JP7156786B2 - ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 - Google Patents
ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7156786B2 JP7156786B2 JP2017194038A JP2017194038A JP7156786B2 JP 7156786 B2 JP7156786 B2 JP 7156786B2 JP 2017194038 A JP2017194038 A JP 2017194038A JP 2017194038 A JP2017194038 A JP 2017194038A JP 7156786 B2 JP7156786 B2 JP 7156786B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- resin composition
- general formula
- negative photosensitive
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017194038A JP7156786B2 (ja) | 2017-10-04 | 2017-10-04 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
JP2022161510A JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017194038A JP7156786B2 (ja) | 2017-10-04 | 2017-10-04 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022161510A Division JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019066754A JP2019066754A (ja) | 2019-04-25 |
JP2019066754A5 JP2019066754A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2020-09-03 |
JP7156786B2 true JP7156786B2 (ja) | 2022-10-19 |
Family
ID=66340578
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017194038A Active JP7156786B2 (ja) | 2017-10-04 | 2017-10-04 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
JP2022161510A Active JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022161510A Active JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7156786B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7484527B2 (ja) | 2020-07-22 | 2024-05-16 | Hdマイクロシステムズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化物、パターン硬化物の製造方法、及び電子部品 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000043439A1 (fr) | 1999-01-21 | 2000-07-27 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Ester d'acide polyamique |
JP2002082436A (ja) | 2000-06-30 | 2002-03-22 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd | 感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 |
US20070248910A1 (en) | 2004-07-16 | 2007-10-25 | Asahi Kasei Emd Corporation | Polyamide |
JP2008083468A (ja) | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性ポリアミド酸エステル組成物 |
JP2010090386A (ja) | 1999-03-30 | 2010-04-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物 |
WO2013168675A1 (ja) | 2012-05-07 | 2013-11-14 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
JP2016199662A (ja) | 2015-04-09 | 2016-12-01 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | ポリイミド前駆体を含む樹脂組成物、それを用いた硬化膜及びパターン硬化膜の製造方法、並びに電子部品 |
JP2017021113A (ja) | 2015-07-08 | 2017-01-26 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、並びに半導体装置 |
WO2017146152A1 (ja) | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、積層体の製造方法、半導体デバイス、および、半導体デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107709408B (zh) * | 2015-06-30 | 2020-02-14 | 富士胶片株式会社 | 前驱体组合物、感光性树脂组合物、前驱体组合物的制造方法、固化膜、固化膜的制造方法及半导体器件 |
TW201710390A (zh) * | 2015-08-31 | 2017-03-16 | Fujifilm Corp | 組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法、半導體元件的製造方法及半導體元件 |
-
2017
- 2017-10-04 JP JP2017194038A patent/JP7156786B2/ja active Active
-
2022
- 2022-10-06 JP JP2022161510A patent/JP7502384B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000043439A1 (fr) | 1999-01-21 | 2000-07-27 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Ester d'acide polyamique |
JP2010090386A (ja) | 1999-03-30 | 2010-04-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物 |
JP2002082436A (ja) | 2000-06-30 | 2002-03-22 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd | 感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 |
US20070248910A1 (en) | 2004-07-16 | 2007-10-25 | Asahi Kasei Emd Corporation | Polyamide |
JP2008083468A (ja) | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性ポリアミド酸エステル組成物 |
WO2013168675A1 (ja) | 2012-05-07 | 2013-11-14 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
JP2016199662A (ja) | 2015-04-09 | 2016-12-01 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | ポリイミド前駆体を含む樹脂組成物、それを用いた硬化膜及びパターン硬化膜の製造方法、並びに電子部品 |
JP2017021113A (ja) | 2015-07-08 | 2017-01-26 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、並びに半導体装置 |
WO2017146152A1 (ja) | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、積層体の製造方法、半導体デバイス、および、半導体デバイスの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7502384B2 (ja) | 2024-06-18 |
JP2023002603A (ja) | 2023-01-10 |
JP2019066754A (ja) | 2019-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6190805B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP7210588B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたポリイミド及び硬化レリーフパターンの製造方法 | |
JP5657414B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、並びに半導体装置 | |
JP7146014B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物及びその製造方法、並びに硬化レリーフパターンの製造方法 | |
JP7530736B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、硬化レリーフパターン、半導体装置及び表示体装置 | |
JP6935982B2 (ja) | 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP2016167036A (ja) | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 | |
JP7733044B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物及び硬化レリーフパターンの製造方法 | |
JP7592393B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物、ポリイミドの製造方法および硬化レリーフパターンの製造方法 | |
JP6427383B2 (ja) | 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP7169844B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP7502384B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP2023023169A (ja) | 感光性樹脂組成物、ポリイミドの製造方法、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP6643824B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、並びに半導体装置 | |
WO2024090486A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP7691307B2 (ja) | ポリイミド硬化膜の製造方法 | |
JP7241502B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法 | |
JP2023023196A (ja) | 感光性樹脂組成物、ポリイミドの製造方法、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP2023023187A (ja) | 感光性樹脂組成物および半導体装置 | |
JP7471480B2 (ja) | 樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 | |
JP7488659B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたポリイミド及び硬化レリーフパターンの製造方法 | |
TWI883665B (zh) | 感光性樹脂組合物 | |
JP7445443B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物及びその製造方法、並びに硬化レリーフパターンの製造方法 | |
JP2024157563A (ja) | 感光性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200713 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210907 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220412 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220609 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221006 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7156786 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |