JP7217635B2 - 蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 - Google Patents
蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7217635B2 JP7217635B2 JP2019003250A JP2019003250A JP7217635B2 JP 7217635 B2 JP7217635 B2 JP 7217635B2 JP 2019003250 A JP2019003250 A JP 2019003250A JP 2019003250 A JP2019003250 A JP 2019003250A JP 7217635 B2 JP7217635 B2 JP 7217635B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- vapor deposition
- deposition source
- container
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
10…真空容器
20…基板ホルダ
20c…中心軸
25…回転機構
251…軸部
252…駆動ユニット
30A、30B、30C、30D…蒸着源
30m…蒸着材料
31A、31B…収容容器
31c…中心
31e…外周端
31L…直線
310A、310B…本体部
311、316…仕切部
312…リフレクタ部
313…天板部
313h…貫通孔
314、317…空間
315…台座
32A、32B…蒸発容器
321…上面部
322…本体部
32c…中心線
320…噴出ノズル
320a、320b…配置域
33…加熱機構
60…シャッタ
70…排気機構
90…基板
Claims (18)
- 基板を支持し、前記基板の中心を中心軸として回転する基板ホルダに対向する蒸着源であって、
収容容器と、
前記収容容器に収容された複数の蒸発容器と
を具備し、
前記収容容器は、本体部と、内部に冷媒体が流通する経路が設けられた仕切部と、熱反射板であるリフレクタ部と、前記本体部、前記仕切部、及び前記リフレクタ部を覆う天板部とを有し、
前記本体部は、下部が閉塞され上部が開放された容器であり、前記仕切部と前記リフレクタ部とを収容し、
前記複数の蒸発容器のいずれかは、前記収容容器が前記仕切り部と前記リフレクタ部とによって区分けされた複数の空間のいずれかに収容され、
前記複数の蒸発容器のそれぞれには、蒸着材料を噴出する複数の噴出ノズルが設けられ、
前記複数の蒸発容器のそれぞれにおいて、前記複数の噴出ノズルが配置された配置域の最大長が前記基板の直径よりも短く構成されている
蒸着源。 - 請求項1に記載された蒸着源であって、
前記複数の噴出ノズルから前記蒸着材料が噴出している際には、前記基板ホルダの中心に対する前記収容容器の中心の相対位置が固定されている
蒸着源。 - 請求項1または2に記載された蒸着源であって、
前記配置域は、前記収容容器の中心の周りに複数配置されている
蒸着源。 - 請求項1~3のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の空間のそれぞれは、前記仕切部と前記リフレクタ部とによって、前記収容容器の中心から前記収容容器の外周端に向かって放射状に区分けされている
蒸着源。 - 請求項1~4のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の噴出ノズルは、前記収容容器の中心から前記収容容器の外周端に向かって並設されている
蒸着源。 - 請求項3~5のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の蒸発容器から2つの蒸発容器を選択し、一方の蒸発容器を前記中心を中心として他方の蒸発容器の位置まで公転させた場合、前記一方の蒸発容器に設けられた前記複数の噴出ノズルが前記他方の蒸発容器に設けられた前記複数の噴出ノズルと重複する
蒸着源。 - 請求項1または2に記載された蒸着源であって、
前記配置域は、前記収容容器の中心を含む直線を挟んで複数配置されている
蒸着源。 - 請求項1、2、または7に記載された蒸着源であって、
前記複数の空間のそれぞれは、前記仕切部と前記リフレクタ部とによって、前記収容容器の中心を含む直線を対称に格子状に区分けされている
蒸着源。 - 請求項1、2、7、または8に記載された蒸着源であって、
前記複数の噴出ノズルは、前記蒸発容器の長手方向に並設されている
蒸着源。 - 請求項1、2、7~9のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の蒸発容器から前記中心を挟んで対向する2つの蒸発容器を選択し、一方の蒸発容器を前記中心を中心として他方の蒸発容器の位置まで公転させた場合、前記一方の蒸発容器に設けられた前記複数の噴出ノズルが前記他方の蒸発容器に設けられた前記複数の噴出ノズルと重複する
蒸着源。 - 請求項1、2、7~10のいずれか1つのいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の蒸発容器から前記収容容器の中心を含む直線を挟んで対向する2つの蒸発容器を選択した場合、一方の蒸発容器に設けられた前記複数の噴出ノズルが他方の蒸発容器に設けられた前記複数の噴出ノズルと線対称に配置されている
蒸着源。 - 請求項1~11のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の噴出ノズルから、2つの前記噴出ノズルを選択した場合、前記収容容器の中心により近く配置された噴出ノズルのほうが口径が小さく構成されている
蒸着源。 - 請求項1~12のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の蒸発容器のいずれかにおいて、前記基板ホルダが回転する方向において、少なくとも2つの前記噴出ノズルが並設されている
蒸着源。 - 請求項1~13のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の噴出ノズルのいずれかが前記中心軸に向けて傾いて配置されている
蒸着源。 - 請求項1~14のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の蒸発容器は、前記収容容器から脱着可能に構成されている
蒸着源。 - 請求項1~15のいずれか1つに記載された蒸着源であって、
前記複数の蒸発容器は、誘導加熱方式により加熱される
蒸着源。 - 基板を支持し、前記基板の中心を中心軸として回転する基板ホルダと、
前記基板ホルダに対向し、収容容器と、前記収容容器に収容された複数の蒸発容器とを有し、前記収容容器は、本体部と、内部に冷媒体が流通する経路が設けられた仕切部と、熱反射板であるリフレクタ部と、前記本体部、前記仕切部、及び前記リフレクタ部を覆う天板部とを有し、前記本体部は、下部が閉塞され上部が開放された容器であり、前記仕切部と前記リフレクタ部とを収容し、前記複数の蒸発容器のいずれかは、前記収容容器が前記仕切り部と前記リフレクタ部とによって区分けされた複数の空間のいずれかに収容され、前記複数の蒸発容器のそれぞれには、蒸着材料を噴出する複数の噴出ノズルが設けられ、前記複数の蒸発容器のそれぞれにおいて、前記複数の噴出ノズルが配置された配置域の最大長が前記基板の直径よりも短く構成されている蒸着源と、
前記基板ホルダ及び蒸着源を収容する真空容器と
を具備する成膜装置。 - 基板ホルダに基板を支持し、前記基板の中心を中心軸として前記基板ホルダを回転し、
前記基板ホルダに蒸着源を対向させ、
収容容器と、前記収容容器に収容された複数の蒸発容器とを具備し、前記収容容器は、本体部と、内部に冷媒体が流通する経路が設けられた仕切部と、熱反射板であるリフレクタ部と、前記本体部、前記仕切部、及び前記リフレクタ部を覆う天板部とを有し、前記本体部は、下部が閉塞され上部が開放された容器であり、前記仕切部と前記リフレクタ部とを収容し、前記複数の蒸発容器のいずれかは、前記収容容器が前記仕切り部と前記リフレクタ部とによって区分けされた複数の空間のいずれかに収容され、前記複数の蒸発容器のそれぞれには、蒸着材料を噴出する複数の噴出ノズルが設けられ、前記複数の蒸発容器のそれぞれにおいて、前記複数の噴出ノズルが配置された配置域の最大長が前記基板の直径よりも短く構成された前記蒸着源から前記蒸着材料を蒸発させて、前記基板に膜を形成する
蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019003250A JP7217635B2 (ja) | 2019-01-11 | 2019-01-11 | 蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019003250A JP7217635B2 (ja) | 2019-01-11 | 2019-01-11 | 蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020111787A JP2020111787A (ja) | 2020-07-27 |
JP7217635B2 true JP7217635B2 (ja) | 2023-02-03 |
Family
ID=71668122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019003250A Active JP7217635B2 (ja) | 2019-01-11 | 2019-01-11 | 蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7217635B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005325424A (ja) | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Ulvac Japan Ltd | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 |
JP2015067850A (ja) | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 株式会社日立ハイテクファインシステムズ | 真空蒸着装置 |
JP2015137409A (ja) | 2014-01-23 | 2015-07-30 | スタンレー電気株式会社 | 坩堝及び真空蒸着装置 |
JP2016125091A (ja) | 2014-12-26 | 2016-07-11 | キヤノントッキ株式会社 | 真空蒸着装置 |
-
2019
- 2019-01-11 JP JP2019003250A patent/JP7217635B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005325424A (ja) | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Ulvac Japan Ltd | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 |
JP2015067850A (ja) | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 株式会社日立ハイテクファインシステムズ | 真空蒸着装置 |
JP2015137409A (ja) | 2014-01-23 | 2015-07-30 | スタンレー電気株式会社 | 坩堝及び真空蒸着装置 |
JP2016125091A (ja) | 2014-12-26 | 2016-07-11 | キヤノントッキ株式会社 | 真空蒸着装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020111787A (ja) | 2020-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101188163B1 (ko) | 유기 재료용 증발원 및 유기 증착 장치 | |
JP5140382B2 (ja) | 蒸気放出装置、有機薄膜蒸着装置及び有機薄膜蒸着方法 | |
JP6586535B2 (ja) | 蒸発源及び成膜装置 | |
JP2010261100A (ja) | 蒸着装置 | |
JP2007056330A (ja) | 有機材料の真空蒸着方法およびその装置 | |
JPWO2009034916A1 (ja) | 蒸気放出装置、有機薄膜蒸着装置及び有機薄膜蒸着方法 | |
TWI767935B (zh) | 氣體分配裝置以及基材加工設備 | |
JP6747220B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP7217635B2 (ja) | 蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 | |
JP6715739B2 (ja) | ハースユニット、蒸発源および成膜装置 | |
JP5292963B2 (ja) | 成膜装置およびそれを用いた製造方法 | |
CN107916409B (zh) | 一种零件切换装置以及蒸镀系统 | |
JP7266346B1 (ja) | 成膜装置、成膜方法及びガスノズル | |
JP4555638B2 (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
JP6815153B2 (ja) | 成膜装置 | |
KR20170121775A (ko) | 화학 기상 증착 장치 | |
JP2022120515A (ja) | 真空蒸着装置用の蒸着源及びこの蒸着源を備える真空蒸着装置 | |
JP6570561B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸着源 | |
JP2020132984A (ja) | 真空処理装置及び真空処理方法 | |
JP7223604B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
CN213803969U (zh) | 镀膜机 | |
TWI605150B (zh) | 氣體供應裝置及方法 | |
TW202323555A (zh) | 蒸鍍裝置和蒸鍍方法 | |
WO2013042247A1 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP4165913B2 (ja) | 高周波イオン衝撃装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211026 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20211026 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220921 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7217635 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |