JP7171886B2 - 積層体、円偏光板、表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、積層体、円偏光板、および、表示装置に関する。

屈折率異方性を持つ位相差膜（光学異方性膜）は、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなど種々の用途に適用されている。
近年、逆波長分散性を示す光学異方性膜の検討がなされている（特許文献１）。なお、逆波長分散性とは、可視光線領域の少なくとも一部の波長領域において、測定波長が長いほど複屈折が大きくなる「負の分散」特性を意味する。

特開２００８－２７３９２５号公報

一方で、従来の光学異方性膜が示す逆波長分散性は必ずしも十分ではなく、更なる改良が必要であった。
より具体的には、例えば、光学異方性膜としてλ／４板（１／４波長板）を例にとると、可視光線領域において面内位相差が測定波長の１／４波長となることが理想となる。しかし、従来の光学異方性膜においては、可視光線領域の長波長側において、理想曲線から外れる傾向にあった。なお、本明細書では、光学特性（面内位相差）が理想曲線に近づくことを、逆波長分散性が優れるという。
本発明は、上記実情に鑑みて、優れた逆波長分散性を示す積層体を提供することを目的とする。
また、本発明は、円偏光板および表示装置を提供することも目的とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果以下の構成により上記目的を達成できることを見出した。

（１） 第１光学異方性膜と、第２光学異方性膜とを含む積層体であって、
第１光学異方性膜および第２光学異方性膜の両方が面内方向に遅相軸を有し、
第１光学異方性膜の遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘと、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙとが異なり、
第１光学異方性膜の遅相軸と第２光学異方性膜の遅相軸とが平行であるか、または、直交している、積層体。
（２） 最大吸光度Ｘが最大吸光度Ｙよりも大きく、
第１光学異方性膜の遅相軸と第２光学異方性膜の遅相軸とが直交しており、
波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜の面内レタデーションが、波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜の面内レタデーションよりも大きく、
第１光学異方性膜が後述する要件１を満たし、
第１光学異方性膜および第２光学異方性膜が後述する要件２および３を満たす、（１）に記載の積層体。
（３） 最大吸光度Ｙが最大吸光度Ｘよりも大きく、
第１光学異方性膜の遅相軸と第２光学異方性膜の遅相軸とが直交しており、
第２光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが、第１光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションよりも小さく、
第１光学異方性膜が後述する要件４および５を満たし、
第１光学異方性膜および第２光学異方性膜が後述する要件６および７を満たす、（１）に記載の積層体。
（４） 最大吸光度Ｙが最大吸光度Ｘよりも大きく、
第１光学異方性膜の遅相軸と第２光学異方性膜の遅相軸とが平行であり、
第１光学異方性膜が後述する要件４および５を満たし、
第２光学異方性膜が後述する要件８および９を満たす、（１）に記載の積層体。
（５） 第１光学異方性膜が、赤外線吸収色素由来の残基を有するポリマー、または、赤外線吸収色素を含む、（１）～（４）のいずれかに記載の積層体。
（６） 第１光学異方性膜が、液晶化合物および赤外線吸収色素を含む組成物を用いて形成された光学異方性膜である、（１）～（５）のいずれかに記載の積層体。
（７） 第１光学異方性膜が、ポリマーおよび赤外線吸収色素を含む延伸フィルムである、（１）～（５）のいずれかに記載の積層体。
（８） 波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１１０～１６０ｎｍである、（１）～（７）のいずれかに記載の積層体。
（９） （８）に記載の積層体と、偏光子とを有する、円偏光板。
（１０） 表示素子と、表示素子上に配置された（９）に記載の円偏光板とを有する、表示装置。
（１１） 後述する要件１０を満たす光学異方性膜であって、
光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、光学異方性膜の遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きい、光学異方性膜。
（１２） 後述する要件１１を満たす光学異方性膜であって、
光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、光学異方性膜の遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも小さい、光学異方性膜。

本発明によれば、優れた逆波長分散性を示す積層体を提供できる。
また、本発明によれば、円偏光板および表示装置を提供できる。

積層体の第１実施態様の断面図である。 積層体の第１実施態様中の光学異方性膜の遅相軸および波長７００～９００ｎｍの吸収の関係を示す図である。 有機分子の屈折率と吸収係数との波長分散特性を示す図である。 所定の吸収特性の有無による異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏとの波長分散の比較を示す図である。 第１光学異方性膜の面内レタデーションおよび第２光学異方性膜の面内レタデーションと、積層体の面内レタデーションとの関係を示す図である。 従来の逆波長分散性を示す光学異方性膜の波長分散と理想の位相差の波長分散との比較を示す図である。 積層体の第２実施態様の断面図である。 積層体の第２実施態様中の光学異方性膜の遅相軸および波長７００～９００ｎｍの吸収の関係を示す図である。 所定の吸収特性の有無による異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏとの波長分散の比較を示す図である。 第１光学異方性膜の面内レタデーションおよび第２光学異方性膜の面内レタデーションと、積層体の面内レタデーションとの関係を示す図である。 積層体の第３実施態様の断面図である。 積層体の第３実施態様中の光学異方性膜の遅相軸および波長７００～９００ｎｍの吸収の関係を示す図である。 第１光学異方性膜の面内レタデーションおよび第２光学異方性膜の面内レタデーションと、積層体の面内レタデーションとの関係を示す図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。また、進相軸および遅相軸は、特別な断りがなければ、５５０ｎｍにおける定義である。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

なお、本明細書では、「可視光線」とは、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の光を意図する。また、「赤外線」とは、波長７００ｎｍ以上の光を意図し、「近赤外線」とは、波長７００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の光を意図し、「紫外線」とは、波長１０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の光を意図する。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」などの角度）、およびその関係（例えば「直交」および「平行」など）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

本明細書において表記される２価の基（例えば、－Ｏ－ＣＯ－）の結合方向は特に制限されず、例えば、Ｘ－Ｌ－Ｙで表される基においてＬが－Ｏ－ＣＯ－である場合、Ｘ側に結合している位置を＊１、Ｙ側に結合している位置を＊２とすると、Ｌは＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよく、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよい。

以下、積層体の構成について詳述する。
なお、積層体の構成の説明においては、実施態様ごとに説明する。

＜実施態様１＞
積層体の第１実施態様としては、第１光学異方性膜と、第２光学異方性膜とを含む積層体であって、第１光学異方性膜および第２光学異方性膜の両方が面内方向に遅相軸を有し、第１光学異方性膜の遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘが、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙよりも大きく、第１光学異方性膜の遅相軸と第２光学異方性膜の遅相軸とが直交しており、波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜の面内レタデーションＲｅ２（５５０）が、波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜の面内レタデーションＲｅ１（５５０）よりも大きく、
第１光学異方性膜が後述する要件１を満たし、
第１光学異方性膜および第２光学異方性膜が後述する要件２および３を満たす積層体が挙げられる。
以下、上記第１実施態様について、図面を用いて説明する。

図１は、積層体の第１実施態様の断面図である。図２は、積層体の第１実施態様中の光学異方性膜の遅相軸および波長７００～９００ｎｍの吸収の関係を示す図である。
積層体１０Ａは、第１光学異方性膜１２Ａと、第２光学異方性膜１４Ａとを含む。
図２においては、第１光学異方性膜１２Ａの面内方向の遅相軸（面内遅相軸）および第２光学異方性膜１４Ａの面内方向の遅相軸をそれぞれ実線の矢印で示す。図２に示すように、第１光学異方性膜１２Ａの遅相軸と第２光学異方性膜１４Ａの遅相軸とは、直交している。

積層体１０Ａにおいては、第１光学異方性膜１２Ａの遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘが、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙよりも大きい。つまり、第１光学異方性膜１２Ａの遅相軸の方向と進相軸の方向とにおける波長７００～９００ｎｍの範囲での最大吸光度を比較した際に、図２の破線の矢印で示すように、第１光学異方性膜１２Ａの遅相軸の方向に平行な方向において、最大吸光度がより大きい。
上記「第１光学異方性膜１２Ａの遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘが、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙよりも大きい」とは、第１光学異方性膜１２Ａの遅相軸に平行な偏光を第１光学異方性膜１２Ａに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、第１光学異方性膜１２Ａの進相軸に平行な偏光を第１光学異方性膜１２Ａに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きいことを意図する。
なお、上記測定は、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。

また、波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ａの面内レタデーション（Ｒｅ２（５５０））が、波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ａの面内レタデーション（Ｒｅ１（５５０））よりも大きい。
Ｒｅ２（５５０）とＲｅ１（５５０）との差（Ｒｅ２（５５０）－Ｒｅ１（５５０））は特に制限されないが、後述するように、得られる積層体１０Ａの面内レタデーションは上記差に該当することから、所望の値に合わせて適宜設定できる。
例えば、積層体１０Ａをλ／４板として用いる場合には、上記差は１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。

Ｒｅ１（５５０）の範囲は特に制限されないが、より優れた逆波長分散性を示す積層体が得られる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、２０～４００ｎｍが好ましく、３０～２００ｎｍがより好ましい。
Ｒｅ２（５５０）の範囲は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１００～５００ｎｍが好ましく、１８０～３００ｎｍがより好ましい。

第１光学異方性膜１２Ａは、要件１を満たす。
要件１：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＜０．９５
Ｒｅ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ａの面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ａの面内レタデーションを表す。
｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝は上記要件１および後述する要件３を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、０．９２以下が好ましく、０．８５以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０．５０以上が好ましく、０．６０以上がより好ましい。

第１光学異方性膜１２Ａおよび第２光学異方性膜１４Ａは、要件２および要件３を満たす。つまり、積層体１０Ａは、要件２および要件３を満たす。
要件２：｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＞｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝
要件３：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＜｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝
Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ａの面内レタデーションを表す。
Ｒｅ２（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ａの面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ａの面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ａの面内レタデーションを表す。

なかでも、第２光学異方性膜１４Ａとしてより汎用的な材料用いることができる点から、第１光学異方性膜１２Ａおよび第２光学異方性膜１４Ａは、要件２－１および要件３－１を満たすことが好ましい。つまり、積層体１０Ａは、要件２－１および要件３－１を満たすことが好ましい。
要件２－１：｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＞｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝≧１．００
要件３－１：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＜｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝≦１．００
Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ａの面内レタデーションを表す。
上記要件２－１は、｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝が、｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝より大きく、かつ、１．００より大きいことを表す。また、上記要件２－１は、｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝が、｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝より小さいが、１．００以上であることを表す。
上記要件３－１は、｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝が、｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝よりも小さく、かつ、１．０より小さいことを表す。また、要件３－１は、｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝が、｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝よりも大きく、かつ、１．００以下であることを表す。

｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝は上記要件２を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、１．０５～１．４０が好ましく、１．０８～１．３０がより好ましい。
｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝は上記要件２を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、１．００～１．１５が好ましく、１．０１～１．１０がより好ましい。

｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝は上記要件３を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、０．９０～１．００が好ましく、０．９５～０．９９がより好ましい。

Ｒｅ２（４５０）とＲｅ１（４５０）との差（Ｒｅ２（４５０）－Ｒｅ１（４５０））は特に制限されないが、Ｒｅ２（４５０）がＲｅ１（４５０）よりも大きいことが好ましい。
Ｒｅ２（６５０）とＲｅ１（６５０）との差（Ｒｅ２（６５０）－Ｒｅ１（６５０））は特に制限されないが、本発明に効果がより優れる点で、Ｒｅ２（６５０）がＲｅ１（６５０）よりも大きいことが好ましい。

上記構成により所定の効果が得られる理由を以下に示す。
まず、一般的な有機分子の屈折率波長分散特性について図３を参照しながら説明する。図３中、上側は波長に対する屈折率の挙動を示し、下側では波長に対する吸収特性の挙動（吸収スペクトル）を示す。
有機分子は、固有吸収波長から離れた領域（図３のａの領域）における屈折率ｎは波長が増すと共に単調に減少する。このような分散は「正常分散」と言われる。これに対して、固有吸収を含む波長域（図３のｂの領域）における屈折率ｎは、波長が増すと共に急激に増加する。このような分散は「異常分散」と言われる。
つまり、図３に示すように、吸収がある波長領域の直前においては屈折率の増減が観察される。

上述した第１光学異方性膜１２Ａにおいては、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きくなる。以後、このような吸収特性を、吸収特性Ｘともいう。後段で詳述するように、上記吸収特性Ｘの達成手段の一つとしては、例えば、第１光学異方性膜１２Ａ中において赤外線吸収色素の吸光度の高い軸方向を遅相軸の方向と平行になるように配置することが挙げられる。
以下に、吸収特性Ｘに関して、一軸性を示す第１光学異方性膜を例に説明する。ただし、第１光学異方性膜は一軸性に限定されるものではない。
吸収特性Ｘを示す光学異方性膜においては、吸収特性Ｘを有さない光学異方性膜よりも、異常光線屈折率がより低下する。
具体的には、図４において、上記吸収特性Ｘの有無による異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏとの波長分散の比較を示す図である。図４中、太線は吸収特性Ｘがない場合の異常光線屈折率ｎｅのカーブを示し、実線は吸収特性Ｘがない場合の常光線屈折率ｎｏのカーブを示す。それに対して、吸収特性Ｘを有する本発明の光学異方性膜においては、上記図４で示したような波長７００～９００ｎｍの吸収に由来する影響を受けて、破線で示すように可視光線領域の長波長領域において異常光線屈折率ｎｅの値がより低下する。結果として、可視光線領域の長波長領域において、異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏとの差である複屈折Δｎがより小さくなる。
つまり、吸収特性Ｘを有する第１光学異方性膜１２Ａにおいては、可視光線領域の長波長領域において、面内レタデーションがより小さくなる傾向となる。

次に、第１光学異方性膜１２Ａの面内レタデーションおよび第２光学異方性膜１４Ａの面内レタデーションと、積層体１０Ａの面内レタデーションとの関係を図５に示す。図５の横軸は波長（ｎｍ）を、縦軸は各波長における面内レタデーション（Ｒｅ）を表す。
図５中、一番上の破線は第２光学異方性膜１４Ａの各波長における面内レタデーションを表し、真ん中の実線は第１光学異方性膜１２Ａの各波長における面内レタデーションを表し、一番下の太線は積層体１０Ａの各波長における面内レタデーションを表す。
上述したように、積層体１０Ａ中において、第１光学異方性膜１２Ａの遅相軸と、第２光学異方性膜１４Ａの遅相軸とは、直交している。２枚の光学異方性膜の遅相軸が直交している場合、積層体の面内レタデーションは、２枚の光学異方性膜の面内レタデーションの差に該当する。つまり、図５中の矢印で示すように、第１光学異方性膜１２Ａの各波長における面内レタデーションと、第２光学異方性膜１４Ａの各波長における面内レタデーションとの差が、積層体１０Ａの各波長における面内レタデーションに該当する。
上述したように、第１光学異方性膜１２Ａにおいては、波長７００～９００ｎｍにおける吸収の影響を受けて、長波長領域の面内レタデーションがより小さくなる。具体的には、図５の破線の丸印で囲んだ長波長領域の面内レタデーションがより小さくなる。そのため、長波長領域における第１光学異方性膜１２Ａの面内レタデーションと第２光学異方性膜１４Ａの面内レタデーションとの差が広がり、結果として、積層体１０Ａの長波長領域の面内レタデーションがより大きくなる。

図６は、測定波長５５０ｎｍでの位相差（Ｒｅ（５５０ｎｍ））を１として規格化した可視光線領域での各波長における位相差（Ｒｅ（λ））の波長分散特性を示す。例えば、上述した理想的なλ／４板は、図６の点線に示すように、位相差が測定波長に対し比例関係にあるため、測定波長が長いほど位相差が大きくなる「負の分散」特性を有する。それに対して、従来の逆波長分散性を示す光学異方性膜は、図６の実線に示すように、短波長領域においては点線で示す理想曲線と重なる位置にもあるが、長波長領域においては理想曲線から外れる傾向を示す場合が多い。
それに対して、上記積層体１０Ａの構成であれば、長波長領域の面内レタデーションがより大きくなり、図６の白抜き矢印で示すように、長波長領域における光学特性を理想曲線に近づけることができる。

第１光学異方性膜１２Ａおよび第２光学異方性膜１４Ａの具体的な構成は、後段で詳述する。
積層体１０ＡのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．６５～０．９６が好ましく、０．７５～０．９５がより好ましい。
積層体１０ＡのＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．０７～１．２５が好ましく、１．１０～１．２０がより好ましい。

積層体１０Ａは、第１光学異方性膜１２Ａおよび第２光学異方性膜１４Ａ以外の他の部材を含んでいてもよい。
例えば、積層体１０Ａは、第１光学異方性膜１２Ａおよび第２光学異方性膜１４Ａの密着性を担保するための密着層を含んでいてもよい。密着層は、公知の材料から構成されていてもよく、公知の接着剤および粘着剤が挙げられる。

また、積層体１０Ａは、支持体を含んでいてよい。
支持体としては、プラスチック基板、および、ガラス基板が挙げられる。プラスチック基板を構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース誘導体、シリコーン樹脂、および、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
支持体としては、透明支持体が好ましい。本明細書において透明というとき、具体的には波長３８０～７８０ｎｍの非偏光透過率（全方位透過率）が５０％以上であればよく、７０％以上であるのが好ましく、８５％以上であるのがより好ましい。
支持体の厚みは、５～１０００μｍ程度であればよく、１０～２５０μｍが好ましく、１５～９０μｍがより好ましい。

積層体１０Ａは、配向膜を含んでいてもよい。
配向膜は、一般的には、ポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマーとしては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手できる。利用されるポリマーは、ポリビニルアルコール、ポリイミド、または、その誘導体が好ましい。
なお、配向膜には、公知のラビング処理が施されることが好ましい。
配向膜の厚みは、０．０１～１０μｍが好ましく、０．０１～１μｍがより好ましい。

積層体１０Ａの製造方法は特に制限されず、例えば、それぞれ用意した第１光学異方性膜１２Ａ、および、第２光学異方性膜１４Ａを接着剤または粘着剤を介して貼り合わせる方法が挙げられる。

＜第２実施態様＞
積層体の第２実施態様としては、第１光学異方性膜と、第２光学異方性膜とを含む積層体であって、第１光学異方性膜および第２光学異方性膜の両方が面内方向に遅相軸を有し、第１光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きく、第１光学異方性膜の遅相軸と第２光学異方性膜の遅相軸とが直交しており、
第２光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが、第１光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションよりも小さく、
第１光学異方性膜が後述する要件４および５を満たし、
第１光学異方性膜および第２光学異方性膜が後述する要件６および７を満たす、積層体が挙げられる。
以下、上記第２実施態様について、図面を用いて説明する。

図７は、積層体の第２実施態様の断面図である。図８は、積層体の第２実施態様中の光学異方性膜の遅相軸および波長７００～９００ｎｍの吸収の関係を示す図である。
積層体１０Ｂは、第１光学異方性膜１２Ｂと、第２光学異方性膜１４Ｂとを含む。
図８においては、第１光学異方性膜１２Ｂの面内方向の遅相軸および第２光学異方性膜１４Ｂの面内方向の遅相軸をそれぞれ実線の矢印で示す。図８に示すように、第１光学異方性膜１２Ｂの遅相軸と第２光学異方性膜１４Ｂの遅相軸とは、直交している。

