JP7154897B2 - 液体吐出ヘッドおよび液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents

液体吐出ヘッドおよび液体吐出ヘッドの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、液体吐出ヘッドおよび液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
インクジェット記録装置等の液体吐出装置において、液体吐出ヘッドが用いられている。液体吐出ヘッドには、複数の吐出口を有するデバイスチップが配置されている。近年では、複数のデバイスチップを一列に配置し、記録幅を広げることを可能にした液体吐出ヘッドが用いられている。
特許文献1には、プリントヘッドの複数のICチップを一列に配置するためのICチップの形状、および、ICチップと流路ユニットとの配置関係が記載されている。具体的には、特許文献1には、特許文献1の図2に示されているように、複数のICチップ100(特許文献1の参照符号を示す。以下、特許文献1の説明文章において同様である。)を隙間なく一列に配列することが記載されている。また、特許文献1の図11に示されているように、特許文献1では、ICチップ100上の基準マーク103Aと、液体流路構造を有したチャネル成型体124上の基準マーク103Bとを用いてICチップ100の位置合わせが行われている。
米国特許出願公開第2011/0020965号明細書
特許文献1では、ICチップ100が隙間なく一列に配列されるので、液体流路構造を有するチャネル成型体124上の基準マーク103Bを、複数のICチップ100の配列方向の配列軸上に配置することができない。このため、隣接するチップ間の位置合わせ精度が低下する虞がある。
本発明は、高精度に位置合わせがされたデバイスチップを有する液体吐出ヘッドを提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る液体吐出ヘッドは、液体を吐出する吐出口が形成されたデバイスチップが少なくとも2つ以上、ベースプレート上に配置される液体吐出ヘッドであって、前記ベースプレート上には、第1の基準マークが備えられ、前記デバイスチップ上には、第2の基準マークが備えられ、隣接するデバイスチップ間には、少なくとも一部の空間が形成され、前記第2の基準マークと前記空間に存在する前記第1の基準マークとが、デバイスチップが配列されている配列軸上に配置され、前記デバイスチップは、電気接合部を備え、前記第2の基準マークは、前記電気接合部が配列されている配列軸上に配置されていることを特徴とする。
本発明によれば、高精度に位置合わせがされたデバイスチップを有する液体吐出ヘッドを提供することができる。
液体吐出ヘッドの一例を示す斜視図である。 デバイスチップの一例を示す図である。 デバイスチップ形状の一例を示す図である。 液体吐出ヘッドの製造方法を説明する図である。 デバイスチップの一例を示す図である。 VI-VI線断面を示す模式図である。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を説明する。尚、以下に述べる実施形態は、適切な具体例であるから、技術的に好ましい様々の限定が付けられている。しかし、本明細書の実施形態やその他の具体的方法に限定されるものではない。
<<実施形態1>>
図1は、本実施形態の液体吐出ヘッド13の一例を示す斜視図である。ベースプレート1は、不図示のタンクから液体(例えばインク)をデバイスチップ2に供給するための液体流路構造を有する。ベースプレート1は、耐薬品性および耐熱性が高く、絶縁性を有し、かつ機械的強度の高いものが好ましい。例えば、ベースプレート1は、Al23などのファインセラミック、および、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などのプラスチックによって構成されている。
ベースプレート1の上面には、接着剤(図1では不図示)を介して、デバイスチップ2が直線状に接合されている。図1の例では、4個のデバイスチップ2が配列されている例を示しているが、デバイスチップの数は4個に限定されるものではなく、2以上の任意の数のデバイスチップ2で構成されてよい。また、ベースプレート1の上面には、第1の基準マーク7が備えられている。
