JP7219009B2 - 基板保持装置およびドライブリングの製造方法 - Google Patents
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Description
一態様では、前記接触面の外側領域の周方向における平面度が4.6μm以下であり、前記外側領域は、前記接触面の最も外側の端部を含む領域であることを特徴とする。
一態様では、前記接触面の中間領域の周方向における平面度が4.6μm以下であり、前記中間領域は、前記接触面の最も内側の端部よりも径方向外側に位置し、かつ前記接触面の最も外側の端部よりも径方向内側に位置することを特徴とする。
一態様では、前記ドライブリングの下部には、前記リテーナリングに挿入された複数の補強ピンが固定されており、前記複数の補強ピンは、周方向に沿って互いに離間して配列されていることを特徴とする。
一態様では、前記ドライブリングおよび前記リテーナリングを傾動可能に支持する球面軸受をさらに備えていることを特徴とする。
一態様では、前記ドライブリングの剛性は、前記リテーナリングの剛性よりも大きいことを特徴とする。
2 研磨パッド
2a 研磨面
3 研磨テーブル
3a テーブル軸
5 研磨液供給ノズル
7 膜厚センサ
9 研磨制御部
10 研磨ヘッド本体
11 研磨ヘッドシャフト
12 回転筒
13 モータ
14 タイミングプーリ
16 研磨ヘッド揺動アーム
18 研磨ヘッド用モータ
19 タイミングベルト
20 タイミングプーリ
21 支軸
25 ロータリージョイント
26 軸受
27 上下動機構
28 ブリッジ
29 支持台
30 支柱
32 ボールねじ
32a ねじ軸
32b ナット
38 サーボモータ
40 リテーナリング
40a 下面
40b 上面
40c ねじ穴
41 フランジ
42 スペーサ
43 キャリア
45 弾性膜
50~53 圧力室
60 リテーナリング押圧機構
61 ピストン
62 ローリングダイヤフラム
63 リテーナリング圧力室
75 連結部材
76 軸部
77 ハブ
78 スポーク
79 ねじ
80 駆動ピン
81 ドライブリング
81a 接触面
81b 内側領域
81c 外側領域
81d 中間領域
81f 通孔
82 補強ピン
84 ボルト
85 球面軸受
88 貫通穴
91 中間輪
92,102 外輪
93,101 内輪
124 穴
Claims (6)
- 研磨ヘッド本体と、
前記研磨ヘッド本体の下方に配置されたドライブリングと、
前記ドライブリングに固定されたリテーナリングとを備え、
前記ドライブリングは、前記リテーナリングに接触する環状の接触面を有し、
前記接触面は、前記接触面の最も内側の端部を含む内側領域と、前記接触面の最も外側の端部を含む外側領域と、前記内側領域よりも径方向外側に位置し、かつ前記外側領域よりも径方向内側に位置する中間領域を有し、
前記内側領域、前記中間領域、および前記外側領域の周方向における平面度は4.6μm以下であり、
前記平面度は、最も高い位置と、最も低い位置との高さの差を表すことを特徴とする基板保持装置。 - 前記ドライブリングの下部には、前記リテーナリングに挿入された複数の補強ピンが固定されており、
前記複数の補強ピンは、周方向に沿って互いに離間して配列されていることを特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。 - 前記ドライブリングおよび前記リテーナリングを傾動可能に支持する球面軸受をさらに備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板保持装置。
- 前記ドライブリングの剛性は、前記リテーナリングの剛性よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板保持装置。
- 基板を研磨パッドに押し付けるための基板保持装置に使用されるドライブリングの製造方法であって、
前記ドライブリングの接触面の内側領域、中間領域、および外側領域の周方向における平面度が4.6μm以下となるように前記接触面を研磨し、
前記接触面は、前記基板保持装置に使用されるリテーナリングに接触する環状の接触面であり、
前記内側領域は、前記接触面の最も内側の端部を含む領域であり、
前記外側領域は、前記接触面の最も外側の端部を含む領域であり、
前記中間領域は、前記内側領域よりも径方向外側に位置し、かつ前記外側領域よりも径方向内側に位置するであり、
前記平面度は、最も高い位置と、最も低い位置との高さの差を表すことを特徴とする製造方法。 - 前記内側領域、前記中間領域、および前記外側領域の前記平面度が4.6μm以下となるように前記接触面を研磨する工程は、前記ドライブリングの前記接触面を研削加工し、その後、前記ドライブリングと研磨具との間に砥粒が存在する状態で、前記接触面を前記研磨具に押し付けながら、前記ドライブリングと前記研磨具とを相対運動させることによって、前記内側領域、前記中間領域、および前記外側領域の前記平面度が4.6μm以下になるまで前記接触面を研磨する工程であることを特徴とする請求項5に記載の製造方法。
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