JP7165106B2 - ジアリールエーテル化合物およびアニリン化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
ジメチルスルホキシド中で、
下記式(I):
で表される芳香族化合物(以下、単に「芳香族化合物」とする場合もある。)と、
アルカリ金属アルコキシドを含むアルカリ金属含有化合物と、を接触させて得られたジメチルスルホキシド溶液と、
下記式(II):
で表されるハロゲン化アリール化合物(以下、単に「ハロゲン化アリール化合物」とする場合もある。)と、を接触させることにより、
下記式(III):
[式中、Arは前記式(I)におけるものと同義であり、R1は、前記式(II)におけるものと同義である。]
で表されるジアリールエーテル化合物(以下、単に「ジアリールエーテル化合物」とする場合もある。)を製造する、ジアリールエーテル化合物の製造方法
である。
前記芳香族化合物と前記アルカリ金属含有化合物とを接触させて得られた前記ジメチルスルホキシド溶液を、40~60℃の温度範囲で保持する調整を行った後、次いで、
前記式(II)で表されるハロゲン化アリール化合物を接触させることが好ましい。こうすることにより、バッチ間での収率のばらつきをより一層少なくすることができる。
前記式(III)で表されるジアリールエーテル化合物を製造した後、
得られたジアリールエーテル化合物と、
アンモニウム塩と、
鉄、亜鉛、スズ、および銅から選ばれる少なくとも1種の金属と、
を接触させることにより、
下記式(IV):
で表されるアニリン化合物(以下、単に「アニリン化合物」とする場合もある。)を製造する、アニリン化合物の製造方法
である。
本発明は、ジメチルスルホキシド中で、芳香族化合物と、アルカリ金属含有化合物と、を接触させ、得られたジメチルスルホキシド溶液と、ハロゲン化アリール化合物と、を接触させることを特徴とする、ジアリールエーテル化合物の製造方法である。
先ず、ジメチルスルホキシド中で、芳香族化合物と、アルカリ金属含有化合物との接触について説明する。
本発明の最大の特徴は、ジメチルスルホキシドを反応溶媒として使用する点にある。加えて、それぞれの成分を混合する順序を限定した点にある。
本発明において、基質(原料)の一つとなる芳香族化合物は、下記式(I):
で表される。この化合物は、公知の方法で製造できる。また、市販のものを使用できる。
式(I)において、Arは、得られるジアリールエーテル化合物の有用性を考慮すると、以下の式(I-1)で表される芳香族環基であることが好ましい。
式(I-1)において、R2の基の数を示すnは、0~5の整数である。nは、得られるジアリールエーテル化合物の有用性を考慮すると、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0または1である。なお、nが2以上の場合には、R2は同一の基であっても、異なる基であってもよい。
本発明において、使用するアルカリ金属含有化合物は、アルカリ金属を含む塩基であれば、特に制限されるものではない。
本発明においては、先ず、芳香族化合物とアルカリ金属含有化合物とをジメチルスルホキシド中で接触させることを特徴とする。これらを接触させる方法は、特に制限されるものではない。具体的には、ジメチルスルホキシド中で両者を攪拌混合することにより、接触させることが好ましい。
次いで、得られたジメチルスルホキシド溶液とハロゲン化アリール化合物との接触について説明する。
本発明において、もう一方の基質(原料)ハロゲン化アリール化合物は、下記式(II):
で表される。この化合物は、公知の方法で製造できる。また、市販のものを使用できる。
前記式(II)において、R1は、一般に用いられる水酸基保護基であり、例えば、エステル型保護基、アリールアルキル型保護基およびアルキル型保護基から選択される基である。
前記式(II)において、X1は、ハロゲン原子であり、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。中でも、反応性を考慮すると、塩素原子又はヨウ素原子が好ましい。
前記式(II)において、R1とX1との好ましい組み合わせは、R1がアルキル型保護基であり、X1が塩素原子、又はヨウ素原子である。中でも、R1は、メチル基、エチル基、又はtert-ブチル基であり、X1は、塩素原子、又はヨウ素原子が好ましい。特に好ましくは、R1は、メチル基であり、X1は、塩素原子である。
本発明の製造方法において、前記ジメチルスルホキシド溶液と前記ハロゲン化アリール化合物とを接触させる方法は、特に制限されるものではない。具体的には、両者を攪拌混合することにより、接触させることが好ましい。
本発明の製造方法において、前記ジメチルスルホキシド溶液と前記ハロゲン化アリール化合物との接触の後、以下の後処理を行うことが好ましい。具体的には、前記接触により得られた反応液と、難水溶性有機溶媒、例えば、トルエン等の難水溶性有機溶媒と、水とを攪拌混合する。このとき、混合後の溶液を静置して得られた水層がアルカリ性、好ましくはpHが12以上のアルカリ性となるようにすることが好ましい。そのため、用いる前記水としては、アルカリ水溶液、より好ましくはpHが12以上のアルカリ水溶液を用いることが好ましい。該アルカリ水溶液は、例えば、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属塩を水に溶解したものを用いることができる。当該操作を実施することで、前記反応液に含まれる未反応の芳香族化合物を容易に水層へと除去することができる。次いで、得られた有機層を分取し、濃縮することにより、ジアリールエーテル化合物を単離する。得られたジアリールエーテル化合物は、ジメチルスルホキシド溶液とハロゲン化アリール化合物との接触による反応が充分に進行して得られたものであるから、下記に詳述するアニリン化合物の製造方法に供する原料として使用することもできる。また、必要に応じて、再結晶、カラム精製等の公知の手段によりさらに精製することができる。
本発明の方法によれば、高い収率で、かつ安定してジアリールエーテル化合物を製造できる。そのため、前記方法で得られたジアリールエーテル化合物を使用して、ニトロ基をアミノ基に還元したアニリン化合物とする場合であっても、高い収率で、かつ安定した製造を実施できる。
前記したように、反応系内でプロトンを発生させる塩として、アンモニウム塩を使用することが好ましい。アンモニウム塩を使用することによって、ニトロ基の還元反応がより安定して進められると考えられる。
本発明においては、鉄、亜鉛、スズ、および銅から選ばれる少なくとも1種の金属を使用することが好ましい。
本発明においては、前記ジアリールエーテル化合物と、アンモニウム塩と、金属と、の接触を円滑に進めるために、反応溶媒を使用することが好ましい。
本発明において、ジアリールエーテル化合物と、アンモニウム塩と、金属と、を接触させる方法は、特に制限されるものではない。具体的には、これらを攪拌混合することにより、接触させることが好ましい。
本発明においては、ジアリールエーテル化合物と金属とアンモニウム塩との接触の後、以下の後処理を行うことが好ましい。例えば、前記接触の後、反応系内の金属を減圧ろ過で除去する。次いで、得られた濾液に含まれる溶媒を減圧下で除去し、乾燥させることでアニリン化合物を単離する。得られたアニリン化合物は、カラム精製、溶媒洗浄、水洗、再結晶等の公知の手段により精製することができる。
<HPLCの測定条件>
装置:高速液体クロマトグラフィー(HPLC)。
機種:2695-2489-2998(Waters社製)。
検出器:紫外吸光光度計(測定波長:240nm)。
カラム:Kinetex C18、内径4.6mm、長さ25cm(粒子径5μm)(Phenomenex社製)。
カラム温度:30℃一定。
サンプル温度:25℃一定。
移動相A:アセトニトリル。
移動相B:15mMリン酸二水素カリウム水溶液(pH=2.5 リン酸にて調整)。
移動相の送液:移動相A,Bの混合比を表1のように変えて濃度勾配制御する。
測定時間:45分。
以下の反応式に従って、下記式(III-A)で表されるジアリールエーテル化合物を合成した。
直径7.5cmの2枚撹拌翼を備えた1000mL四つ口フラスコに、フェノール24.1g(255.89mmol;芳香族化合物)を量りとり、ジメチルスルホキシド(200mL)を加えて25℃で10分間混合攪拌した。攪拌後、同温でカリウムtert-ブトキシド28.7g(255.89mmol;アルカリ金属含有化合物)を加え、得られたジメチルスルホキシド溶液を50℃まで加熱し、同温度にて1時間攪拌しながら保持した。
前記のように50℃の温度で保持したジメチルスルホキシド溶液に、4-クロロ-3-ニトロアニソール40g(213.24mmol;ハロゲン化アリール化合物)を加え、80℃まで昇温し、同温度で7時間反応を行った。7時間反応後、純度評価の結果は、3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物):94.701%、4-クロロ-3-ニトロアニソール(ハロゲン化アリール化合物):2.100%であった。
反応後の溶液を30℃以下まで冷却した後、トルエン400mL、1M水酸化ナトリウム水溶液400mLを加えて15分間攪拌し、静置後水層のpHが12であることを確認した。水層を除去して得られた有機層を蒸留水で2回洗浄した後、有機層を濃縮し、51.1gの3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)を残渣として得た(収率:97.7%、純度:96.306%(3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物))、1.996%(4-クロロ-3-ニトロアニソール(ハロゲン化アリール化合物))。なお、得られた3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)は、黒褐色のオイル状物であった。
<ジメチルスルホキシド溶液の準備>
直径7.5cmの2枚撹拌翼を備えた300mL四つ口フラスコにフェノール6.0g(63.97mmol;芳香族化合物)を量りとり、ジメチルスルホキシド(50mL)、カリウムtert-ブトキシド7.2g(63.97mmol;アルカリ金属含有化合物)を加え、25℃の状態でジメチルスルホキシド溶液を得た。
得られたジメチルスルホキシド溶液に4-クロロ-3-ニトロアニソール10g(53.31mmol;ハロゲン化アリール化合物)を加え、80℃まで昇温し、同温度で8時間反応を行った。
3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)が94%程度で得られたものについては、実施例1における<後処理>を実施した。後処理後の3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)の収率、純度の平均は、実施例1の結果とほぼ同等であった。
3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)が72~90%であった場合については、同温度(80℃)にてさらに7時間反応(攪拌混合)を行った。反応時間計15時間経過後の純度評価の結果の平均は、94.596%(3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物))、2.420%(4-クロロ-3-ニトロアニソール(ハロゲン化アリール化合物))であった。
15時間反応後の溶液を実施例1と同様の<後処理>を行った。その結果、平均して、収率:98.7%、純度:96.779%(3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)、1.957%(4-クロロ-3-ニトロアニソール(ハロゲン化アリール化合物))を含む残渣を得た。
実施例1の<ジメチルスルホキシド溶液の準備>において、四つ口フラスコの容量を300mL、フェノール(芳香族化合物)の使用量を3.0g(31.99mmol)、ジメチルスルホキシドの使用量を25mL、アルカリ金属含有化合物とその使用量をナトリウムtert-ブトキシド3.1g(31.99mmol)とした。これ以外は、実施例1と同様の操作を行った。得られたジメチルスルホキシド溶液は、実施例1と同じく、50℃で1時間保持した。
実施例1の<ジメチルスルホキシド溶液の準備>において、四つ口フラスコの容量を100mL、フェノール(芳香族化合物)の使用量を1.8g(19.19mmol)、ジメチルスルホキシドの使用量を15mL、アルカリ金属含有化合物とその使用量を水酸化ナトリウム0.77g(19.19mmol)とした。これ以外は、実施例1と同様の操作を行った。得られたジメチルスルホキシド溶液は、実施例1と同じく、50℃で1時間保持した。
<ジメチルホルムアミド溶液の準備>
直径7.5cmの2枚撹拌翼を備えた300mL四つ口フラスコにフェノール6.0g(63.97mmol、芳香族化合物)を量りとり、ジメチルホルムアミド(50mL)、カリウムtert-ブトキシド7.2g(63.97mmol;アルカリ金属含有化合物)を25℃の状態で加えてジメチルホルムアミド溶液を得た。
得られたジメチルホルムアミド溶液に、4-クロロ-3-ニトロアニソール10g(53.31mmol、ハロゲン化アリール化合物)を加え、110℃まで昇温し、同温度で8時間反応を行った。8時間反応後、純度評価の結果は、40.235%(3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)、57.640%(4-クロロ-3-ニトロアニソール(ハロゲン化アリール化合物))であった。この結果は、実施例2(80℃、8時間反応)よりも高温で実施例2と同時間反応させた結果であるが、実施例2よりも反応が進行していないことが分かった。
実施例1における<後処理>を実施した。10.8gの3-ニトロ-4-フェノキシアニソールを残渣として得た(収率:82.6%、純度:93.327%(3-ニトロ-4-フェノキシアニソール(ジアリールエーテル化合物)、5.116%(4-クロロ-3-ニトロアニソール(ハロゲン化アリール化合物))。
直径7.5cmの2枚撹拌翼を備えた300mL四つ口フラスコに、フェノール6.0g(63.97mmol、芳香族化合物)、4-クロロ-3-ニトロアニソール10g(53.31mmol、ハロゲン化アリール化合物)、ジメチルスルホキシドミド(50mL)を攪拌混合した。
以下の反応式に従って、下記式(IV-A)で表されるアニリン化合物を合成した。
Claims (3)
- 前記式(I)で表される芳香族化合物と前記アルカリ金属含有化合物とを接触させて得られた前記ジメチルスルホキシド溶液を、40~60℃の温度範囲で保持する調整を行った後、次いで、
前記式(II)で表されるハロゲン化アリール化合物を接触させる
請求項1に記載のジアリールエーテル化合物の製造方法。
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