用単波長レーザの平行光束を回折光学素子101の基板に一度透過させ、+Z側に配したパラボラミラー304で反射後再び回折光学素子101に戻す。これにより、感光面上に生ずる入射波と反射波との干渉パターンが感光剤に記録される。また、図3(b)における距離Dは回折光学素子101の基板が存在しない場合の、回折面305からパラボラミラー304の焦点Fpまでの距離である。ここで、D=100mm、ホログラフィー生成光源波長はHe−Neレーザ波長の632.8917nmに設定してある。
図3(b)に示したように製造された回折光学素子101は、−Z側から軸上平面波の光を入射すると、ホログラフィー生成光源波長の1次回折光を凸の球面波に変換されて+Z側へ射出することができる。また、回折光学素子101はホログラフィー生成光源波長以外の波長の軸上平面波形状を球面からわずかに変形し、曲率半径が波長の関数となって射出することができる。
再び図1に戻り三次元形状測定装置100の構成を説明する。
結像光学系16には、被測定体Sで散乱され偏光ビームスプリッタ14を通過した散乱光が入射する。結像光学系16によって被測定体Sの像が形成される。結像光学系16は、軸上色収差及び倍率色収差の両方ともを十分除去するように設計されている。
波長帯分岐プリズム17は、被測定体Sで散乱され結像光学系16を通過した二次元チャート12の投影像をスペクトラム光源11が出力する複数の波長帯域の数だけ波長に基づいて分岐する。ここで、波長帯分岐プリズム17は結像光学系16を通過した二次元チャート12の投影像を3つに分岐する3分岐型である。波長帯分岐プリズム17として、例えば3板式カメラに用いられるRGB3色分解プリズムを用いてもよい。
波長帯分岐プリズム17は、例えば第1波長帯域に対応する波長の光を第1撮像装置181に、第2波長帯域に対応する波長の光を第2撮像装置182に、第3波長帯域に対応する波長の光を第3撮像装置183にそれぞれ入射させる。
第1〜第3撮像装置181〜183はいずれも、波長帯分岐プリズム17によって分岐された二次元チャート12の投影像を撮像する。第1〜第3撮像装置181〜183はいずれも、二次元チャート12の投影像を得たときのスペクトラム光源11からの出力光の波長に対応させて、撮像された二次元チャート12の投影像をチャートデータとして制御ユニット19の保存領域に保存する。第1〜第3撮像装置181〜183として、例えばCCDカメラ、CMOSカメラ等を用いてもよい。
制御ユニット19は、制御部191及び解析部192を備える。制御部191は、スペクトラム光源11から出力される光の波長を制御する。
解析部192は、第1〜第3撮像装置181〜183に保存されたチャートデータ及び既知の軸上色収差光学系10の軸上色収差量に基づいて被測定体Sの三次元形状を算出する。
<三次元形状測定装置100による三次元形状測定方法>
次に、三次元形状測定装置100によって被測定体Sの三次元形状を測定する方法を説明する。
図1に示されたように、スペクトラム光源11から複数の波長帯(スペクトラム)を有する光が同時に光束LLとして出力される。光束LLは、二次元チャート12のピンホール120(図2を参照)が繰り返し配置された面を照明する。二次元チャート12を通過した光束LLは、コリメータレンズ13で平行光束にされる。平行光束となった光束LLのうち一部の光(P偏光成分又はS偏光成分)は偏光ビームスプリッタ14で反射され、残り(S偏光成分又はP偏光成分)は偏光ビームスプリッタ14を透過する。偏光ビームスプリッタ14で反射された光束LLは、1/4波長板15を通過する。光束LLは、1/4波長板15を通過する前は直線偏光の光であるが、通過後円偏光に変換されている。1/4波長板15を通過した光束LLは、回折光学素子101、開口絞り102、及び正パワー光学系103を順次に通過して、被測定体Sの表面及びその近傍に合焦する。
軸上色収差光学系10を通過した光束LLは、倍率色収差は十分に除去されている一方、軸上色収差を所定の量だけ発生する。図4を参照して、軸上色収差光学系10の軸上色収差について説明する。図4は、軸上色収差光学系10の軸上色収差について模式的に説明するための図である。図4では、正パワー光学系103の構造を薄肉レンズ系で表現している。図4は、−Z側、すなわち回折光学素子101側から平行光束が入射する場合である。
図4において、回折光学素子101の右側部分において実線で示した光線Lλ0は、光軸LKに平行な光線が回折光学素子101において0次回折によって通過した場合の光線である。すなわち回折作用を受けずに回折光学素子101を素通りした光線であり、波長は関係ない。一方、やはり光軸LKに平行な異なる波長の光線、波長光線Lλ1、Lλ2、Lλ3についての回折光学素子101による1次回折光線も図示する。長波長ほど回折光学素子101によって進行方向が大きく曲げられる。これは短波長ほど大きな角度で屈折される通常の屈折作用とは逆である。また回折作用の方が屈折作用より一般に光線進行方向を大きく曲げることができる。
そして、正パワー光学系103に入射後、波長光線Lλ1、Lλ2、Lλ3は光軸LK上の異なる位置F1、F2、F3に集光する。これらはいずれも0次回折の光線Lλ0の集光点F0より正パワー光学系103から長波長ほど離れた位置にできる。
ここで、回折光学素子101が正パワー光学系103の焦点面(焦点距離f)に位置しているため、回折光学素子101の射出面上の1点から分かれて射出される3つの異なる波長の光線Lλ1、Lλ2、Lλ3は、正パワー光学系103通過後互いに平行を保って進行する。したがって、光線Lλ1、Lλ2、Lλ3の光軸LK上での集光点である位置F1、F2、F3は異なるが、光軸LKとなす角度は3つの光線Lλ1、Lλ2、Lλ3とも同じ角度θである。
回折光学素子101に入射するまで3つの光線Lλ1、Lλ2、Lλ3は、光軸LKに平行な同一光線であるため、焦点距離の定義から軸上色収差光学系10の焦点距離は3つの波長の光線Lλ1、Lλ2、Lλ3いずれについても同一である。よって、正パワー光学系103に残存する微小色収差を無視すれば、軸上色収差光学系10の倍率色収差は存在しないと考えることができる。
したがって、軸上色収差光学系10を通過した光束LLは軸上色収差を示すため、光軸LKに沿って異なる位置(例えば、位置F1、F2、F3等)に合焦する。そして、軸上色収差光学系10を通過した光束LLは、二次元チャート12の像を被測定体S上に投影する。被測定体S上に投影される二次元チャート12の像も、像を投影する光の波長によって焦点位置が異なる。すなわち、被測定体S表面の任意の位置に投影された二次元チャート12の像を考えたとき、当該位置における光軸LK方向での高さ(凹凸量)に応じて二次元チャート12の像が被測定体S表面で合焦する際の波長は異なる。
さらに、図5を参照して、被測定体S上に投影される二次元チャート12の像の合焦位置が波長によって変化することを示す。図5に示されたように、被測定体S上の位置S1には、波長λ1の光束Lλ1が合焦する。被測定体S上の位置S2には、波長λ0の光束Lλ0が合焦する。被測定体S上の位置S3には、波長λ2の光束Lλ2が合焦する。
ここで、被測定体Sに二次元チャート12の像を投影する光束LLは、投影像の部位にかかわらず主光線が軸上色収差光学系10の光軸LKに平行であること、すなわちテレセントリックな像投影を行うことが望ましい。これは、被測定体Sへテレセントリックに二次元チャート12の像を投影することにより、例えば被測定体Sの高さ(凹凸量)が変化しても、被測定体S上に投影される二次元チャート12の像の横ずれは抑制できる。なお、テレセントリックな投影を実現するためには、開口絞り102を軸上色収差光学系10の光源側焦点面上又はその近傍に設置する必要がある。回折光学素子101の位置と正パワー光学系103の光源側焦点面とを一致させることが望ましい。
被測定体S上に投影された二次元チャート12の像は、被測定体Sで散乱される。被測定体Sで散乱された光束LLは、再度軸上色収差光学系10及び1/4波長板15を通過する。1/4波長板15を通過するときに、偏光ビームスプリッタ14で反射された直線偏光と90度回転した直線偏光に変換される。したがって、偏光ビームスプリッタ14によって光束LLが反射されることなく透過していく。すなわち、被測定体Sからの散乱光束LLが散乱前の円偏光状態を保っているほど高い効率で偏光ビームスプリッタ14を透過することになる。偏光ビームスプリッタ14を透過した散乱光束LLは結像光学系16に入射し、結像光学系16によって被測定体Sの像が形成される。
結像光学系16によって形成された被測定体Sの像は、第1〜3撮像装置181〜183の何れかで撮像される。そして、この投影像を得たときのスペクトラム光源11からの出力光の波長に対応させて、撮像された二次元チャート12の投影像を制御ユニット19の保存領域にチャートデータとして保存する。
保存されたチャートデータは、軸上色収差光学系10の色収差量に基づいて、制御ユニット19の解析部192によって処理される。そして、制御ユニット19の解析部192は、被測定体Sの三次元形状を算出する。