各デバイスチップ2には、基板3が備えられており、基板3の上面には、吐出口形成部材4が備えられている。また、基板3の上面において吐出口形成部材4が備えられていない領域に、電気接合部5および第2の基準マーク8が備えられている。吐出口形成部材4上には、複数の吐出口6が形成されている。
図2は、本実施形態のデバイスチップ2を説明する図である。図2(a)は、図1のA部の上面図である。図2(b)は、図2(a)のIIb-IIb線断面図を模した図である。デバイスチップ2においては、液体を吐出させるためのエネルギー発生素子12が組み込まれた基板3上に、液体を吐出させるための吐出口形成部材4とエネルギー発生素子12を駆動させるための電気接合部5とが形成されている。基板3は、例えばSi、Ge、SiC、GaAs、InAs、GaP、ダイヤモンド、酸化物半導体であるZnO、窒化物半導体であるInNもしくはGaN、または、これらの混合物等、あるいは、有機半導体等の半導体材料によって構成されている。エネルギー発生素子12としては、公知の素子を用いることができる。例えば、熱エネルギーを用いるヒーター素子(発熱抵抗素子)または機械的エネルギーを用いるピエゾ素子等が挙げられる。基板3には、ベースプレート1からインクなどの液体を吐出口形成部材4へ供給するための液体供給口9が形成されている。液体供給口9を形成する方法としては、例えばドライエッチングもしくはウエットエッチングなどのエッチング方法、または、レーザーアブレーション加工などで基板3を貫通させる方法が挙げられる。吐出口形成部材4は、液体を流すための流路と吐出口6とを備えた三次元構造となっている。吐出口形成部材4の材料としては、例えばSi、SiCもしくはSiOなどの無機材料、または、エポキシ樹脂などの有機材料が挙げられる。
デバイスチップ2の形状は、各デバイスチップ2が配列された場合に、隣接するデバイスチップ2同士の間に空間が生じるような形状となっている。例えば、第一のデバイスチップと第二のデバイスチップとが、デバイスチップが配列される配列方向において一列に配列される場合を想定する。本実施形態のデバイスチップ2は、第一のデバイスチップと第二のデバイスチップとの間には、少なくとも一部の隙間が生じるような形状となっている。このような隙間が生じることで、上面からデバイスチップ2を見た場合に、ベースプレート1の一部の表面が隙間から見える。このベースプレート1の一部の表面に第1の基準マーク7が配置されていると、ベースプレート1上に配置されている基準マーク(第1の基準マーク7)を用いた位置合わせが可能となる。
図3は、デバイスチップ2の形状の一例を示す図である。図3は、デバイスチップ2を上面から見た場合の形状の例を示している。例えば、デバイスチップ2は、図3(a)に示すように、平行四辺形の鋭角部をトリミングした形状であってよい。図3(a)では、平行四辺形の鋭角部の両方をトリミングした形状としているが、第2の基準マーク8が配置されている側の鋭角部のみをトリミングした形状としてもよい。デバイスチップ2は、図3(b)に示すように、台形の鋭角部をトリミングした形状であってよい。図3(b)では、図の横方向(X方向)の両端に第2の基準マーク8が形成されている例を示しているが、一端のみに第2の基準マーク8が形成されてもよい。この場合、第2の基準マーク8が形成されている側の鋭角部のみをトリミングした形状としてもよい。このように、デバイスチップ2の形状は、角が5つ以上の多角形状であってよい。
また、本実施形態のデバイスチップ2は、隣接するデバイスチップに空間が生じる形状であればよい。従って、例えば、図3(c)に示すような、対称的な形状ではない異形なデバイスチップであってもよい。また、デバイスチップ同士の形状が異なっていてもよい。また、第一のデバイスチップ、第二のデバイスチップ、第三のデバイスチップ、および第四のデバイスチップが、この順に配列される場合を想定する。この場合、配列方向の端部に相当する第一および第四のデバイスチップを別形状とし、端部以外に相当する第二および第三のデバイスチップを同一形状としてもよい。いずれの形状にせよ、配列された場合に隣接するデバイスチップ2の間に空間が生じる形状であればよい。
また、デバイスチップ2は、ベースプレート1上に配置された場合に隣接するデバイスチップ2の吐出口が配列方向において重複するように、吐出口が形成されていることが好ましい。これにより、デバイスチップ2が配列方向に配置された液体吐出ヘッド13において、隣接デバイスチップ間の吐出口6は、互いに配列方向においてオーバーラップする。従って、隣接領域においては、いずれかのデバイスチップの吐出口6で吐出が可能となるので、配列方向において途切れることがない連続的な吐出が可能となる。
本実施形態において、ベースプレート1上には、デバイスチップ2を配置する際の位置合わせに用いられる第1の基準マーク7が配置されている。第1の基準マーク7は、デバイスチップ2が配置される配列軸に沿って形成されている。第1の基準マーク7を形成する方法としては、ベースプレート1が樹脂材料であれば、モールド形成またはレーザー描写などによる加工方法が挙げられる。ベースプレート1がセラミックであれば、超音波加工または金属転写などによる加工方法が挙げられる。ベースプレート1上に精度良く第1の基準マーク7がマーキングできる加工方法であればよい。
本実施形態の液体吐出ヘッド13は、デバイスチップの第2の基準マーク8と、隣接して配置されるデバイスチップ2同士の間に生じる空間に存在する第1の基準マーク7とが、デバイスチップが配列されている配列軸上に配置されている。例えば、本実施形態では、隣接して配置されるデバイスチップ2同士の間に生じる空間に第1の基準マーク7が位置するように、ベースプレート1上に第1の基準マーク7が配置されている。換言すれば、ベースプレート1上に配置されている第1の基準マーク7を覆わないように、デバイスチップ2の形状が形成されている。つまり、ベースプレート1上に第1の基準マーク7が配置される位置と、デバイスチップ2の形状とは、互いに関連している。
本実施形態においては、デバイスチップ2上に、第2の基準マーク8が配置されている。第2の基準マーク8は、第1の基準マーク7と位置合わせを行うためのマークである。第2の基準マーク8および吐出口6は、半導体製造装置でパターニングされるため、デバイスチップ2上で高精度に配置されている。本実施形態の液体吐出ヘッド13では、第2の基準マーク8と第1の基準マーク7とは、デバイスチップ2の配列軸上に配置される。即ち、隣接するデバイスチップ2上の第2の基準マーク8と、ベースプレート上の第1の基準マーク7とは、デバイスチップ2の配列軸上に配置される。また、本実施形態では、デバイスチップ2上に電気接合部5が、デバイスチップの配列方向に配列されており、第2の基準マーク8は、この電気接合部5の配列軸上に配置されている。
尚、本実施形態の図においては、第1の基準マーク7および第2の基準マーク8の形状は、丸形状である例を示しているが、これに限られない。十字形状でもよいし、周りのパターンと誤認しないようなパターンであってもよい。また、第1の基準マーク7および第2の基準マーク8の形状は、互いに同じ形状であってもよいし、異なる形状であってもよい。また、複数の第1の基準マーク7同士は、同じ形状であってもよいし、異なる形状であってもよい。また、複数の第2の基準マーク8同士は、同じ形状であってよいし、異なる形状であってもよい。
図4は、本実施形態の液体吐出ヘッド13の製造方法を説明する図である。図4(a)から図4(d)の順に工程が進むものとする。ベースプレート1にはタンクから液体を吐出口6へ供給する流路10が備えられている。
図4(a)に示すように、ベースプレート1上に配置された基準マーク701、702、703、704と流路10とを避けるように接着剤11を塗工する工程が行われる。詳しくは、接着剤11は、流路10の間で連通せず、かつ流路をふさがないように、塗工する量と塗工領域とが調整される。接着剤11を塗工する手法としては、例えばノズルディスペンサー、ローラー、またはスタンパーなどを用いて塗工する方法が挙げられる。接着剤11としては、熱硬化接着剤またはUV硬化接着剤などが挙げられる。
次に、図4(b)に示すように、デバイスチップ201をチップマウンターにてベースプレート1に接合する工程が行われる。このとき、ベースプレート1上の基準マーク701とデバイスチップ201上の基準マーク801とを用いた位置合わせが行われる。本実施形態では、カメラを用いた画像認識によって、基準マーク701と基準マーク801との位置合わせが行われ、デバイスチップ201が接着剤11上に精度よく接合される。本実施形態では、精度よく接合するために、画像認識するカメラを1台にして同じ画面内での位置合わせ処理が行われる。図2に示すように、ベースプレート1の流路10上に基板3の液体供給口9の位置が合うように位置合わせをする必要がある。精度の観点から、ベースプレート1上の基準マーク701とデバイスチップ201上の基準マーク801とは、近い位置で位置合わせができるように配置しておくことが好ましい。これにより、図4(b)に示すように、配列方向の端部のデバイスチップ201の接合の工程が完了する。
次に、図4(c)に示すように、デバイスチップ201に隣接するデバイスチップ202の接合工程が行われる。まず、デバイスチップ202がピックアップされる。そして、チップマウンターにて、ベースプレート1上の基準マーク702を検出しながら、デバイスチップ202上の基準マーク802を検出し、画像認識にて位置合わせが行われ、デバイスチップ202が精度良く接合される。位置合わせ精度の観点から、デバイスチップ201上の基準マーク801も本工程において検出することが好ましい。本製造方法では、チップマウンターでデバイスチップを1チップずつ、接合しているが、スループット上げるために複数のマウントフィンガーで複数のデバイスチップを同時にマウント接合してもよい。その際に各デバイスチップ2でベースプレート1上の第1の基準マーク7を検出し、各々で同時に位置合わせをして、工程時間を短縮する方法を用いてもよい。
次に、図4(d)に示すように、これまでの工程と同様に、デバイスチップ203および204をチップマウンターにて、ベースプレート1上に接合する工程が行われる。
最後に、デバイスチップ201、202、203、204上に形成された電気接合部5にエネルギー発生素子を駆動するための電気配線部材の電気的接合(不図示)が行われ、液体吐出ヘッド13が完成される。
以上説明したように、本実施形態のデバイスチップ2は、隣接するデバイスチップとの間に空間が生じる形状に構成されている。また、その空間に対応するベースプレート1上に第1の基準マーク7が配置されている。第1の基準マーク7は、配列軸上に配置されている。デバイスチップ2には、それぞれ第2の基準マーク8が配置されている。そして、デバイスチップ2がベースプレート1に接合される際に、第1の基準マーク7と第2の基準マーク8とを用いて、配列軸上での位置合わせが行われる。
このように、本実施形態においては、第1の基準マーク7と第2の基準マーク8とを用いて、配列軸上での位置合わせが行われるので、精度良く位置合わせをすることができる。デバイスチップ上の第2の基準マーク8同士で位置合わせを行う相対的な位置合わせと比べて、本実施形態のようにベースプレート上の第1の基準マーク7と位置合わせをする方が、精度良く位置合わせをすることができる。また、配列軸上に配置されている第1の基準マーク7と位置合わせをすることで、例えば、配列方向と直交する方向(液体吐出ヘッド13の短手方向)に基準マークが配置されるような場合に比べて、軸がぶれずに精度良く位置合わせをすることができる。また、本実施形態のデバイスチップ2は、隣接するデバイスチップの間に空間が生じる形状であるので、配列方向の端部に位置するデバイスチップ以外のデバイスチップでも、配列軸上に配置されている第1の基準マーク7と位置合わせをすることができる。このため、精度の良い位置合わせを行うことができる。
<<実施形態2>>
実施形態1では、デバイスチップが、記録幅方向(Y軸)に一列に配列される液体吐出ヘッドを説明した。実施形態2においては、デバイスチップが、記録幅方向(Y軸)および記録幅方向に直交する方向(X軸)の両方にマトリックス状に配列される液体吐出ヘッドを説明する。製造方法については、実施形態1とほぼ同様であるので、ここではその違いを中心に説明する。
図5は、本実施形態のデバイスチップを説明する図である。ベースプレート1の上面には、接着剤(図5では不図示)を介して、デバイスチップ201~209がマトリックス状に接合されている。図5では、9個のデバイスチップがベースプレート1上に配置されている例を示しているが、デバイスチップの数は9個に限定するものではなく、任意の数で構成してもよい。本実施形態のデバイスチップは、上下左右の隣接チップ間で空間が生じる形状となっている。ベースプレート上にデバイスチップを配置していく方法は実施形態1と同様である。本実施形態のデバイスチップ201~209は、記録幅方向の配列軸(Y軸、第一の方向)上に配置されている第1の基準マークと位置合わせをし、その上で、さらに、X軸(第二の方向)上に配置されている第1の基準マークと位置合わせをすることができる。例えばデバイスチップには、複数の第2の基準マークが配置されており、一方は、ベースプレート1上のY軸上に配置されている第1の基準マークと位置合わせをし、他方は、X軸上に配置されている第1の基準マークと位置合わせをすることができる。具体的には、図5のデバイスチップ205は、基準マーク805と基準マーク705とを用いて位置合わせをするとともに、基準マーク806と基準マーク706とを用いて位置合わせをすることができる。
本実施形態のデバイスチップ201~209は、マトリックス状で配置されているため、電気接合部5は、デバイスチップの裏面側に配置される裏面電極として構成される。
図6は、図5のVI-VI線断面を模式的に示した図である。電気接合部5を基板3の裏面側に配置する方法としては、基板3に貫通口17を設け、その貫通口17側面に絶縁層を形成し、そこに電気配線としてのプラグ14を形成する方法がある。貫通口17を形成する手法として、ドライエッチングもしくはウエットエッチングなどのエッチング方法、または、レーザーアブレーション加工などが挙げられる。絶縁層は、例えばSiO2またはTiOなどの酸化膜によって形成される。絶縁層の形成方法としては、LP-CVDなる化学気相堆積法またはALDなる原子堆積法などが挙げられる。プラグ14としては、Cu、Al、またはAuなどの金属が挙げられる。プラグ14を形成する方法としては、メッキまたはスパッタなどで貫通口に埋め込んだ後、基板裏面側をCMPなどで研磨する方法が挙げられる。プラグ14を形成する前にCuの拡散を防止するためのバリア層を絶縁膜上に形成してもよい。電気接続によっては、裏面をドライエッチングやウエットエッチングなどで薄加工することで、プラグ電極を出す工程を行ってもよい。
デバイスチップを電気接合する際は、電気配線部材がベースプレート1上に配置される。電気接合した後に電気的なショートなどを防いだり、インクなどの液体との接液を避けたりするため、電気接合部5に封止剤15を隣接デバイスチップの空間16から注入する。この際、図2の吐出口6を封止しないことと、隣接デバイスチップの側面を毛細血管現象で埋まるように封止剤の注量と時間を調整する。この結果、電気接合部5は、封止剤15によって被覆される。このようにして、液体吐出ヘッドが完成される。
以上説明したように、デバイスチップがマトリックス状に配列される液体吐出ヘッドを製造する場合においても、デバイスチップをベースプレート上に高精度に位置合わせして配置することができる。
1 ベースプレート
2 デバイスチップ
3 基板
7 第1の基準マーク
8 第2の基準マーク

Claims (9)

  1. 液体を吐出する吐出口が形成されたデバイスチップが少なくとも2つ以上、ベースプレート上に配置される液体吐出ヘッドであって、
    前記ベースプレート上には、第1の基準マークが備えられ、
    前記デバイスチップ上には、第2の基準マークが備えられ、
    隣接するデバイスチップ間には、少なくとも一部の空間が形成され、
    前記第2の基準マークと前記空間に存在する前記第1の基準マークとが、デバイスチップが配列されている配列軸上に配置され
    前記デバイスチップは、電気接合部を備え、
    前記第2の基準マークは、前記電気接合部が配列されている配列軸上に配置されていることを特徴とする液体吐出ヘッド。
  2. 前記デバイスチップは、角が少なくとも5つ以上の多角形状を有し、
    前記多角形状によって生じる一部の空間が、前記隣接するデバイスチップ間に形成されている、請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
  3. 前記デバイスチップは、前記ベースプレート上に一列に配列されている、請求項1または2に記載の液体吐出ヘッド。
  4. 前記デバイスチップは、デバイスチップが配列されている配列方向において、隣接するデバイスチップ同士の吐出口が重複する領域を含む、請求項1からのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド。
  5. 液体を吐出する吐出口が形成されたデバイスチップが少なくとも2つ以上、ベースプレート上に配置される液体吐出ヘッドであって、
    前記ベースプレート上には、第1の基準マークが備えられ、
    前記デバイスチップ上には、第2の基準マークが備えられ、
    隣接するデバイスチップ間には、少なくとも一部の空間が形成され、
    前記第2の基準マークと前記空間に存在する前記第1の基準マークとが、デバイスチップが配列されている配列軸上に配置され、
    前記デバイスチップは、前記ベースプレート上に、第一の方向および前記第一の方向と交わる第二の方向にマトリックス状に配置され、
    前記デバイスチップには、複数の前記第2の基準マークが備えられ、
    前記複数の第2の基準マークは、
    前記第一の方向における前記空間に存在する前記第1の基準マークに対して前記第一の方向の軸上に配置される基準マークと、
    前記第二の方向における前記空間に存在する前記第1の基準マークに対して前記第二の方向の軸上に配置される基準マークと、
    を含むことを特徴とする液体吐出ヘッド。
  6. 液体を吐出する吐出口が形成されたデバイスチップが少なくとも2つ以上、ベースプレート上に配置される液体吐出ヘッドであって、
    前記ベースプレート上には、第1の基準マークが備えられ、
    前記デバイスチップ上には、第2の基準マークが備えられ、
    隣接するデバイスチップ間には、少なくとも一部の空間が形成され、
    前記第2の基準マークと前記空間に存在する前記第1の基準マークとが、デバイスチップが配列されている配列軸上に配置され、
    前記デバイスチップは、前記ベースプレート上に、第一の方向および前記第一の方向と交わる第二の方向にマトリックス状に配置され、
    前記デバイスチップは、前記デバイスチップの基板の裏面に電気接合部を備え、
    前記空間は、電気接合部を被覆する封止剤で埋め込まれていることを特徴とする液体吐出ヘッド。
  7. 前記デバイスチップは、角が少なくとも5つ以上の多角形状を有し、
    前記多角形状によって生じる一部の空間が、前記隣接するデバイスチップ間に形成されている、請求項5または6に記載の液体吐出ヘッド。
  8. 液体を吐出する吐出口が形成されたデバイスチップが少なくとも2つ以上、ベースプレート上に配置される液体吐出ヘッドの製造方法であって、
    第1の基準マークが備えられた前記ベースプレート上に接着剤を塗工する工程と、
    前記接着剤が塗工された前記ベースプレート上に、第2の基準マークが備えられたデバイスチップを接合する工程と、
    を有し、
    前記接合された、隣接するデバイスチップ間には、少なくとも一部の空間が形成されており、
    前記第2の基準マークと前記空間に存在する前記第1の基準マークとが、デバイスチップが配列されている配列軸上に配置され
    前記デバイスチップの基板の裏面に、電気接合部が備えられており、
    前記空間に、電気接合部を被覆する封止剤を注入する工程をさらに有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
  9. 前記接合する工程は、前記デバイスチップを少なくとも2つ以上、同時にベースプレート上に接合する工程を含む、請求項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
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