JP7180145B2 - 発光素子アレイ、及び光計測システム - Google Patents
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Description
本発明は、発光素子群の中心側から端部側に向けて発光素子の発光中心軸と発光素子に対応するレンズの中心軸との距離が一定の度合いで大きくなっている構成と比較し、照射面における光量が均一な発光素子アレイなどを提供することを目的とする。
請求項2に記載の発明は、複数の発光素子を含む発光素子群と、前記発光素子の出射面側に当該発光素子ごとに対応して設けられ、当該発光素子との位置関係に基づき当該発光素子からの光を偏向する複数のレンズと、を備え、前記発光素子群における複数の前記発光素子は、第1の配列方向と第2の配列方向とに、予め定められた一定の間隔で二次元に配列され、前記発光素子ごとに対応して設けられる前記レンズの中心軸は、当該発光素子の発光中心軸から前記発光素子群における端部側にずれて設けられ、前記発光素子群の中心側から端部側に向けて、前記発光素子の発光中心軸と当該発光素子に対応する前記レンズの中心軸との距離が大きくなり、かつ当該距離の変化度合いが小さくなるように、前記第1の配列方向において、当該発光素子の当該発光中心軸と当該レンズの当該中心軸との距離を当該発光素子群の中心側から端部側に向けて1/4周期のcos関数で変化させ、前記第2の配列方向において、当該発光素子の発光中心軸と当該レンズの中心軸との距離を当該発光素子群の中心側から端部側に向けて1/4周期のcos関数と線形との平均値で変化させた発光素子アレイである。
請求項3に記載の発明は、複数の前記レンズは、複数の前記発光素子のそれぞれの出射面上に、当該出射面に接して設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の発光素子アレイである。
請求項4に記載の発明は、請求項1又は2に記載の発光素子アレイと、前記発光素子アレイから光が照射された対象物から、反射光を受光する受光素子と、前記受光素子が受光した光に関する情報を処理して、前記発光素子アレイから前記対象物までの距離、又は当該対象物の形状を計測する処理部とを備える光計測システムである。
請求項3に記載の発明によれば、別部材である場合に比べ、アイセーフの機構を設けることを要しない。
請求項4に記載の発明によれば、発光素子群の中心側から端部側に向けて発光素子の発光中心軸と当該発光素子に対応するレンズの中心軸との距離が一定の度合いで大きくなっている構成と比較し、光計測対象物における光量が均一になる。
なお、以下では、アルミニウムをAlとするなど、元素記号を用いて表記する場合がある。
(光計測システム1)
図1は、光計測システム1の一例を示した図である。図1に示すように、紙面の右から左方向をx方向、紙面に垂直な方向をy方向、紙面の下から上方向をz方向とする。図1は、zx平面を示している。
光計測システム1は、発光デバイス10と、受光デバイス20と、処理部30とを備える。そして、光計測システム1に対向して計測対象物2が配置されている。ここでは、計測対象物2は、人である。ここでは、人は、zx平面からy方向に直立している。
なお、受光デバイス20は、撮像デバイスの代わりに、フォトダイオード(PD)であってもよい。
光計測システム1では、発光デバイス10からの出射光が、計測対象物2に照射される。そして、受光デバイス20により計測対象物2から反射光が受光される。処理部30は、受光デバイス20で受光された反射光に関する情報を受け付けて処理することで、計測対象物2までの距離や、計測対象物2の三次元形状などの計測対象物2に関する情報を算出する。
この方法は、光の到達時間を基にした測量法であって、タイムオブフライト(TOF:Time of Flight)法と呼ばれる。
次に発光デバイス10を説明する。
図2は、発光デバイス10を説明する図である。図2では、発光デバイス10の上面図を示している。そして、図2に示すx方向、y方向及びz方向は、図1と同じである。
発光デバイス10は、発光素子アレイ100と駆動回路200と回路基板300とを備える。発光素子アレイ100及び駆動回路200は、回路基板300上に設けられている。なお、図示していないが図1で示した受光デバイス20、処理部30も回路基板300上に設けられていてもよい。
発光素子アレイ100は、複数の発光素子110と発光素子110ごとに設けられた複数のレンズ120とを備える。図2では、一例として、x方向に9個、y方向に9個の81個の発光素子110が、x方向及びy方向に等間隔で配列されて、中心Oとする発光素子群150を構成している。そして、発光素子アレイ100は、それぞれの発光素子110が光を出射する面(出射面)側に、レンズ120を備える。一例として、レンズ120は、同じ形状の凸レンズであるとする。この場合、後述するように、レンズ120は、発光素子110の発光素子アレイ100における位置に基づいて設定された位置に設けられている。そして、レンズ120は、発光素子110の光を出射する出射面(後述する図3における出射面111)を覆うように設けられ、発光素子110が出射面111から出射する光を偏向させる。なお、図2では、発光素子110を示す●は、出射面111である。