つまり、制御ユニット19の解析部192は保存されたチャートデータ及び既知の軸上色収差光学系10の色収差量に基づいて被測定体Sの三次元形状を算出する撮像データ処理部として機能することができる。すなわち、制御ユニット19の解析部192は、スペクトラム光源11から出力された光束LLの波長と二次元チャート12の投影像の強度との関係に基づいて、被測定体S上の任意の位置での合焦波長を求める。また、既知の当該合焦波長についての軸上色収差光学系10の色収差量から被測定体S上の任意の位置における軸上色収差光学系10の光軸LK方向での高さ(凹凸量)を算出して被測定体Sの三次元形状を測定することができる。
<正パワー光学系103の概略>
以下、図6を参照しながら正パワー光学系103について詳述する。図6は、正パワー光学系103を説明するための概略図である。図6では、正パワー光学系103の構造を薄肉レンズ系で表現している。正パワー光学系103は複数のレンズ素子より構成され、図1のZ軸方向で移動したりして焦点位置を変えたりしても像面湾曲の変化の少ない光学系である。正パワー光学系103において、像面湾曲の変化を抑えるように数式(1)の範囲で結像することで対応する。
… (1)
ここで、hは正パワー光学系103の光軸LKから被測定物Sの任意の点までの距離であり、図6のXY平面では、h=√(X+Y)の関係である。fは正パワー光学系103の焦点距離で、θは被測定物S側での光軸LKに対する主光線のなす角である。
そして、数式(1)を満たす光学系を装置に組み込むことで正パワー光学系103を移動して焦点位置を変えたりしても、常に良好な像面湾曲を保ち精度の高い測定が可能とする。ところで、数式(1)の条件を満足する光学系が、どうして良好な収差を保つことができるかを説明する。
収差には、球面収差、コマ収差、非点収差、像面湾曲、歪曲収差などがある。また、比較的大きな被測定物Sを離れたところから測定する場合を想定する。そのため、正パワー光学系103の被測定物S側のFナンバーが比較的大きい。そしてFナンバーを大きなものに限って考えると、上記の収差のうち、重要なのは像面湾曲、非点収差である。球面収差はNAの三乗に比例し、コマ収差は二乗に比例する。そのため、NAが小さければ(Fナンバーが大きい)収差も小さい。一方、像面湾曲、非点収差はNAに比例するのでNAが小さくても無視できない。
そこで、像面湾曲を考えると、ペッツバール和が重要である。良く知られるように、光軸付近の像面湾曲の曲率半径はペッツバール和から計算できるからである。ところで、ペッツバール和は光学系を構成するレンズの屈折率と曲率半径から決まる。そのため、焦点位置を変えてもペッツバール和が変化することはない。焦点位置を変えたときは、非点収差が発生しながら、サジタル、メリジオナルの像面が湾曲して行く。よって、フォーカシングの際、収差の変化を抑えたいなら、非点収差が発生しないようにすれば良い。
まず、正パワー光学系103の投影関係を数式(2)で示す。
… (2)
ここで、gは投影関係を表す関数である。
数式(2)の両辺を微分すると、数式(3)が得られる。
… (3)
また、図6における幾何関係から、数式(4)が成立する。
… (4)
ここで、aは絞りの半径である。物体が光軸方向に移動しても像面湾曲が発生しないということは、物体移動による近軸像点位置の移動と軸外でのメリジョナル像点の移動が一致すればよい。より具体的に説明すると、物体面203の光軸LK外の物点210に対する像点211が、物体面203の光軸LK上の物点220に対する像点221が存在する平面である物体像面204上に存在すればよい。
一般に、光軸LK上での像面移動△zは、ニュートンの公式から数式(5)が成立する。
… (5)
一方、像点211が物体像面204上に存在すると仮定すれば、像面での光線の開き角をα、主光線がΔθ傾いたときの像高の変化をΔhとして、数式(6)が成立する。
… (6)
ここで、メリジョナル像点は非常に細い光束を考えているのでtanα≒sinαとし、式(6)を変形すると、数式(7)が得られる。
… (7)
また、ヘルムホルツ・ラグランジュに対応する関係から、より厳密にはストローベルの定理をメリジョナル面内に適用し、数式(8)の関係があるため、関数gを求めることができる。
… (8)
まず、数式(8)より、数式(9)が得られる。
… (9)
数式(9)を式(7)に代入すると数式(10)となる。
… (10)
また、数式(3)及び数式(5)を式(10)に代入すると、数式(11)が得られる。
… (11)
数式(4)を式(11)に代入して数式(12)が得られる。
… (12)
数式(12)を積分すると、数式(13)が得られる。
… (13)
ここで、Fは第一種楕円積分である。
さらに、数式(13)の解をわかりやすく理解するために、式(12)に近似式を当てはめて解くと、数式(14)によって、数式(15)が得られる。
… (14)
… (15)
以上より、関数gは式(13)として求められ、近似的には式(15)で表される結果が得られた。つまり、このような関数gを式(2)に代入して求められる投影関係を有するように正パワー光学系103を設計すれば、像側のいずれの平面においても像面湾曲の無い光学系を実現することができる。
次に、このような投影関係を有する正パワー光学系103が具体的にどのような関係にあるかを考察する。一般的なftanθレンズにおいて、関数gは、数式(16)に示されたようである。
… (16)
また、一般的なfθレンズにおいて、関数gは数式(17)のようになる。
… (17)
数式(15)を数式(16)及び数式(17)と比較すると、正パワー光学系103の投影関係は、ftanθレンズの投影関係と、fθレンズの投影関係の間の投影関係であることが分かる。およそこの範囲であれば、像側のいずれの平面においても非点収差及び像面湾曲が極めて小さい正パワー光学系103を実現することができる。
以下、正パワー光学系103の具体的なレンズのデータを参照しながら実施例の軸上色収差光学系10について説明する。
(実施例)
実施例の軸上色収差光学系10について、図7〜図10を参照しながら説明する。
図7は、軸上色収差光学系10の構成を示した図である。図7(a)は、波長の700nmである光束LLが軸上色収差光学系10に入射する場合である。図7(b)は、波長の600nmである光束LLが軸上色収差光学系10に入射する場合である。図7(c)は、波長の500nmである光束LLが軸上色収差光学系10に入射する場合である。
図7に示されたように軸上色収差光学系10は、回折光学素子101と、開口絞り102と、10つのレンズより構成された正パワー光学系103とを備える。詳しく説明すると、正パワー光学系103はZ軸方向に沿って順次に−Z側に凸面を向けた凹メニスカスレンズL11と、両凸レンズL12と、+Z側に凸面を向けた凹メニスカスレンズL13と、両凹レンズL14と、両凸レンズL15と、+Z側に凸面を向けた凸メニスカスレンズL16と、−Z側に凸面を向けた凸メニスカスレンズL17と、−Z側に凸面を向けた凸メニスカスレンズL18及び凹メニスカスレンズL19と、−Z側に凸面を向けた凹メニスカスレンズL20とにより構成されている。
図7において、三本の光束LL0、LL1、LL2を例として説明する。実線で示した光束LL0は光軸LKと平行、すなわち入射角度が0度である光である。点線で示した光束LL1は光軸LKとの角度、すなわち入射角度が7度である光である。破線で示した光束LL2は光軸LKとの角度、すなわち入射角度が10度である光である。また、軸上色収差光学系10の焦点距離は85.85mmで、入射瞳径は25mmで、視野半角は10度である。実施例において、視野半角は10度であるため、破線で示した光束LL2により形成された像の高さを100%とする。すると、実施例で実線に示された光束LL0により形成する像の高さは0%である。
具体例において、正パワー光学系103は上述された数式(13)、あるいは、数式(15)を満足する正パワー光学系で、正パワー光学系103を移動したりしても、常に良好な歪曲収差を保ち精度の高い測定が可能である。
表1は、軸上色収差光学系10におけるデータ及び諸元を示す。
表2
表1において、
Rは、曲率半径を示し、
Dは、面の間隔を示し、
ndは、d線の屈折率を示し、
νdは、アッベ数を示している。
また、面*2はホログラフィー回折面・開口絞り面である。
表1及び表2に示された軸上色収差光学系10において、図7(a)に示された波長が700nmである場合では数式(1)の条件を満足する。具体的には表3に示されたようである。
表3は、波長が700nmであるときの具体例である。
表3において、視野半角は10度であるため、破線で示した光束LL2により形成された像の高さ(15.0210mm)は100%である。これに比べると、図7(a)で点線に示された光束LL1により形成された像の高さ(10.5000mm)は約70%である。
また、図8Aは波長が700nmである場合の球面収差、非点収差、歪曲収差を示した図である。図9(a)は波長が700nmである場合において入射角度が10度、7度、0度に対応するスポットダイアグラムを示した図である。図8A及び図9(a)に示されたように、軸上色収差光学系10において非点収差が補正され、画面も平坦となる。
表1及び表2に示された軸上色収差光学系10において、図7(b)に示された波長が600nmである場合では数式(1)の条件を満足する。具体的には表4に示されたようである。
表4は、波長が600nmであるときの具体例である。