積層体１０Ｂにおいては、第１光学異方性膜１２Ｂの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きい。つまり、第１光学異方性膜１２Ｂの遅相軸の方向と進相軸の方向とにおける波長７００～９００ｎｍの範囲での最大吸光度を比較した際に、図８の破線の矢印で示すように、第１光学異方性膜１２Ｂの進相軸の方向に平行な方向において、最大吸光度がより大きい。
上記「第１光学異方性膜１２Ｂの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きい」とは、第１光学異方性膜１２Ｂの進相軸に平行な偏光を第１光学異方性膜１２Ｂに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、第１光学異方性膜１２Ｂの遅相軸に平行な偏光を第１光学異方性膜１２Ｂに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きいことを意図する。
なお、上記測定は、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。

また、波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ｂの面内レタデーション（Ｒｅ２（５５０））が、波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｂの面内レタデーション（Ｒｅ１（５５０））よりも小さい。
Ｒｅ１（５５０）とＲｅ２（５５０）との差（Ｒｅ１（５５０）－Ｒｅ２（５５０））は特に制限されないが、後述するように、得られる積層体１０Ｂの面内レタデーションは上記差に該当することから、所望の値に合わせて適宜設定できる。
例えば、積層体１０Ｂをλ／４板として用いる場合には、上記差は１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。

Ｒｅ１（５５０）の範囲は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１００～５００ｎｍが好ましく、１８０～３００ｎｍがより好ましい。
Ｒｅ２（５５０）の範囲は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２０～４００ｎｍが好ましく、３０～２００ｎｍがより好ましい。

第１光学異方性膜１２Ｂは、要件４および５を満たす。
要件４：｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧０．９５
要件５：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧１．０２
Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｂの面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｂの面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｂの面内レタデーションを表す。

｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝は上記要件４および後述する要件６を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、０．９７以上が好ましく、１．００以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１．２０以下が好ましく、１．１０以下がより好ましい。
｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝は上記要件５および後述する要件７を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、１．０３以上が好ましく、１．０５以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１．３０以下が好ましく、１．２０以下がより好ましい。

第１光学異方性膜１２Ｂおよび第２光学異方性膜１４Ｂは、要件６および要件７を満たす。つまり、積層体１０Ｂは、要件２および要件３を満たす。
要件６：｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝＞｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝
要件７：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＞１．００≧｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝
Ｒｅ２（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける第２光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
上記要件７は、｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝が、１．００より大きく、かつ、｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝よりも大きいことを表す。また、要件７は、｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝が、｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝よりも小さく、かつ、１．００以下であることを表す。

｛Ｒ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝は上記要件６を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、１．０５～１．４０が好ましく、１．０８～１．３０がより好ましい。
｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝は上記要件７を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、０．８０～１．００が好ましく、０．９０～０．９７がより好ましい。

Ｒｅ１（４５０）とＲｅ２（４５０）との差（Ｒｅ１（４５０）－Ｒｅ２（４５０））は特に制限されないが、本発明に効果がより優れる点で、Ｒｅ１（４５０）がＲｅ２（４５０）よりも大きいことが好ましい。
Ｒｅ１（６５０）とＲｅ２（６５０）との差（Ｒｅ１（６５０）－Ｒｅ２（６５０））は特に制限されないが、本発明に効果がより優れる点で、Ｒｅ１（６５０）がＲｅ２（６５０）よりも大きいことが好ましい。

上記構成により所定の効果が得られる理由を以下に示す。
上述した第１光学異方性膜１２Ｂにおいては、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きくなる。以後、このような吸収特性を、吸収特性Ｙともいう。後段で詳述するように、上記吸収特性Ｙの達成手段の一つとしては、例えば、第１光学異方性膜１２Ｂ中において赤外線吸収色素の吸光度の高い軸方向を進相軸の方向と平行になるように配置することが挙げられる。
以下に、吸収特性Ｙに関して、一軸性を示す第１光学異方性膜を例に説明する。ただし、第１光学異方性膜は一軸性に限定されるものではない。
吸収特性Ｙを示す光学異方性膜においては、吸収特性Ｙを有さない光学異方性膜よりも、常光線屈折率がより低下する。
具体的には、図９において、上記吸収特性Ｙの有無による異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏとの波長分散の比較を示す図である。図９中、太線は吸収特性Ｙがない場合の異常光線屈折率ｎｅのカーブを示し、実線は吸収特性Ｙがない場合の常光線屈折率ｎｏのカーブを示す。それに対して、吸収特性Ｙを有する光学異方性膜においては、波長７００～９００ｎｍの吸収に由来する影響を受けて、破線で示すように可視光線領域の長波長領域において常光線屈折率ｎｏの値がより低下する。結果として、可視光線領域の長波長領域において、異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏとの差である複屈折Δｎがより大きくなる。
つまり、吸収特性Ｙを有する第１光学異方性膜１２Ｂにおいては、可視光線領域の長波長領域において、面内レタデーションがより大きくなる傾向となる。

次に、第１光学異方性膜１２Ｂの面内レタデーションおよび第２光学異方性膜１４Ｂの面内レタデーションと、積層体１０Ｂの面内レタデーションとの関係を図１０に示す。図１０の横軸は波長（ｎｍ）を、縦軸は各波長における面内レタデーション（Ｒｅ）を表す。
図１０中、一番上の実線は第１光学異方性膜１２Ｂの各波長における面内レタデーションを表し、真ん中の破線は第２光学異方性膜１４Ｂの各波長における面内レタデーションを表し、一番下の太線は積層体１０Ｂの各波長における面内レタデーションを表す。
上述したように、積層体１０Ｂ中において、第１光学異方性膜１２Ｂの遅相軸と、第２光学異方性膜１４Ｂの遅相軸とは、直交している。２枚の光学異方性膜の遅相軸が直交している場合、積層体の面内レタデーションは、２枚の光学異方性膜の面内レタデーションの差に該当する。つまり、図１０中の矢印で示すように、第１光学異方性膜１２Ｂの各波長における面内レタデーションと、第２光学異方性膜１４Ｂの各波長における面内レタデーションとの差が、積層体１０Ｂの各波長における面内レタデーションに該当する。
上述したように、第１光学異方性膜１２Ｂにおいては、波長７００～９００ｎｍにおける吸収の影響を受けて、長波長領域の面内レタデーションがより大きくなる。具体的には、図１０の破線の丸印で囲んだ長波長領域の面内レタデーションがより大きくなる。そのため、長波長領域における第１光学異方性膜１２Ｂの面内レタデーションと第２光学異方性膜１４Ｂの面内レタデーションとの差が広がり、結果として、積層体１０Ｂの長波長領域の面内レタデーションがより大きくなる。
上述したように、従来の逆波長分散性の光学異方性膜は、長波長領域においては理想曲線から外れる傾向を示す場合が多い。
それに対して、上記積層体１０Ｂの構成であれば、長波長領域の面内レタデーションがより大きくなり、図６の白抜き矢印で示すように、長波長領域における光学特性を理想曲線に近づけることができる。

第１光学異方性膜１２Ｂおよび第２光学異方性膜１４Ｂの具体的な構成は、後段で詳述する。
積層体１０ＢのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．６５～０．９６が好ましく、０．７５～０．９３がより好ましい。
積層体１０ＢのＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．０７～１．２５が好ましく、１．１０～１．２０がより好ましい。

積層体１０Ｂは、第１光学異方性膜１２Ｂおよび第２光学異方性膜１４Ｂ以外の他の部材を含んでいてもよい。
例えば、積層体１０Ｂは、第１光学異方性膜１２Ｂおよび第２光学異方性膜１４Ｂの密着性を担保するための密着層を含んでいてもよい。密着層は、公知の材料から構成されていてもよく、公知の接着剤および粘着剤が挙げられる。

また、積層体１０Ｂは、支持体を含んでいてよい。支持体としては、上記第１実施態様で説明した支持体が挙げられる。
積層体１０Ｂは、配向膜を含んでいてもよい。配向膜としては、上記第１実施態様で説明した配向膜が挙げられる。

積層体１０Ｂの製造方法は特に制限されず、例えば、それぞれ用意した第１光学異方性膜１２Ｂ、および、第２光学異方性膜１４Ｂを接着剤または粘着剤を介して貼り合わせる方法が挙げられる。

＜第３実施態様＞
積層体の第３実施態様としては、第１光学異方性膜と、第２光学異方性膜とを含む積層体であって、第１光学異方性膜および第２光学異方性膜の両方が面内方向に遅相軸を有し、第１光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きく、第１光学異方性膜の遅相軸と第２光学異方性膜の遅相軸とが平行であり、
第１光学異方性膜が後述する要件４および５を満たし、
第２光学異方性膜が後述する要件８および９を満たす、積層体が挙げられる。
以下、上記第３実施態様について、図面を用いて説明する。

図１１は、積層体の第３実施態様の断面図である。図１２は、積層体の第３実施態様中の光学異方性膜の遅相軸および波長７００～９００ｎｍの吸収の関係を示す図である。
積層体１０Ｃは、第１光学異方性膜１２Ｃと、第２光学異方性膜１４Ｃとを含む。
図１２においては、第１光学異方性膜１２Ｃの面内方向の遅相軸および第２光学異方性膜１４Ｃの面内方向の遅相軸をそれぞれ実線の矢印で示す。図１２に示すように、第１光学異方性膜１２Ｃの遅相軸と第２光学異方性膜１４Ｃの遅相軸とは、平行である。

積層体１０Ｃにおいては、第１光学異方性膜１２Ｃの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きい。つまり、第１光学異方性膜１２Ｃの遅相軸の方向と進相軸の方向とにおける波長７００～９００ｎｍの範囲での最大吸光度を比較した際に、図１２の破線の矢印で示すように、第１光学異方性膜１２Ｃの進相軸の方向に平行な方向において、最大吸光度がより大きい。
上記「第１光学異方性膜１２Ｃの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きい」とは、第１光学異方性膜１２Ｃの進相軸に平行な偏光を第１光学異方性膜１２Ｃに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、第１光学異方性膜１２Ｃの遅相軸に平行な偏光を第１光学異方性膜１２Ｃに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きいことを意図する。
なお、上記測定は、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。

波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｃの面内レタデーション（Ｒｅ１（５５０））と、波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ｃの面内レタデーション（Ｒｅ２（５５０））との合計値（Ｒｅ１（５５０）＋Ｒｅ２（５５０））は特に制限されないが、後述するように、得られる積層体１０Ｃの面内レタデーションは上記合計値に該当することから、所望の値に合わせて適宜設定できる。
例えば、積層体１０Ｃをλ／４板として用いる場合には、上記合計値は１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。

Ｒｅ１（５５０）の範囲は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２０～２００ｎｍが好ましく、４０～１００ｎｍがより好ましい。
Ｒｅ２（５５０）の範囲は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２０～２００ｎｍが好ましく、４０～１００ｎｍがより好ましい。

第１光学異方性膜１２Ｂは、要件４および５を満たす。
要件４：｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧０．９５
要件５：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧１．０２
Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｃの面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｃの面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける第１光学異方性膜１２Ｃの面内レタデーションを表す。

｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝は上記要件４を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、０．９７以上が好ましく、１．００以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１．２０以下が好ましく、１．１０以下がより好ましい。
｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝は上記要件５を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、１．０３以上が好ましく、１．０５以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１．３０以下が好ましく、１．２０以下がより好ましい。

第２光学異方性膜１４Ｃは、は、要件８および９を満たす。
要件８：｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝＜０．９５
要件９：１．００＜｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝＜１．０８
Ｒｅ２（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ｃの面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ｃの面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける第２光学異方性膜１４Ｃの面内レタデーションを表す。

｛Ｒ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝は上記要件８を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、本発明の効果がより優れる点で、０．９３以下が好ましく、０．８８以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０．５０以上が好ましく、０．６０以上がより好ましい。
｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝は上記要件９を満たせばよいが、本発明の効果がより優れる点で、１．０２～１．０７が好ましく、１．０３～１．０７がより好ましい。

上記構成により所定の効果が得られる理由を以下に示す。
上述した第１光学異方性膜１２Ｃにおいては、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きくなる。
上記第２実施態様で説明した通り、吸収特性Ｙを有する第１光学異方性膜１２Ｃにおいては、可視光線領域の長波長領域において、面内レタデーションがより大きくなる傾向となる。

次に、第１光学異方性膜１２Ｃの面内レタデーションおよび第２光学異方性膜１４Ｃの面内レタデーションと、積層体１０Ｃの面内レタデーションとの関係を図１３に示す。図１３の横軸は波長（ｎｍ）を、縦軸は各波長における面内レタデーション（Ｒｅ）を表す。
図１３中、一番上の太線は積層体１０Ｃの各波長における面内レタデーションを表し、真ん中の実線は第１光学異方性膜１２Ｃの各波長における面内レタデーションを表し、一番下の破線は第２光学異方性膜１４Ｃの各波長における面内レタデーションを表す。
上述したように、積層体１０Ｃ中において、第１光学異方性膜１２Ｃの遅相軸と、第２光学異方性膜１４Ｃの遅相軸とは、平行である。２枚の光学異方性膜の遅相軸が平行である場合、積層体の面内レタデーションは、２枚の光学異方性膜の面内レタデーションの合計値に該当する。
上述したように、第１光学異方性膜１２Ｃにおいては、波長７００～９００ｎｍにおける吸収の影響を受けて、長波長領域の面内レタデーションがより大きくなる。具体的には、図１３の破線の丸印で囲んだ長波長領域の面内レタデーションがもより小さくなる。そのため、長波長領域における第１光学異方性膜１２Ｃの面内レタデーションと第２光学異方性膜１４Ｃの面内レタデーションとの合計値が大きくなり、結果として、積層体１０Ｃの長波長領域の面内レタデーションがより大きくなる。
上述したように、従来の逆波長分散性の光学異方性膜は、長波長領域においては理想曲線から外れる傾向を示す場合が多い。
それに対して、上記積層体１０Ｃの構成であれば、長波長領域の面内レタデーションがより大きくなり、図６の白抜き矢印で示すように、長波長領域における光学特性を理想曲線に近づけることができる。

第１光学異方性膜１２Ｃおよび第２光学異方性膜１４Ｃの具体的な構成は、後段で詳述する。
積層体１０ＣのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．６５～０．９６が好ましく、０．７５～０．９３がより好ましい。
積層体１０ＣのＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．０７～１．２５が好ましく、１．０９～１．２０がより好ましい。

積層体１０Ｃは、第１光学異方性膜１２Ｃおよび第２光学異方性膜１４Ｃ以外の他の部材を含んでいてもよい。
例えば、積層体１０Ｃは、第１光学異方性膜１２Ｃおよび第２光学異方性膜１４Ｃの密着性を担保するための密着層を含んでいてもよい。密着層は、公知の材料から構成されていてもよく、公知の接着剤および粘着剤が挙げられる。

また、積層体１０Ｃは、支持体を含んでいてよい。支持体としては、上記第１実施態様で説明した支持体が挙げられる。
積層体１０Ｃは、配向膜を含んでいてもよい。配向膜としては、上記第１実施態様で説明した配向膜が挙げられる。

積層体１０Ｃの製造方法は特に制限されず、例えば、それぞれ用意した第１光学異方性膜１２Ｃ、および、第２光学異方性膜１４Ｃを接着剤または粘着剤を介して貼り合わせる方法が挙げられる。

＜第１光学異方性膜＞
第１光学異方性膜に含まれる材料は、上記第１実施態様～第３実施態様のそれぞれの要件を満たせば特に制限されないが、赤外線吸収色素由来の残基（以後、単に「赤外線吸収色素残基」ともいう。）を有するポリマー（以後、「特定ポリマー」ともいう。）、または、赤外線吸収色素を含むことが好ましい。
赤外線吸収色素由来の残基とは、赤外線吸収色素から任意の水素原子を除いて得られる基を意味し、例えば、１つの水素原子が除かれた場合は１価の赤外線吸収色素残基となり、２つの水素原子が除かれた場合は２価の赤外線吸収色素残基となる。
特定ポリマーの分子量は特に制限されないが、重量平均分子量が５０００以上であることが好ましく、１００００以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００００００以下の場合が多い。
なお、本明細書においては、赤外線吸収色素には複数の繰り返し単位を有する化合物は含まれない。つまり、特定ポリマーは、赤外線吸収色素とは、別化合物に該当する（言い換えれば、特定ポリマーは、赤外線吸収色素には含まれない）。

なお、第１光学異方性膜が特定ポリマーを含む場合、特定ポリマーを含む組成物を用いて第１光学異方性膜を形成してもよいし、後述する重合性液晶化合物と重合性基を有する赤外線吸収色素とを含む組成物に対して硬化処理を施すことにより第１光学異方性膜を形成してもよい。

第１光学異方性膜は上記特定ポリマーおよび赤外線吸収色素以外の他の成分を含んでいてもよい。
例えば、第１光学異方性膜は、特定ポリマー以外の他のポリマーを含んでいてもよい。他のポリマーとしては公知のポリマーが挙げられ、例えば、シクロオレフィン樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリル樹脂、および、ポリスチレン樹脂が挙げられる。
他のポリマーは、順波長分散性ポリマーであっても、逆波長分散性ポリマーであってもよい。順波長分散性ポリマーとは、そのポリマーを用いて形成される光学異方性膜が順波長分散性を示すポリマーを意味する。順波長分散性とは、測定波長が長いほど面内レタデーションが小さくなる特性を意味する。
逆波長分散性ポリマーとは、そのポリマーを用いて形成される光学異方性膜が逆波長分散性を示すポリマーを意味する。逆波長分散性とは、測定波長が長いほど面内レタデーションが大きくなる特性を意味する。

（好適態様１）
第１光学異方性膜の好適態様の一つとしては、液晶化合物と、赤外線吸収色素とを含む組成物を用いて形成された光学異方性膜が挙げられる。
以下、上記組成物に含まれる成分について説明する。

［赤外線吸収色素］
赤外線吸収色素とは、赤外線領域に極大吸収波長を有する色素である。
赤外線吸収色素の分子量は特に制限されないが、５０００未満が好ましい。下限は特に制限されないが、５００以上の場合が多い。

赤外線吸収色素としては、例えば、ジケトピロロピロール系色素、ジインモニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アゾ系色素、ポリメチン系色素、アントラキノン系色素、ピリリウム系色素、スクアリリウム系色素、トリフェニルメタン系色素、シアニン系色素、および、アミニウム系色素などが挙げられる。
赤外線吸収色素は１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

赤外線吸収色素としては、近赤外線領域に極大吸収波長を有する色素（近赤外線吸収色素）が好ましい。
赤外線吸収色素の極大吸収波長は、本発明の効果がより優れる点で、波長７００～１２００ｎｍの範囲に位置することが好ましく、波長７００～９００ｎｍの範囲に位置することがより好ましい。
本発明の効果がより優れる点で、赤外線吸収色素の波長７００～９００ｎｍの吸光度の積算値は、赤外線吸収色素の波長４００～７００ｎｍの吸光度の積算値よりも大きいことが好ましい。
上記吸光度の積算値とは、Ｘ～Ｙｎｍにおけるそれぞれの波長における吸光度を合計した値である。
上記測定は、分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。

なお、赤外線吸収色素は、二色性色素であることが好ましい。なお、二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。

本発明の効果がより優れる点で、赤外線吸収色素はメソゲン基を有することが好ましい。赤外線吸収色素がメソゲン基を有することにより、後述する液晶化合物と共に配向しやすく、所定の吸収特性の制御がしやすい。
メソゲン基とは、剛直かつ配向性を有する官能基である。メソゲン基の構造としては、例えば、芳香環基（芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基）および脂環基からなる群から選択される基が、複数個、直接または連結基（例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｒ^０）_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＮＲ^０－、または、これらの組み合わせ（例えば、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ^０－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＮＲＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ－、および、－Ｃ≡Ｃ－Ｃ≡Ｃ－）を表す。なお、Ｒ^０は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。）を介して連なった構造が挙げられる。

赤外線吸収色素の好適態様としては、式（１）で表される化合物が挙げられる。
式（１）で表される化合物は、可視光線領域の吸収が少なく、得られる光学異方性膜の着色がより抑制される。また、この化合物はメソゲン基を有する基を含むことから、液晶化合物と共に配向しやすい。
その際、式（１）中のＲ^１４がメソゲン基を有する基である場合、化合物の中心にある窒素原子を含む縮合環部分から横方向に延びる形でメソゲン基を有する基が配置されているため、液晶化合物の配向方向に対して、上記縮合環部分が直交する方向に配列しやすい。結果として、第１光学異方性膜の遅相軸に直交する方向（言い換えれば、進相軸方向）に、縮合環部分に由来する近赤外線領域（特に、波長７００～９００ｎｍ）における吸収が得られやすくなる。
また、式（１）中のＲ^１１がメソゲン基を有する基である場合、窒素原子を含む縮合環部分が液晶化合物の配列方向に並びやすくなる。結果として、第１光学異方性膜の遅相軸に平行な方向に、縮合環部分に由来する近赤外線領域（特に、波長７００～９００ｎｍ）における吸収が得られやすくなる。

Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、Ｒ^１１およびＲ^１２は結合して環を形成してもよい。なお、後述するように、Ｒ^１１はメソゲン基を有する基であってもよい。
置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（例えば、ヘテロアリール基）、シリル基、および、これらを組み合わせた基などが挙げられる。なお、上記置換基は、さらに置換基で置換されていてもよい。
また、置換基として、メソゲン基を有する基も挙げられる。メソゲン基を有する基については、後段で詳述する。

電子吸引性基としては、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値（シグマパラ値）が正の置換基を表し、例えば、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スルフィニル基、および、ヘテロ環基が挙げられる。
これら電子吸引性基はさらに置換されていてもよい。
ハメットの置換基定数σ値について説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編、「Ｌａｎｇｅ’ｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版，１９７９年（Ｍｃ Ｇｒａｗ－Ｈｉｌｌ）や「化学の領域」増刊，１２２号，９６～１０３頁，１９７９年（南光堂）、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９１年，９１巻，１６５～１９５ページなどに詳しい。本発明において電子吸引性基としては、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の置換基が好ましい。σｐ値としては、０．２５以上が好ましく、０．３０以上がより好ましく、０．３５以上がさらに好ましい。上限は特に制限はないが、０．８０以下が好ましい。
具体例としては、シアノ基（０．６６）、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ：０．４５）、アルコキシカルボニル基（－ＣＯＯＭｅ：０．４５）、アリールオキシカルボニル基（－ＣＯＯＰｈ：０．４４）、カルバモイル基（－ＣＯＮＨ_２：０．３６）、アルキルカルボニル基（－ＣＯＭｅ：０．５０）、アリールカルボニル基（－ＣＯＰｈ：０．４３）、アルキルスルホニル基（－ＳＯ_２Ｍｅ：０．７２）、および、アリールスルホニル基（－ＳＯ_２Ｐｈ：０．６８）が挙げられる。
本明細書において、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、括弧内の値は代表的な置換基のσｐ値をＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９１年，９１巻，１６５～１９５ページから抜粋したものである。

Ｒ^１１およびＲ^１２が結合して環を形成する場合は、５～７員環（好ましくは５～６員環）の環を形成し、形成される環としては通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるものが好ましい。
Ｒ^１１およびＲ^１２が結合して形成される環としては、１，３－ジカルボニル核、ピラゾリノン核、２，４，６－トリケトヘキサヒドロピリミジン核（チオケトン体も含む）、２－チオ－２，４－チアゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－オキサゾリジンジオン核、２－チオ－２，５－チアゾリジンジオン核、２，４－チアゾリジンジオン核、２，４－イミダゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－イミダゾリジンジオン核、２－イミダゾリン－５－オン核、３，５－ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン－３－オン核、またはインダノン核が好ましい。

Ｒ^１１は、ヘテロ環基であることが好ましく、芳香族ヘテロ環基であることがより好ましい。ヘテロ環基は、単環であっても、多環であってもよい。ヘテロ環基としては、ピラゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、イミダゾール環基、オキサジアゾール環基、チアジアゾール環基、トリアゾール環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、これらのベンゾ縮環基（例えば、ベンゾチアゾール環基、ベンゾピラジン環基）もしくはナフト縮環基、または、これら縮環の複合体が好ましい。
上記ヘテロ環基には、置換基が置換していてもよい。置換基としては、上述したＲ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した置換基の例が挙げられる。

Ｒ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素（－Ｂ（Ｒａ）_２、Ｒａは置換基を表す）または金属原子を表し、Ｒ^１１と共有結合または配位結合していてもよい。
Ｒ^１３で表される置換ホウ素の置換基は、Ｒ^１１およびＲ^１２について上述した置換基と同義であり、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が好ましい。置換ホウ素の置換基（例えば、上述した、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基）は、さらに置換基で置換されていてもよい。置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した基が挙げられる。
また、Ｒ^１３で表される金属原子は、遷移金属原子、マグネシウム原子、アルミニウム原子、カルシウム原子、バリウム原子、亜鉛原子、または、スズ原子が好ましく、アルミニウム原子、亜鉛原子、スズ原子、バナジウム原子、鉄原子、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子、パラジウム原子、イリジウム原子、または、白金原子がより好ましい。

Ｒ^１４は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基、または、メソゲン基を有する基を表す。メソゲン基の定義は、上述した通りである。

メソゲン基を有する基は、式（２）で表される基であることが好ましい。＊は、結合位置を表す。
式（２） ＊－Ｍ^１－（Ｘ^１－Ｍ^２）_ｎ－Ｘ^２－Ｐ
Ｍ^１は、置換もしくは無置換のアリーレン基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリーレン基を表す。アリーレン基としては、フェニレン基が挙げられる。ヘテロアリーレン基としては、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、これらのベンゾ縮環（例えば、ベンゾチアゾール環、ベンゾピラジン環）もしくはナフト縮環、または、これら縮環の複合体から任意の２つの水素原子を除いた２価の基が挙げられる。上記アリーレン基および上記ヘテロアリーレン基が置換基を有する場合、置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した基が挙げられる。
Ｘ^１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｒ^０）_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＮＲ^０－、または、これらの組み合わせ（例えば、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ^０－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＮＲＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ－、および、－Ｃ≡Ｃ－Ｃ≡Ｃ－）を表す。Ｒ^０は、水素原子または炭素数１～５のアルキル基を表す。
Ｍ^２は、置換もしくは無置換のアリーレン基、置換もしくは無置換のヘテロアリーレン基、または、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基を表す。アリーレン基としては、フェニレン基が挙げられる。ヘテロアリーレン基としては、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、これらのベンゾ縮環（例えば、ベンゾチアゾール環、ベンゾピラジン環）もしくはナフト縮環、または、これら縮環の複合体から任意の２つの水素原子を除いた２価の基が挙げられる。シクロアルキレン基に含まれる炭素数は、５～７が好ましい。上記アリーレン基、上記ヘテロアリーレン基、および、上記シクロアルキレン基が置換基を有する場合、置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した基が挙げられる。
Ｘ^２は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基（例えば、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数１～１０のアルケニレン基、および、炭素数１～１０のアルキニレン基などの２価の脂肪族炭化水素基、アリーレン基などの２価の芳香族炭化水素基）、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、－ＣＯ－、または、これらを組み合わせた基（例えば、－Ｏ－２価の炭化水素基－、－（Ｏ－２価の炭化水素基）_ｍ－Ｏ－（ｍは、１以上の整数を表す）、および、－２価の炭化水素基－Ｏ－ＣＯ－など）が挙げられる。Ｑは、水素原子またはアルキル基を表す。
ｎは１～１０を表す。なかでも、１～５が好ましく、２～４がより好ましい。
Ｐは、水素原子、または、重合性基を表す。重合性基の定義は、後述する液晶化合物が有していてもよい重合性基の定義と同義である。

式（２）で表される化合物においては、Ｒ^１１およびＲ^１４のいずれか一方がメソゲン基を有する基であることが好ましい。例えば、２つのＲ^１１がメソゲン基を有する基であるか、２つのＲ^１４がメソゲン基を有する基であることが好ましい。

Ｒ^１１～Ｒ^１４で表される各基は、さらに置換基を有していてもよい。例えば、Ｒ^１４で表されるアリール基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した基が挙げられる。

赤外線吸収色素は、式（３）で表される化合物であることがより好ましい。

Ｒ^１４の定義は、上述した通りである。
Ｒ^２２は、それぞれ独立に、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、または、含窒素ヘテロアリール基を表す。
Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、または、式（４）で表される基を表し、Ｒ^１５およびＲ^１６は結合して環を形成してよい。形成される環としては、炭素数５～１０の脂環、炭素数６～１０の芳香族炭化水素環、または、炭素数３～１０の芳香族複素環が挙げられる。Ｒ^１５およびＲ^１６が結合して形成される環には、さらに置換基が置換していてもよい。置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基の説明で例示した基、および、式（４）で表される基が挙げられる。
式（４） －（Ｘ^１－Ｍ^２）_ｎ－Ｘ^２－Ｐ
式（４）中の各基の定義は、上述した式（２）中の各基と同義である。
Ｒ^１７およびＲ^１８は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表す。Ｒ^１７およびＲ^１８で表される基には、さらに置換基が置換してもよい。置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基の説明で例示した基が挙げられる。
Ｘは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ－、－ＣＲＲ’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、または、－Ｎ＝ＣＨ－を表し、ＲおよびＲ’は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、または、アリール基を表す。
なかでも、式（３）で表される化合物の好適態様としては、Ｒ^１４がメソゲン基を有する基である態様、および、Ｒ^１５およびＲ^１６が結合して環を形成し、上記環に置換基として式（４）で表される基が置換する態様が挙げられる。

組成物中における赤外線吸収色素の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、液晶化合物全質量に対して、５～７０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましい。

［液晶化合物］
液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物。ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。なお、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。

液晶化合物の極大吸収波長の位置は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、紫外線領域に位置することが好ましい。

液晶化合物は、順波長分散性液晶化合物であってもよいし、逆波長分散性液晶化合物であってもよい。
順波長分散性液晶化合物とは、その化合物を用いて形成される光学異方性膜の面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなるような化合物を意味する。
逆波長分散性液晶化合物とは、その化合物を用いて形成される光学異方性膜の面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる化合物を意味する。

光学特性の温度変化および湿度変化を小さくできることから、液晶化合物としては、重合性基を有する液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物」ともいう。）が好ましい。液晶化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合、少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、光学異方性膜は、重合性液晶化合物を含む組成物が重合などによって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
上記重合性基の種類は特に制限されず、ラジカル重合またはカチオン重合が可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタアクリロイル基が好ましい。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などが挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基またはビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に、好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。

組成物中における液晶化合物の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。
なお、組成物中の全固形分には、溶媒は含まれない。つまり、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分を意味する。

上記組成物は、上述した赤外線吸収色素、および、液晶化合物以外の成分を含んでいてもよい。
組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
組成物中における重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

また、組成物は、重合性モノマーを含んでいてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。なかでも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。また、重合性モノマーとしては、上記の重合性基を有する液晶化合物と共重合性のモノマーが好ましい。例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落００１８～００２０に記載の重合性モノマーが挙げられる。
組成物中における重合性モノマーの含有量は、液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、２～３０質量％がより好ましい。

また、組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。例えば、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落００２８～００５６に記載の化合物、および、特願２００３－２９５２１２号明細書中の段落００６９～０１２６に記載の化合物が挙げられる。

また、組成物は、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、アミド（例：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例：ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例：ピリジン）、炭化水素（例：ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例：クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例：アセトン、メチルエチルケトン）、および、エーテル（例：テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン）が挙げられる。なお、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

また、組成物は、垂直配向剤、および、水平配向剤などの各種配向制御剤を含んでいてもよい。垂直配向剤は、界面側において液晶化合物を垂直に配向制御可能な化合物である。水平配向剤は、界面側において液晶化合物を水平に配向制御可能な化合物である。

組成物は、レベリング剤を含むことが好ましい。
レベリング剤は特に制限されず、フッ素原子を含むレベリング剤（フッ素系レベリング剤）、または、ケイ素原子を含むレベリング剤（ケイ素系レベリング剤）が好ましく、フッ素系レベリング剤がより好ましい。

上記組成物を用いた第１光学異方性膜の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
なかでも、レタデーションの制御がしやすい点から、重合性液晶化合物および赤外線吸収色素を含む組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向（水平配向）させ、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施して、第１光学異方性膜を形成する方法が好ましい。
つまり、第１光学異方性膜は、水平配向した液晶化合物（特に、重合性液晶化合物）を固定してなる膜であることが好ましい。
以下、上記方法の手順について詳述する。

まず、支持体上に、組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させる。
使用される組成物は、重合性液晶化合物および赤外線吸収色素を含む。重合性液晶化合物および赤外線吸収色素の定義は、上述した通りである。

使用される支持体は、組成物を塗布するための基材として機能を有する部材である。支持体は、組成物を塗布および硬化させた後に剥離される仮支持体であってもよい。
支持体（仮支持体）としては、プラスチック基板、および、ガラス基板が挙げられる。プラスチック基板を構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース誘導体、シリコーン樹脂、および、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
支持体の厚みは、５～１０００μｍ程度であればよく、１０～２５０μｍが好ましく、１５～９０μｍがより好ましい。

なお、必要に応じて、支持体上には、配向層を配置してもよい。配向膜としては、上記第１実施態様で説明した配向膜が挙げられる。

組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。いずれの方法で塗布する場合においても、単層塗布が好ましい。

支持体上に形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物および赤外線吸収色素を配向させる。重合性液晶化合物の配向に伴って、赤外線吸収色素も所定の方向に配向する傾向にある。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、６０～２３０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。冷却温度としては２０～２００℃が好ましく、３０～１５０℃がより好ましい。

次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量が好ましい。

上記製造方法において、各種条件を調整することにより、赤外線吸収色素の配置状態などを調整でき、結果として光学異方性膜の光学特性を調整できる。

（好適態様２）
第１光学異方性膜の他の好適態様としては、ポリマーおよび赤外線吸収色素を含む延伸フィルムが挙げられる。
以下、フィルムに含まれる成分について説明する。

ポリマーの種類は特に制限されないが、上述した他のポリマーで例示したポリマーが挙げられる。
赤外線吸収色素の好適態様については、上述した通りである。

延伸フィルム中におけるポリマーの含有量は特に制限されないが、延伸フィルム全質量に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９質量％以下の場合が多い。
延伸フィルム中における赤外線吸収色素の含有量は特に制限されないが、延伸フィルム全質量に対して、１～４０質量％が好ましく、３～２０質量％がより好ましい。

延伸フィルムには、上記ポリマーおよび赤外線吸収色素以外の他の成分が含まれていてもよい。

延伸フィルムの製造方法は特に制限されないが、ポリマーおよび赤外線吸収色素を含む組成物を用いて未延伸フィルムを形成し、得られた未延伸フィルムを延伸配向させて、延伸フィルムである光学異方性膜を形成する方法が挙げられる。
未延伸フィルムを形成する方法としては、ポリマー、赤外線吸収色素および溶媒を含む組成物を塗布して、その後溶媒を除去して、未延伸フィルムを形成する方法、および、溶媒を用いずにポリマーおよび赤外線吸収色素を含む固形分を溶融させて製膜する方法が挙げられる。
延伸方法としては、縦一軸延伸、横一軸延伸、または、それらを組み合わせた同時二軸延伸もしくは逐次二軸延伸などの公知の方法が挙げられる。

（好適態様３）
第１光学異方性膜の他の好適態様としては、特定ポリマーを含む延伸フィルムが挙げられる。
以下、フィルムに含まれる成分について説明する。

特定ポリマーは赤外線吸収色素残基を有していれば特に制限されないが、赤外線吸収色素残基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。
赤外線吸収色素残基を形成し得る赤外線吸収色素としては、赤外線領域に極大吸収波長を有する色素であればよく、例えば、上記（好適態様１）で説明した赤外線吸収色素が挙げられる。
赤外線吸収色素残基は、特定ポリマー中の主鎖部分に配置されていてもよいし、側鎖部分に配置されていてもよい。

上記延伸フィルムには、特定ポリマー以外の他の成分が含まれていてもよい。例えば、上述した他のポリマーが挙げられる。

延伸フィルムの製造方法は特に制限されないが、特定ポリマーを含む組成物を用いて未延伸フィルムを形成し、得られた未延伸フィルムを延伸配向させて、延伸フィルムである光学異方性膜を形成する方法が挙げられる。
未延伸フィルムを形成する方法としては、特定ポリマーおよび溶媒を含む組成物を塗布して、その後溶媒を除去して、未延伸フィルムを形成する方法、および、溶媒を用いずに特定ポリマーを含む固形分を溶融させて製膜する方法が挙げられる。
延伸方法としては、縦一軸延伸、横一軸延伸、または、それらを組み合わせた同時二軸延伸もしくは逐次二軸延伸などの公知の方法が挙げられる。

第１光学異方性膜の厚みは特に制限されず、薄型化の点から、１０μｍ以下が好ましく、０．５～８．０μｍがより好ましく、０．５～６．０μｍがさらに好ましい。
なお、本明細書において、光学異方性膜の厚みとは、光学異方性膜の平均厚みを意図する。上記平均厚みは、光学異方性膜の任意の５箇所以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

＜第２光学異方性膜＞
第２光学異方性膜に含まれる材料は、上記第１実施態様～第３実施態様のそれぞれの要件を満たせば特に制限されない。
例えば、液晶化合物を含む組成物を用いて形成された光学異方性膜が挙げられる。
液晶化合物としては、上記第１光学異方性膜の形成に用いられる液晶化合物が挙げられる。
第２光学異方性膜としては、延伸フィルムを用いてもよい。延伸フィルムに含まれるポリマーとしては、上述した他のポリマーが挙げられる。

第２光学異方性膜の厚みは特に制限されず、薄型化の点から、１０μｍ以下が好ましく、０．５～８．０μｍがより好ましく、０．５～６．０μｍがさらに好ましい。

＜光学異方性膜の好適態様＞
光学異方性膜の好適態様の一つとしては、要件１０を満たす光学異方性膜であって、光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、光学異方性膜の遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きい、光学異方性膜（以後、「特定膜１」ともいう。）が挙げられる。
要件１０：｛Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）｝≧１．００
Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける特定膜１の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける特定膜１の面内レタデーションを表す。

特定膜１の｛Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）｝は要件１０を満たしていればよく、本発明の効果がより優れる点で、１．０１以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１．４０以下が好ましく、１．３０以下がより好ましい。
特定膜１を構成する材料としては、上述した第１光学異方性膜および第２光学異方性膜で説明した材料が挙げられる。
波長５５０ｎｍにおける特定膜１の面内レタデーションは特に制限されないが、２０～５００ｎｍが好ましく、４０～４００ｎｍがより好ましい。
特定膜１の｛Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）｝は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．０２～１．３０が好ましく、１．０３～１．２０がより好ましい。

光学異方性膜の他の好適態様として、要件１１を満たす光学異方性膜であって、光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、光学異方性膜の遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも小さい、光学異方性膜（以後、「特定膜２」ともいう。）が挙げられる。
要件１１：Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００
Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける特定膜２の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける特定膜２の面内レタデーションを表す。

特定膜２の｛Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）｝は要件１１を満たしていればよく、本発明の効果がより優れる点で、１．０１以上が好ましく、１．０３以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１．４０以下が好ましく、１．３０以下がより好ましい。
特定膜２を構成する材料としては、上述した第１光学異方性膜および第２光学異方性膜で説明した材料が挙げられる。
波長５５０ｎｍにおける特定膜２の面内レタデーションは特に制限されないが、２０～５００ｎｍが好ましく、４０～４００ｎｍがより好ましい。
特定膜２の｛Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）｝は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．５０～０．９２が好ましく、０．６０～０．８５がより好ましい。

＜用途＞
上述した積層体は、種々の用途に適用でき、例えば、積層体の面内レタデーションを調整して、いわゆるλ／４板またはλ／２板として用いることもできる。
なお、λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ

積層体、および、この積層体を含む光学フィルムは、表示装置中に含まれていてもよい。つまり、延伸フィルムのより具体的な用途としては、例えば、液晶セルを光学補償するための光学補償フィルム、および、有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置に用いられる反射防止膜が挙げられる。
なかでも、光学フィルムの好ましい態様として、積層体と偏光子とを含む円偏光板が挙げられる。この円偏光板は、上記反射防止膜として好適に使用できる。つまり、表示素子（例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示素子）と、表示素子上に配置された円偏光板とを有する表示装置においては、反射色味がより抑制できる。
また、積層体は、ＩＰＳ（In Plane Switching）型液晶表示装置の光学補償フィルムに好適に用いられ、斜め方向から視認した時の色味変化および黒表示時の光漏れを改善できる。

積層体を含む光学フィルムとしては、上述したように、偏光子と積層体とを含む円偏光板が挙げられる。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材（直線偏光子）であればよく、主に、吸収型偏光子を利用できる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子とがあり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
偏光子の吸収軸と積層体の遅相軸との関係は特に制限されないが、積層体がλ／４板であり、光学フィルムが円偏光フィルムとして用いられる場合は、偏光子の吸収軸と積層体の遅相軸とのなす角は、４５°±１０°が好ましい。

以下に、実施例および比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

（色素ＩＲ－１の合成）
色素ＩＲ－１を以下のスキームに従って合成した。ピロロピロールホウ素錯体ＩＲ－１ａは、ＷＯ２０１７／１４６０９２号の段落０２７１～０２７２に記載の化合物Ａ－１５の合成法に従って合成した。
また、化合物ｙｙ－ｙｙは、ＷＯ２０１８／１２４１９８号の段落００８８～００９１に記載の化合物Ｐ１－１のスキームに従い合成した。

（色素ＩＲ－２の合成）
特開２０１１－６８７３１号公報を参考にして、色素ＩＲ－２を合成した。

（色素ＩＲ－３の合成）
色素ＩＲ－３を以下のスキームに従って合成した。

＜実施例１＞
（光学異方性膜Ａの作製）
下記成分を混合した後、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて２４時間攪拌した。その後、得られた混合物を孔径２０μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、固形分濃度２５質量％のドープを得た。
［ドープの組成］
アートンＧ７８１０（環状オレフィン系樹脂） １００質量部
ＮＸ９０Ｓ（日本アエロジル株式会社製マット剤） ０．０８質量部
塩化メチレン ３００．３６質量部

流延ギーサーを通して、ドープを金属支持体上に流延し、流延膜を形成した。
次に、金属支持体上で流延膜を４０℃の乾燥風により乾燥した後に、流延膜を金属支持体から剥離し、剥離された流延膜両端をクリップで固定し、その間を同一の間隔で保ちつつ１４０℃の乾燥風で２０分間乾燥した。流延膜の両端をクリップで固定したまま、テンターを用いて搬送方向へ延伸倍率５０％となるように延伸した。なお、延伸は、給気温度１８０℃、流延膜の膜面温度１７０℃、延伸速度６０％／分の条件下で縦一軸延伸を行い、光学異方性膜Ａを作製した。得られた光学異方性膜ＡのＲｅ（５５０）は２１０ｎｍであった。光学異方性膜Ａは、上述した第２光学異方性膜に該当する。

（光学異方性膜Ｂの作製）
セルロースアシレートフィルム（ＴＤ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記表１に記載の組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱した。
次に、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、得られたフィルムを１０秒間搬送した。
次に、同じくバーコーターを用いて、得られたフィルムに純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次に、得られたフィルムに対して、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

アルカリ鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記表２に記載の組成の配向層塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。配向層塗布液を塗布後、６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥した。なお、下記組成中、「重合開始剤（ＩＮ１）」は、光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製）を表す。
次いで、乾燥後の塗布膜に連続的にラビング処理を施し、配向層を形成した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行とし、フィルム長手方向に対するラビングローラーの回転軸は時計回りに０°の方向とした。

棒状液晶化合物Ａ（６５質量部）、棒状液晶化合物Ｂ（２０質量部）、色素ＩＲ－１（１５質量部）、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）（３質量部）、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）（１質量部）、および、下記水平配向剤Ａ（０．３質量部）をメチルエチルケトン（１９３質量部）に溶解して、光学異方性膜形成用溶液を調製した。
上記配向層上に、上記光学異方性膜形成用溶液をワイヤーバーコーターで塗布し、塗膜を１２０℃で２分間加熱した。その後、６０℃に冷却し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射して光学異方性膜Ｂを作製した。光学異方性膜Ｂは、上述した第１光学異方性膜に該当する。
得られた光学異方性膜ＢのＲｅ（５５０）は７０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．１１であった。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜Ｂの遅相軸と平行な方向での吸収が、進相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことが確認された。

水平配向剤Ａ

（積層体の作製）
上記で作製した光学異方性膜Ａと光学異方性膜Ｂとを、各々の遅相軸が直交するように粘着剤で貼り合わせ、積層体を作製した。
得られた積層体の光学特性を測定したところ、Ｒｅ（５５０）が１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９４、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．１０であった。

＜実施例２＞
（光学異方性膜Ｃ）
下記成分を混合した後、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて２４時間攪拌した。その後、得られた混合物を孔径２０μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、固形分濃度２５質量％のドープを得た。
［ドープの組成］
アートンＧ７８１０（環状オレフィン系樹脂） １００質量部
色素ＩＲ－２ ２．０質量部
ＮＸ９０Ｓ（日本アエロジル株式会社製マット剤） ０．０８質量部
塩化メチレン ３０６質量部

流延ギーサーを通して、ドープを金属支持体上に流延し、流延膜を形成した。
次に、金属支持体上で流延膜を４０℃の乾燥風により乾燥した後に、流延膜を金属支持体から剥離し、剥離された流延膜両端をクリップで固定し、その間を同一の間隔で保ちつつ１４０℃の乾燥風で２０分間乾燥した。流延膜の両端をクリップで固定したまま、テンターを用いて搬送方向へ延伸倍率５０％となるように延伸した。なお、延伸は、給気温度１８０℃、流延膜の膜面温度１７０℃、延伸速度６０％／分の条件下で縦一軸延伸を行い、光学異方性膜Ｃを作製した。得られた光学異方性膜ＣのＲｅ（５５０）は２４０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１であった。光学異方性膜Ｃは、上述した第１光学異方性膜に該当する。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜Ｃの進相軸と平行な方向での吸収が、遅相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことが確認された。

（光学異方性膜Ｄの作製）
棒状液晶化合物Ａ（８０質量部）、棒状液晶化合物Ｂ（２０質量部）、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）（３質量部）、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）（１質量部）、および、水平配向剤Ａ（０．３質量部）をメチルエチルケトン（１９３質量部）に溶解して、光学異方性膜形成用溶液を調製した。
実施例１で作製した配向層上に、上記光学異方性膜形成用溶液をワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃で２分間加熱した。その後、６０℃に冷却し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して光学異方性膜Ｄを作製した。光学異方性膜Ｄは、上述した第２光学異方性膜に該当する。
得られ光学異方性膜ＤのＲｅ（５５０）は１００ｎｍであった。

（積層体の作製）
上記で作製した光学異方性膜Ｃと光学異方性膜Ｄとを、各々の遅相軸が直交するように粘着剤で貼り合わせ、積層体を作製した。
得られた積層体の光学特性を測定したところ、Ｒｅ（５５０）が１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９３、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．１２であった。

＜実施例３＞
（光学異方性膜Ｅの作製）
実施例１に記載の配向層上に下記光学異方性膜形成用溶液をワイヤーバーで塗布して塗膜を形成し、１００℃で５分間加熱した。その後、６０℃に冷却し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、高圧水銀ランプを用い照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を塗膜に照射し、光学異方性膜Ｅを作製した。光学異方性膜Ｅは、上述した第２光学異方性膜に該当する。
［光学異方性膜形成用溶液］
下記液晶性化合物Ｌ－１ ７０質量部
下記液晶性化合物Ｌ－２ ５０質量部
光重合開始剤１（イルガキュアＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
光重合開始剤２（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
下記含フッ素化合物Ｆ－１ ０．２質量部
シクロペンタノン ２２７．１質量部

得られた光学異方性膜Ｅの光学特性を測定したところ、Ｒｅ（５５０）は１９０ｎｍであった。

（光学異方性膜Ｆの作製）
下記成分を混合した後、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて２４時間攪拌した。その後、得られた混合物を孔径２０μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、固形分濃度１５質量％のドープを得た。
［ドープの組成］
アートンＧ７８１０（環状オレフィン系樹脂） １００質量部
色素ＩＲ－３ ３．０質量部
ＮＸ９０Ｓ（日本アエロジル株式会社製マット剤） ０．０８質量部
塩化メチレン ５８４質量部

