JP2020132984A - 真空処理装置及び真空処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
上記蒸着源は、噴出ノズルを有し、上記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することができる。
上記移動機構は、上記噴出ノズルよりも高さが低く構成され上記噴出ノズルに並ぶ防着板を有し、上記蒸着材料の蒸着処理によって上記防着板に付着した上記蒸着材料を移動させることができる。
このような真空処理装置であれば、噴出ノズルに並ぶ防着板に付着した蒸着材料が移動するので、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
減圧雰囲気で、上記蒸着材料の第1の蒸着処理で上記防着板に付着した上記蒸着材料を上記第1の蒸着処理後の第2の蒸着処理の前に移動させる。
このような真空処理方法であれば、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
10…真空容器
20…基板搬送機構
30…蒸着源
30m、30m1、30m2、30m1'、30m2'…蒸着材料
31…蒸発容器
32、321、322…噴出ノズル
32c…中心軸
33…加熱機構
40A、40B、40C、40D、40F…移動機構
41、401、402、405、406…防着板
42、45、46…本体部
43…金属線
47…アーム
50…支持台
51、52…流路
70…排気機構
90…基板
91…基板ホルダ
92…マスク部材
401n…法線
501…第1領域
502…第2領域
Claims (9)
- 噴出ノズルを有し、前記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することが可能な蒸着源と、
前記噴出ノズルよりも高さが低く構成され前記噴出ノズルに並ぶ防着板を有し、前記蒸着材料の蒸着処理によって前記防着板に付着した前記蒸着材料を移動させることが可能な移動機構と
を具備する真空処理装置。 - 請求項1に記載された真空処置装置であって、
前記移動機構において、前記防着板は、前記蒸着材料が優先的に堆積する部分を有し、前記部分が前記噴出ノズルから遠ざけられる
真空処理装置。 - 請求項1または2に記載された真空処置装置であって、
前記防着板下に前記防着板を支持する支持台をさらに具備し、
前記支持台は、第1領域と、前記第1領域の温度よりも低い温度に維持された第2領域とを有し、
前記第2領域上の前記防着板に、前記蒸着材料が優先的に堆積する
真空処理装置。 - 請求項1〜3のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記噴出ノズルの中心軸は、前記防着板の法線と交差している
真空処理装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記噴出ノズルは、複数の噴出ノズルにより構成され、
前記防着板は、前記複数の噴出ノズルが並設された方向または前記方向と交差する方向に移動する
真空処理装置。 - 請求項1〜5のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記防着板は、積層された複数の防着板からなり、
前記複数の防着板における最上層の防着板が移動する
真空処理装置。 - 請求項1〜5のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記防着板は、積層された複数の防着板からなり、
前記複数の防着板における最上層の防着板と、前記最上層の防着板の下の防着板とが移動し、
前記最上層の防着板と、前記最上層の防着板の下の前記防着板との移動方向が交差する
真空処理装置。 - 請求項2〜7のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記蒸着材料が優先的に堆積する部分が公転する
真空処理装置。 - 噴出ノズルを有し、前記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することが可能な蒸着源に前記噴出ノズルよりも高さが低く構成され防着板を並設し、
減圧雰囲気で、前記蒸着材料の第1の蒸着処理で前記防着板に付着した前記蒸着材料を前記第1の蒸着処理後の第2の蒸着処理の前に移動させる
真空処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019031830A JP2020132984A (ja) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | 真空処理装置及び真空処理方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019031830A JP2020132984A (ja) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | 真空処理装置及び真空処理方法 |
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JP2020132984A true JP2020132984A (ja) | 2020-08-31 |
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ID=72278061
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2019031830A Pending JP2020132984A (ja) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | 真空処理装置及び真空処理方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2020132984A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113265621A (zh) * | 2021-06-22 | 2021-08-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀系统 |
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2019
- 2019-02-25 JP JP2019031830A patent/JP2020132984A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113265621A (zh) * | 2021-06-22 | 2021-08-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀系统 |
CN113265621B (zh) * | 2021-06-22 | 2023-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀系统 |
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