表4において、視野半角は10度であるため、破線で示した光束LL2により形成された像の高さ(15.0194mm)は100%である。これに比べると、図7(b)で点線に示された光束LL1により形成された像の高さ(10.5000mm)は約70%である。
また、図8Bは波長が600nmである場合の球面収差、非点収差、歪曲収差を示した図である。図9(b)は波長が600nmである場合において入射角度が10度、7度、0度に対応するスポットダイアグラムを示した図である。図8B及び図9(b)に示されたように、軸上色収差光学系10において非点収差が補正され、画面も平坦となる。
表1及び表2に示された軸上色収差光学系10において、図7(c)に示された波長が500nmである場合では数式(1)の条件を満足する。具体的には表5に示されたようである。
表5は、波長が500nmであるときの具体例である。
表5において、視野半角は10度であるため、破線で示した光束LL2により形成された像の高さ(15.0212mm)は100%である。これに比べると、図7(c)で点線に示された光束LL1により形成された像の高さ(10.5000mm)は約70%である。
また、図8Cは波長が500nmである場合の球面収差、非点収差、歪曲収差を示した図である。図9(c)は波長が500nmである場合において入射角度が10度、7度、0度に対応するスポットダイアグラムを示した図である。
図8C及び図9(c)に示されたように、軸上色収差光学系10において非点収差が補正され、画面も平坦となる。
さらに、図10は図8A〜図8Cに基づいて各波長に対する軸上色収差発生量を示した図である。図10に示されたように、700nmから500nmの波長範囲に対して25.5mm程度の軸上色収差が発生している。これは、屈折レンズで実現できる量よりずっと大きく、且つ波長に対して比較的線形に像面が移動すると言える。すなわち、実効的な使用波長範囲に偏りが生じない。また、表3〜表5に示されたように、像高hは波長が変化してもほとんど変化しない。
以上、本発明の最適な具体例について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において具体例に様々な変更・変形を加えて実施することができる。
10 … 軸上色収差光学系
101 … 回折光学素子、 102 … 開口絞り、 103 … 正パワー光学系
11 … スペクトラム光源
111 … 光源装置、 112 … 光源コリメータ、 113 … 拡散素子、 114 … 照明光学系
12 … 二次元チャート
120 … ピンホール
13 … コリメータ
14 … 偏光ビームスプリッタ
15 … 1/4波長板
16 … 結像光学系
17 … 波長帯分岐プリズム
181 … 第1撮像装置、 182 … 第2撮像装置、 183 … 第3撮像装置
19 … 制御ユニット
191 … 制御部、 192 … 解析部
100 … 三次元形状測定装置
F0、F1、F2、F3、Fp … 焦点
L11〜L20 … レンズ
LK … 光軸
S … 被測定体

Claims (4)

  1. 被測定物の三次元形状を測定する三次元形状測定装置に使用される軸上色収差光学系であって、
    軸上色収差を発生させる光学素子と、
    前記光学素子の前記軸上色収差を発生させる面上に配置された開口絞りと、
    前記開口絞りと前記被測定物との間に配置される正のパワーを有する正パワー光学系と、
    を備え、
    前記正パワー光学系は、以下の条件を満たす軸上色収差光学系。
    f・θ<h<f・tanθ
    ただし、
    h:前記正パワー光学系の像高
    f:前記正パワー光学系の焦点距離
    θ:前記回折光学素子への光束入射角度
  2. 前記正パワー光学系の前側焦点位置は前記正パワー光学系の外側に存在し、この前側焦点位置に前記光学素子が配置される請求項1に記載の軸上色収差光学系。
  3. 前記光学素子は、光軸から離れた周辺部において百本/mm以上のピッチを有する回折光学素子を含む請求項1又は請求項2に記載の軸上色収差光学系。
  4. 被測定体の三次元形状を測定する三次元形状測定装置であって、
    異なる波長の光を出力することができる光源と、
    前記光を透過する領域を有するパターンが所定の方向に沿って繰り返される二次元チャートと、
    前記光源から出力された光によって照明された前記二次元チャートの像を前記被測定体に投影する請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の軸上色収差光学系と、
    を備える三次元形状測定装置。
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