流延ギーサーを通して、ドープを金属支持体上に流延し、流延膜を形成した。
次に、金属支持体上で流延膜を４０℃の乾燥風により乾燥した後に、流延膜を金属支持体から剥離し、剥離された流延膜両端をクリップで固定し、その間を同一の間隔で保ちつつ１４０℃の乾燥風で２０分間乾燥した。流延膜の両端をクリップで固定したまま、テンターを用いて搬送方向へ延伸倍率５０％となるように延伸した。なお、延伸は、給気温度１８０℃、流延膜の膜面温度１７０℃、延伸速度６０％／分の条件下で縦一軸延伸を行い、光学異方性膜Ｆを作製した。得られた光学異方性膜ＦのＲｅ（５５０）は５０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、１．０１であった。光学異方性膜Ｆは、上述した第１光学異方性膜に該当する。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜の遅相軸と平行な方向での吸収が、進相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことが確認された。

（積層体の作製）
上記で作製した、光学異方性膜Ｅと光学異方性膜Ｆとを、各々の遅相軸が直交するように粘着剤で貼り合わせ、積層体を作製した。
得られた積層体の光学特性を測定したところ、Ｒｅ（５５０）が１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８３、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０９であった。

＜実施例４＞
（光学異方性膜Ｇの作製）
下記成分を混合した後、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて２４時間攪拌した。その後、得られた混合物を孔径２０μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、固形分濃度１５質量％のドープを得た。
［ドープの組成］
アートンＧ７８１０（環状オレフィン系樹脂） １００質量部
色素ＩＲ－２ １０．０質量部
ＮＸ９０Ｓ（日本アエロジル株式会社製マット剤） ０．０８質量部
塩化メチレン ６１８質量部

流延ギーサーを通して、ドープを金属支持体上に流延し、流延膜を形成した。
次に、金属支持体上で流延膜を４０℃の乾燥風により乾燥した後に、流延膜を金属支持体から剥離し、剥離された流延膜両端をクリップで固定し、その間を同一の間隔で保ちつつ１４０℃の乾燥風で２０分間乾燥した。流延膜の両端をクリップで固定したまま、テンターを用いて搬送方向へ延伸倍率５０％となるように延伸した。なお、延伸は、給気温度１８０℃、流延膜の膜面温度１７０℃、延伸速度６０％／分の条件下で縦一軸延伸を行い、光学異方性膜Ｃを作製した。得られた光学異方性膜ＣのＲｅ（５５０）は４８ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１であった。光学異方性膜Ｇは、上述した第１光学異方性膜に該当する。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜Ｇの進相軸と平行な方向での吸収が、遅相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことが確認された。

（光学異方性膜Ｈの作製）
洗浄したガラス基板上に、ポリイミド配向膜形成用組成物ＳＥ－１３０（日産化学社製）をスピンコート法により塗布した。塗膜を乾燥後、２５０℃で１時間焼結した後、塗膜にラビング処理を施し、配向層を形成した。
下記の組成物Ａ－１を、スピンコート法によって配向膜上に塗布した。配向膜上に形成された塗膜をホットプレート上で２４０℃に加熱し、その後、２００℃に冷却した後、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射することにより、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性膜Ｈを作製した。光学異方性膜Ｈは、上述した第２光学異方性膜に該当する。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ａ－１
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・液晶化合物Ｌ－１ ５０．００質量部
・液晶化合物Ｌ－２ ５０．００質量部
・重合開始剤ＰＩ－１ ０．５０質量部
・レベリング剤Ｔ－１ ０．２０質量部
・クロロホルム ５６０．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶化合物Ｌ－１

液晶化合物Ｌ－２

重合開始剤ＰＩ－１

レベリング剤Ｔ－１

得られた光学異方性膜Ｈの光学特性を測定したところ、Ｒｅ（５５０）は９０ｎｍであった。

（積層体の作製）
上記で作製した、光学異方性膜Ｇと光学異方性膜Ｈとを、各々の遅相軸が平行になるように粘着剤で貼り合わせ、積層体を作製した。
得られた積層体の光学特性を測定したところ、Ｒｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８４、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０９であった。

＜比較例１＞
色素ＩＲ－１を用いずに実施例１に記載の光学異方性膜Ｂと同様の手順に従って光学異方性膜Ｉを作製した以外は、実施例１と同様の手順に従って積層体を作製した。
得られた積層体の光学特性を測定したところ、Ｒｅ（５５０）が１３０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０２であった。

表３中、「光学異方性膜１」欄および「光学異方性膜２」欄の「種類」欄は、積層した光学異方性膜の種類を表す。「Ａ」～「Ｉ」は、それぞれ光学異方性膜Ａ～光学異方性膜Ｉを表す。
「色素」欄は、使用した色素を表す。「ＩＲ－１」～「ＩＲ－３」は、それぞれ色素ＩＲ－１～色素ＩＲ－３を表す。
「吸収方向」欄は、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜の遅相軸と平行な方向での吸収と、進相軸と平行な方向での吸収とで、どちらの吸収が大きいかを表す。例えば、「遅相軸」の表記は、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜の遅相軸と平行な方向での吸収が、進相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことを表す。
「遅相軸関係」欄は、光学異方性膜Ｘの遅相軸と、光学異方性膜Ｙの遅相軸との関係を表す。
表３には、各光学異方性膜のＲｅ（５５０）、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）をまとめて示す。

上記表に示すように、本発明の積層体であれば、所望の効果が得られることが確認された。

厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒間浸漬して染色した。次いで、得られたフィルムをホウ酸水溶液（ホウ酸濃度：４質量％）中に６０秒間浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、縦延伸されたフィルムを５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

市販のセルロースアシレート系フィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を準備し、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、得られたフィルムを水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。
その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に得られたフィルムを１分間浸漬した後、得られたフィルムを水に浸漬して、フィルム上の希硫酸水溶液を十分に洗い流した。その後、洗浄されたフィルムを１２０℃で乾燥させ、偏光子保護フィルムを作製した。

上記で作製した偏光子の片面に、上記で作製した偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤で貼り合わせて、偏光子と、偏光子の片面に配置された偏光子保護フィルムとを含む偏光板を作製した。

上記作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記実施例１で作製した積層体を、粘着剤層と光学異方性膜とが密着するように貼り合せて円偏光板を作製した。なお、光学異方性膜の遅相軸と偏光子の透過軸とのなす角度は４５°とした。

ＧａｌａｘｙＳ４（Ｓａｍｓｕｎｇ社製）を分解し、製品に貼合されている反射防止フィルムの一部をはがして、発光層とした。この発光層に、粘着剤を介して、上記作製した円偏光板を空気が入らないようにして貼合して、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を作製した。
なお、実施例１で作製した積層体の代わりに、実施例２～４で作製した積層体を用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。

１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ 積層体
１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ 第１光学異方性膜
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ 第２光学異方性膜

Claims (9)

1. 第１光学異方性膜と、第２光学異方性膜とを含む積層体であって、
   前記第１光学異方性膜および前記第２光学異方性膜の両方が面内方向に遅相軸を有し、
   前記第１光学異方性膜の遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘが、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙよりも大きく、
   前記第１光学異方性膜の遅相軸と前記第２光学異方性膜の遅相軸とが直交しており、
   波長５５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションが、波長５５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションよりも大きく、
   前記第１光学異方性膜が要件１を満たし、
   前記第１光学異方性膜および前記第２光学異方性膜が要件２および３を満たす、積層体。
   要件１：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＜０．９５
   要件２：｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＞｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝
   要件３：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＜｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝
   Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
   Ｒｅ２（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
2. 第１光学異方性膜と、第２光学異方性膜とを含む積層体であって、
   前記第１光学異方性膜および前記第２光学異方性膜の両方が面内方向に遅相軸を有し、
   前記第１光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きく、
   前記第１光学異方性膜の遅相軸と前記第２光学異方性膜の遅相軸とが直交しており、
   前記第２光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが、前記第１光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションよりも小さく、
   前記第１光学異方性膜が要件４および５を満たし、
   前記第１光学異方性膜および前記第２光学異方性膜が要件６および７を満たす、積層体。
   要件４：｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧０．９５
   要件５：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧１．０２
   要件６：｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝＞｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝
   要件７：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝＞１．００≧｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝
   Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
   Ｒｅ２（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
3. 第１光学異方性膜と、第２光学異方性膜とを含む積層体であって、
   前記第１光学異方性膜および前記第２光学異方性膜の両方が面内方向に遅相軸を有し、
   前記第１光学異方性膜の進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｙが、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度Ｘよりも大きく、
   前記第１光学異方性膜の遅相軸と前記第２光学異方性膜の遅相軸とが平行であり、
   前記第１光学異方性膜が要件４および５を満たし、
   前記第２光学異方性膜が要件８および９を満たす、積層体。
   要件４：｛Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧０．９５
   要件５：｛Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）｝≧１．０２
   要件８：｛Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）｝＜０．９５
   要件９：１．００＜｛Ｒｅ２（６５０）／Ｒｅ２（５５０）｝＜１．０８
   Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ１（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記第１光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
   Ｒｅ２（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ２（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記第２光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
4. 前記第１光学異方性膜が、赤外線吸収色素由来の残基を有するポリマー、または、赤外線吸収色素を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 前記第１光学異方性膜が、液晶化合物および赤外線吸収色素を含む組成物を用いて形成された光学異方性膜である、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
6. 前記第１光学異方性膜が、ポリマーおよび赤外線吸収色素を含む延伸フィルムである、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
7. 波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１１０～１６０ｎｍである、請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体。
8. 請求項７に記載の積層体と、偏光子とを有する、円偏光板。
9. 表示素子と、前記表示素子上に配置された請求項８に記載の円偏光板とを有する、表示装置。

Images