また、発光素子110は、垂直共振器面発光レーザVCSELの代わりに、面発光ダイオードLED(Light Emitting Diode)であってもよい。この場合も、一つの基板上に複数の面発光ダイオードLEDをモノリシックに集積してもよく、個別の面発光ダイオードLEDが複数、面発光ダイオードLEDの基板と異なる別の基板上に配列されていてもよい。なお、発光素子110は、端面発光レーザ素子など、端面発光型の発光素子であってもよい。
回路基板300は、板状の絶縁性部材で構成された基体310と、基体310の一方の面に設けられた配線320とを備える。基体310は、例えばガラスエポキシなどで構成されている。そして、配線320は、基体310の一方の面に設けられている。配線320は、基準電圧、例えばGNDを供給する基準配線321と、発光素子アレイ100に発光のための電力を供給する電力配線322とを備える。そして、回路基板300は、電力配線322と発光素子アレイ100とを接続するボンディングワイヤ323を備える。基準配線321、電力配線322は、例えば基体310上に設けられた銅(Cu)箔などで構成され、ボンディングワイヤ323は、アルミニウム(Al)や金(Au)などの線で構成されている。
そして、ボンディングパット領域100Bの配線層419と電力配線322とが、ボンディングワイヤ323で接続されている。ここでは、複数のボンディングワイヤ323を用いて、発光素子110の一例である垂直共振器面発光レーザVCSELを複数並行して発光させる電流量を確保するようにしている。
図3は、発光素子アレイ100の一部の拡大図である。図3(a)は、発光素子アレイ100の一部の上面図、図3(b)は、発光素子アレイ100の一部の断面図である。これらは、図2に示した発光素子アレイ100の右下部分に対応する。
前述したように、発光素子アレイ100は、複数の発光素子110と発光素子110ごとに設けられたレンズ120とを備える。なお、レンズ120は、少なくとも1つの発光素子110ごとに設けられていればよく、例えば、複数の発光素子110ごとに1つのレンズ120が設けられた構成であってもよい。すなわち、「発光素子ごと」とは、「複数の発光素子ごと」を含むものである。ここでは、複数のレンズ120は、同じ形状であるとしたが、互いに異なる形状であってもよい。
発光素子アレイ100のそれぞれの発光素子110は、上面から見た場合、外形が円形に構成されている。そして、円形の中央部が出射面111である。発光素子アレイ100の上面は、出射面111を除いて配線層419で覆われている。なお、発光素子110の外形は、円形でなくともよく、四角形や多角形であってもよい。
ここでは、発光素子アレイ100の発光素子110は、垂直共振器面発光レーザVCSELであるとして説明する。例えばGaAsによるn型の基板410の一方の面(これを、表面と表記する。)上に、n型の下部分布ブラッグ反射層411と、活性層412と、酸化狭窄層413と、p型の上部分布ブラッグ反射層414と、p型のコンタクト層415と、p側電極416と、層間絶縁層417と、出射面保護層418と、配線層419とを備える。なお、分布ブラッグ反射層は、DBR(Distributed Bragg Reflector)層と呼ばれることから、以下では、n型の下部分布ブラッグ反射層411を下部DBR層411と、p型の上部分布ブラッグ反射層414を上部DBR層414と表記する。
下部DBR層411は、屈折率が互いに異なる2つの半導体層が交互に積層されて構成されている。つまり、屈折率が互いに異なる2つの半導体層は、垂直共振器面発光レーザVCSELである発光素子110の発振波長をλ、媒質である半導体層の屈折率をnとした場合、それぞれの膜厚が0.25λ/nとなるように設定されている。このようにすることで、下部DBR層411は、波長λの光を、選択的に反射する反射層、つまり誘電体ミラーとして機能する。
p側電極416は、上面から見た場合に、メサの中心部を囲むように設けられる。p側電極416は、p型であるコンタクト層415とオーミックコンタクトがとりやすい金属材料で構成されている。
次に、発光素子アレイ100の製造方法を説明する。なお、ここでは、発光素子アレイ100は、複数の発光素子110が基板410上に集積された構成であるので、1つの発光素子110の製造方法を説明すれば足りる。よって、以下では、発光素子アレイ100の製造方法を、1つの発光素子110で説明する。
図4は、発光素子110を垂直共振器面発光レーザVCSELであるとした場合の製造方法を説明する図である。図4(a)は、半導体層積層体形成工程、図4(b)は、メサエッチング工程、図4(c)は、酸化領域形成工程、図4(d)は、p側電極形成工程及び層間絶縁層形成工程、図4(e)は、出射面保護層形成工程及びn側電極形成工程、図4(f)は、配線層形成工程及びレンズ形成工程である。
n型の下部DBR層411は、例えば、有機金属気相成長(MOCVD)法により、キャリア濃度が1×1018cm-3のAlAsとGaAsとをそれぞれの膜厚が0.25λ/nとなるように交互に30周期積層して形成されている。なお、図4(a)では、図3と異なり、多層構造で示さない。
なお、酸化狭窄層413は、上部DBR層414の一部としてもよい。
図4(e)の出射面保護層形成工程及びn側電極形成工程における、n側電極形成工程では、基板410の裏面に、n側電極420を形成する。つまり、基板410の裏面側に、n側電極420となる金属材料を真空蒸着などにより堆積する。なお、n側電極420には、n型のGaAsとオーミックコンタクトが形成されやすいAu/Geを用いた。
図4(f)の配線層形成工程及びレンズ形成工程における、レンズ形成工程では、出射面111上にフォトレジストによりレンズ120を形成する。つまり、出射面111上のレンズ120を形成したい部分に、フォトレジストによるレジストパタンP(破線で示す形状)を形成する。そして、フォトレジストの流動温度以上に加熱することにより、レジストパタンPを粘性流動させる。すると、レジストパタンPは、表面張力により、表面が凸形状(実線で示す形状)になりレンズ120が形成される。なお、レンズ120は、発光素子110からの光を透過する材料であれば、粘性流動を生じるフォトレジスト以外の材料を用いて構成してもよい。
図5は、発光素子アレイ100によって光が照射される照射面3における光量を説明する図である。図5(a)は、発光素子アレイ100によって光が照射面3に向けて照射される状態を説明する図、図5(b)は、照射面3における光量を説明する図である。ここでは、レンズ120がない場合を「レンズ無」、レンズ120がある場合を「レンズ有」としている。
つまり、光量は、図5(b)に「レンズ無」と表記したように、中央部31で大きく、端部32に行くに従い、急激に低下する分布となる。
この場合、図7(b)の左側に示すように、照射面3の中央部31の光量が大きい領域が端部32に向けて広がるが、端部32から端部32の外側に向かって光量が変化する割合が緩やかである。
図8(a)の右側のグラフは、図7(b)の右側のグラフと同様に作成されている。x方向の距離ΔXを中心O側から端部側に離れるにつれてcos関数で変化させることで、発光素子群150の中心O側では、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離Δの変化量を大きくし、発光素子群150の端部側では、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離の変化量を小さくしている。例えば、図8(a)の右側のグラフにおいて、ΔX(#6)-ΔX(#5)は、ΔX(#5)-ΔX(#4)より大きい。また、ΔX(#5)-ΔX(#4)は、ΔX(#4)-ΔX(#3)より大きい。つまり、中心O側から左側の番号#1~#5の発光素子110では、変化量ΔX(n+1)-ΔX(n)の変化度合い(変化量の傾き)は、nが増加するにしたがい増加する。一方、中心O側から右側の番号#7~#11の発光素子110では、変化量ΔX(n+1)-ΔX(n)の変化度合い(変化量の傾き)は、nが増加するにしたがい減少する。
これは、発光素子群150の中心O側において、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離Δの変化量を大きくして、照射面3の中央部31に到達する光量を減少させ、発光素子群150の端部側において、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離Δの変化量を小さくして、照射面3の端部32に到達する光量を増加させていることによる。
なお、図8(b)の右側のグラフは、図7(b)の右側のグラフと同様に作成されている。
これにより、図8(b)の左側の図に示すように、図8(a)の左側の図に比べ、照射面3のy方向においても光量が大きい領域が広がるとともに、y方向における端部32から端部32の外側への光量の変化が急峻になっている。これは、発光素子群150の中心O側において、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離Δの変化度合い(変化量の傾き)を大きくして、発光素子群150の端部側において、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離Δの変化度合い(変化量の傾き)を小さくしたことによる。しかし、中央部31において、光量の低下がみられている。
なお、図8(c)の右側のグラフは、図7(b)の右側のグラフと同様に作成されている。
これにより、図8(c)の左側の図に示すように、図8(b)の左側の図に比べ、照射面3の中央部31における光量の低下が抑制され、長方形状に光量が大きい領域が得られている。また、端部32から端部32の外側への光量の変化が急峻になっている。これは、発光素子群150の中心O側において、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離Δの変化度合い(変化量の傾き)を大きくして、発光素子群150の端部側において、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離Δの変化度合い(変化量の傾き)を小さくしたことによる。
第1の実施の形態では、図6に示したように発光素子110の発光中心軸112に対して、レンズ120の中心軸121が発光素子群150の中心O側から端部側に向かうにつれて、発光素子群150の端部側方向にずれていた。
第2の実施の形態では、発光素子110の発光中心軸112に対して、レンズ120の中心軸121が発光素子群150の中心O側から端部側に向かうにつれて、発光素子群150の中心O側方向にずれている。
なお、他の構成は、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
よって、第1の実施の形態と同様に、発光素子110の出射面111上にレンズ120を設け、発光素子群150の中心O側から端部側に向けて、レンズ120の中心軸121と発光素子110の発光中心軸112との距離が大きくなり、且つ距離の変化度合いが小さくなるようにすることで、照射面3において、光量の変化が少ない領域を広くできるとともに、照射面3の端部32と端部32の外側への光量の変化が急峻になる。
第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、レンズ120として、凸レンズを用いた。
第3の実施の形態では、凹レンズであるレンズ130を用いる。
図10は、第3の実施の形態における、発光素子110の出射する光をレンズ130により偏向させる方法の一例を説明する図である。図10(a)は、発光素子アレイ100における発光素子110とレンズ130との関係を説明する図、図10(b)は、発光デバイス10から照射面3に向かう光を説明する図である。図10(a)においても、発光素子110の発光中心軸112の基板410上の位置を●で示し、レンズ130の中心軸131の基板410上の位置を〇で示す。
他の構成は、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
よって、第1の実施の形態と同様に、発光素子110の出射面111にレンズ130を設け、発光素子群150の中心O側から端部側に向けて、レンズ130の中心軸131と発光素子110の発光中心軸112との距離が大きくなり、且つ距離の変化度合いが小さくなるようにすることで、照射面3において、光量の変化が少ない領域を広くできるとともに、照射面3の端部32と端部32の外側への光量の変化が急峻になる。
Claims (4)
- 複数の発光素子を含む発光素子群と、
前記発光素子の出射面側に当該発光素子ごとに対応して設けられ、当該発光素子との位置関係に基づき当該発光素子からの光を偏向する複数のレンズと、を備え、
前記発光素子群における複数の前記発光素子は、第1の配列方向と第2の配列方向とに、予め定められた一定の間隔で二次元に配列され、
前記発光素子ごとに対応して設けられる前記レンズの中心軸は、当該発光素子の発光中心軸から前記発光素子群における端部側にずれて設けられ、
前記第1の配列方向において、前記発光素子群の中心側から端部側に向けて、前記発光素子の前記発光中心軸と当該発光素子に対応する前記レンズの前記中心軸との距離が大きくなり、かつ当該距離の変化度合いが小さくなるように、当該発光素子の当該発光中心軸と当該レンズの当該中心軸との距離を当該発光素子群の中心側から端部側に向けて1/4周期のcos関数で変化させ、
前記第2の配列方向において、前記発光素子群の中心側から端部側に向けて、前記発光素子の前記発光中心軸と当該発光素子に対応する前記レンズの前記中心軸との距離が大きくなるように、当該発光素子の当該発光中心軸と当該レンズの当該中心軸との距離を当該発光素子群の中心側から端部側に向けて線形で変化させた発光素子アレイ。 - 複数の発光素子を含む発光素子群と、
前記発光素子の出射面側に当該発光素子ごとに対応して設けられ、当該発光素子との位置関係に基づき当該発光素子からの光を偏向する複数のレンズと、を備え、
前記発光素子群における複数の前記発光素子は、第1の配列方向と第2の配列方向とに、予め定められた一定の間隔で二次元に配列され、
前記発光素子ごとに対応して設けられる前記レンズの中心軸は、当該発光素子の発光中心軸から前記発光素子群における端部側にずれて設けられ、
前記発光素子群の中心側から端部側に向けて、前記発光素子の発光中心軸と当該発光素子に対応する前記レンズの中心軸との距離が大きくなり、かつ当該距離の変化度合いが小さくなるように、前記第1の配列方向において、当該発光素子の当該発光中心軸と当該レンズの当該中心軸との距離を当該発光素子群の中心側から端部側に向けて1/4周期のcos関数で変化させ、前記第2の配列方向において、当該発光素子の発光中心軸と当該レンズの中心軸との距離を当該発光素子群の中心側から端部側に向けて1/4周期のcos関数と線形との平均値で変化させた発光素子アレイ。 - 複数の前記レンズは、複数の前記発光素子のそれぞれの出射面上に、当該出射面に接して設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の発光素子アレイ。
- 請求項1又は2に記載の発光素子アレイと、
前記発光素子アレイから光が照射された対象物から、反射光を受光する受光素子と、
前記受光素子が受光した光に関する情報を処理して、前記発光素子アレイから前記対象物までの距離、又は当該対象物の形状を計測する処理部と
を備える光計測システム。
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