JP7137241B2 - 絶縁膜形成用の樹脂組成物、絶縁膜形成用の樹脂組成物の製造方法、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 - Google Patents
絶縁膜形成用の樹脂組成物、絶縁膜形成用の樹脂組成物の製造方法、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7137241B2 JP7137241B2 JP2020524427A JP2020524427A JP7137241B2 JP 7137241 B2 JP7137241 B2 JP 7137241B2 JP 2020524427 A JP2020524427 A JP 2020524427A JP 2020524427 A JP2020524427 A JP 2020524427A JP 7137241 B2 JP7137241 B2 JP 7137241B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- resin composition
- insulating film
- resin
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/14—Polymers provided for in subclass C08G
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/14—Polycondensates modified by chemical after-treatment
- C08G59/1433—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
- C08G59/1438—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing oxygen
- C08G59/1455—Monocarboxylic acids, anhydrides, halides, or low-molecular-weight esters thereof
- C08G59/1461—Unsaturated monoacids
- C08G59/1466—Acrylic or methacrylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/02—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques
- C08J3/09—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids
- C08J3/091—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids characterised by the chemical constitution of the organic liquid
- C08J3/092—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/02—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques
- C08J3/09—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids
- C08J3/091—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids characterised by the chemical constitution of the organic liquid
- C08J3/095—Oxygen containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
硬化性樹脂(A)は、例えば光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の樹脂成分を含む。
カルボキシル基含有樹脂(A1)は、分子内に少なくとも一つのカルボキシル基を含有する。カルボキシル基含有樹脂(A1)は、樹脂組成物(P)にアルカリ現像性を付与することができる。カルボキシル基含有樹脂(A1)は、例えばエチレン性不飽和基とカルボキシル基とを備える樹脂であれば特に制限されない。
カラム:SHODEX KF-800P,KF-005,KF-003,KF-001の4本直列、
移動相:THF、
流量:1ml/分、
カラム温度:45℃、
検出器:RI、
換算:ポリスチレン。
樹脂組成物(P)は、光重合性化合物(B)を含有することも好ましい。光重合性化合物(B)は、樹脂組成物(P)に光硬化性を付与できる。なお、光重合性化合物(B)は、上述の通り、光硬化性樹脂に含まれる成分であり、硬化性樹脂(A)にも含まれる成分である。
樹脂組成物(P)は、熱硬化性樹脂(C)を含有することも好ましい。この場合、樹脂組成物(P)に熱硬化性を付与することができる。熱硬化性樹脂(C)は、エポキシ化合物(C1)を含有することが好ましい。なお、エポキシ化合物(C1)は、上述の通り、硬化性樹脂(A)にも含まれる成分である。特に樹脂組成物(P)が、上記のカルボキシル基含有樹脂(A1)と、エポキシ化合物(C1)とを含む場合には、カルボキシル基含有樹脂(A1)は、加熱によりエポキシ化合物(C1)と反応しうる。
硬化性樹脂(A)が感光性の成分、すなわち光硬化性樹脂を含有する場合には、樹脂組成物(P)は、光重合開始剤(D)を含有することが好ましい。光重合開始剤(D)は、紫外線又は電子線が照射されることで、ラジカル、カチオン、あるいはアニオン等を生成し、重合反応のきっかけになる化合物である。光重合開始剤(D)は、紫外線が照射されることで、ラジカルを生成する化合物であることが好ましい。光重合開始剤(D)は、例えば、ベンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン類;2-メチルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類;2,4-ジイソプロピルキサントン等のキサントン類;2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン等の窒素を含む開始剤;1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒロドキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル等のα-ヒドロキシアルキルフェノン類;2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン等のα-アミノアルキルフェノン類;2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-エチル-フェニル-ホスフィネート等のモノアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤;並びに、ビス-(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)-4-プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)-1-ナフチルホスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジメトキシベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,5-ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、(2,5,6-トリメチルベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン系光重合開始剤;1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(O-アセチルオキシム)等のオキシムエステル系光重合開始剤からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。光重合開始剤(D)は、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤を含有することが好ましい。この場合、絶縁膜形成用の樹脂組成物から形成されるソルダーレジスト層の絶縁信頼性を向上させることができるとともに、絶縁膜形成用の樹脂組成物のUV感度を向上させることができる。特に光重合開始剤(D)が、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド及びビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイドからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することがより好ましい。この場合、絶縁膜形成用の樹脂組成物のUV感度を特に向上させることができる。
本実施形態では、樹脂組成物(P)は、ベントナイト(E)を含有する。ベントナイト(E)は、上述の通り、層状の結晶構造を有する成分である。ベントナイト(E)の具体的な構造は、ケイ素に酸素イオンが配位して構成される四面体構造、アルミニウムイオンに酸素イオンが配位して構成される四面体構造、アルミニウム、マグネシウム、鉄イオン等に酸素、水酸イオン等が配位して構成される八面体構造等を備え、この四面体構造と八面体構造と四面体構造とが順に層状に重なっている。ベントナイト(E)は、例えば負に帯電した厚み約1nmのケイ酸塩シートと、正電荷を有するナトリウムイオン等の陽イオンとが、規則正しく層状に積み重なった結晶構造を有する。ベントナイト(E)は、例えばミクロンサイズの粒径を有する。本実施形態では、上記で説明したとおり、樹脂組成物(P)がベントナイト(E)を含有しても、ベントナイト(E)に起因する樹脂組成物(P)の粘度上昇が起こりにくい。
本実施形態の樹脂組成物(P)は、上記のとおり、第一の溶剤(F1)と第二の溶剤(F2)とを含有する。上記のとおり、第一の溶剤(F1)の20℃における水1Lに対する溶解度は、1g以上であり、第二の溶剤(F2)の20℃における水1Lに対する溶解度は、1g未満である。
本実施形態の絶縁膜形成用の樹脂組成物(P)は、上記で説明した硬化性樹脂(A)、ベントナイト(E)、第一の溶剤(F1)及び第二の溶剤(F2)と、必要に応じて、光重合開始剤(D)を混合することによって製造できる。
以下に、本実施形態による樹脂組成物(P)から形成された層間絶縁層を備えるプリント配線板を製造する方法の一例を、図1Aから図1Eを参照して説明する。本方法では、層間絶縁層にフォトリソグラフィ法でスルーホールを形成しているが、これに限定されない。
(合成例A-1)
還流冷却管、温度計、空気吹き込み管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコ内に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学株式会社製、品番YDCN-700-5、エポキシ当量203)203質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート106質量部を、メチルハイドロキノン0.2質量部、アクリル酸43.2質量部、及びトリフェニルホスフィン3質量部を入れることで、混合物を調製した。この混合物を、加熱温度100℃、加熱時間4時間の条件で加熱した。
還流冷却管、温度計、空気吹き込み管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコ内に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学株式会社製、品番YDCN-700-5、エポキシ当量203)203質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート106質量部を、メチルハイドロキノン0.2質量部、アクリル酸43.2質量部、及びトリフェニルホスフィン3質量部を入れることで、混合物を調製した。この混合物を、加熱温度100℃、加熱時間4時間の条件で加熱した。
還流冷却管、温度計、空気吹き込み管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコ内に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学株式会社製、品番YDCN-700-5、エポキシ当量203)203質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート87質量部を、メチルハイドロキノン0.2質量部、アクリル酸43.2質量部、及びトリフェニルホスフィン1質量部を入れることで、混合物を調製した。この混合物を、加熱温度100℃、加熱時間4時間の条件で加熱した。
還流冷却管、温度計、空気吹き込み管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコ内に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学株式会社製、品番YDCN-700-5、エポキシ当量203)203質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート118質量部を、メチルハイドロキノン0.2質量部、アクリル酸72質量部、及びトリフェニルホスフィン1質量部を入れることで、混合物を調製した。この混合物を、加熱温度110℃、加熱時間15時間の条件で加熱した。
後掲の表に示す成分を三本ロールで混錬してから、フラスコ内で撹拌することで、実施例1~8及び比較例1~7の樹脂組成物を製造した。なお、表に示す「溶剤(F)」とは、溶剤(F1)と溶剤(F2)とを含む成分であり、表中の有機溶剤B~Dは溶剤(F1)に含まれ、有機溶剤Aは、溶剤(F2)に含まれる。また、溶剤は、樹脂組成物において、樹脂組成物全量に対する含有量が、表中の(F1)の欄及び(F2)の欄に示す量(質量部)となるように、希釈溶剤を添加した。また、表に示される成分の詳細は次の通りである。
・光重合性化合物:ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート混合物、日本化薬株式会社製、品番KAYARAD DPHA。
・光重合開始剤A:2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、BASF社製、品番IRGACURE TPO。
・光重合開始剤B:1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、BASF社製、品番IRGACURE 184。
・光重合開始剤C:2,4-ジエチルチオキサントン、日本化薬株式会社製、品番カヤキュアDETX-S。
・エポキシ化合物A:ビフェニル型エポキシ樹脂、三菱化学株式会社製、品番YX4000Kをジェットミルで最大粒子径10μm未満に粉砕。
・エポキシ化合物溶液B:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、DIC株式会社製の品名EPICLON N-695を固形分70%でジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート/スワゾール1500(石油ナフサ)=1:1に溶解した溶液。
・エポキシ化合物溶液C:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、DIC株式会社製の品名EPICLON N-695を固形分70%でジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートに溶解した溶液。
・有機ベントナイト:レオックス社製、品番ベントンSD-2。
・微粉シリカ:株式会社トクヤマ製、品番MT-10。
・陰イオン吸着性層状複水酸化物:ハイドロタルサイト。
・硫酸バリウム:堺化学工業株式会社製、品番バリエースB30。
・青色顔料:フタロシアニンブルー。
・黄色顔料:1,1’-[(6-フェニル-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル)ビス(イミノ)]ビス(9,10-アントラセンジオン)。
・メラミン:日産化学工業株式会社製、品番メラミンHM。
・消泡剤:シメチコン(ジメチコンとケイ酸の混合物)、信越シリコーン株式会社製、品番KS-66。
[希釈溶剤]
・有機溶剤A:芳香族系混合溶剤(石油ナフサ)、丸善石油化学株式会社製、品名スワゾール1500。
・有機溶剤B:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート。
・有機溶剤C:メチルエチルケトン。
・有機溶剤D:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。
テストピースを以下の手順で作製した。なお、フィルムの形成方法に関しては、実施例1~5及び比較例1~5では、下記(3-1)で示すようにスクリーン印刷法によりフィルムを形成し、実施例6~8及び比較例6~7では、(3-2)で示すようにドライフィルムを形成して、それぞれテストピースとなるプリント配線板を作製した。
絶縁膜形成用の樹脂組成物、又はテストピースに対して、以下に示した評価を行った。なお、(4-1)~(4-5)の評価においては、実施例1~5及び比較例1~5と、実施例6~8と比較例6~7とで評価方法及び評価基準が異なるが、(4-6)~(4-13)の評価においては、各実施例及び比較例で同様の評価方法及び評価基準で評価を行っている。
[実施例1~5及び比較例1~5:スクリーン印刷用に調整した樹脂組成物]
調製した各絶縁膜形成用の樹脂組成物について、希釈溶剤を混合した直後に測定した粘度(v0)と、希釈溶剤を混合してから静置させ10時間経過後に測定した粘度(v10)とを測定し、各樹脂組成物について、次のように評価をした。なお、粘度は、東機産業株式会社製の3度×R14ローターを装備した粘度計TVE-35Hを用い、恒温槽の設定温度25℃、ローターの回転速度5rpmの条件で測定した。
A:(v10-v0)<350dPa・s。
B:350dPa・s≦(v10-v0)<500dPa・s。
C:500dPa・s<(v10-v0)。
上記と同様に、各絶縁膜形成用の樹脂組成物について、各粘度を測定し、次に示すように、樹脂組成物の評価を評価した。なお、粘度は、東機産業株式会社製の1度34分×R24ローターを装備した粘度計TVE-35Hを用い、恒温槽の設定温度25℃、ローターの回転速度20rpmの条件で測定した。
A:(v10-v0)<500mPa・s。
B:500mPa・s≦(v10-v0)<1000mPa・s。
C:1000mPa・s<(v10-v0)。
[実施例1~5及び比較例1~5:スクリーン印刷用に調整した樹脂組成物]
調整した各絶縁膜形成用の樹脂組成物について、希釈溶剤を混合してから静置し10分経過した後、厚み17.5μmの銅箔上にスクリーン印刷により塗膜を形成し乾燥させることで、試験塗膜を作製した。試験塗膜における銅箔上の膜厚を5点測定し、平均値を算出し、これを「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」とした。
A:「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」と「希釈溶剤混合40分後の試験塗膜の膜厚」との膜厚の差が2μm以下であった。
B:「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」と「希釈溶剤混合40分後の試験塗膜の膜厚」との膜厚の差が2μmより大きく4μm以下であった。
C:「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」と「希釈溶剤混合40分後の試験塗膜の膜厚」との膜厚の差が4μmより大きかった。
調整した各絶縁膜形成用の樹脂組成物について、希釈溶剤を混合してから静置し10分経過した後、厚み19μmのポリエチレンテレフタレート製のフィルム上にアプリケーターで塗膜を形成し乾燥させることで、試験塗膜を作製した。試験塗膜における銅箔上の膜厚を5点測定し、平均値を算出し、これを「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」とした。
A:「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」と「希釈溶剤混合40分後の試験塗膜の膜厚」との膜厚の差が2μm以下であった。
B:「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」と「希釈溶剤混合40分後の試験塗膜の膜厚」との膜厚の差が2μmより大きく3μm以下であった。
C:「希釈溶剤混合10分後の試験塗膜の膜厚」と「希釈溶剤混合40分後の試験塗膜の膜厚」との膜厚の差が3μmより大きかった。
[実施例1~5及び比較例1~5:スクリーン印刷用に調整した樹脂組成物]
上記(3-1)におけるテストピースの作製時における、樹脂組成物のスクリーン印刷による塗布を行った後の塗膜を観察し、目視により、樹脂組成物の印刷塗布性を、以下のような基準で評価した。
A:レベリング性が良く、きれいに塗布ができている。
B:Aよりもレベリング性が悪いが、塗布ができている。
C:レベリング性が悪く、きれいに塗布できていない。
上記(3-2)におけるテストピースの作製時における、樹脂組成物のアプリケーター印刷による塗布を行い作製したドライフィルムを観察し、目視により、樹脂組成物の印刷塗布性を、以下のような基準で評価した。
A:レベリング性が良く、きれいに塗布ができている。
B:Aよりもレベリング性が悪いが、塗布ができている。
C:レベリング性が悪く、きれいに塗布できていない。
[実施例1~5及び比較例1~5:スクリーン印刷用に調整した樹脂組成物]
上記(3-1)で作製したテストピースを観察し、目視により、樹脂組成物のチクソ性を、以下のような基準で評価した。
A:導体配線箇所にソルダーレジストの垂れ(タレ)の発生が見られなかった。
B:導体配線箇所にソルダーレジストの僅かなタレの発生が見られた。
C:導体配線箇所にソルダーレジストの大きなタレの発生が見られた。
上記(3-2)におけるテストピースの作製時における、樹脂組成物のアプリケーター印刷による塗布を行い作製したドライフィルムを観察し、目視により、樹脂組成物のチクソ性を、以下のような基準で評価した。
A:ドライフィルム中に垂れ(タレ)の発生が見られなかった。
B:ドライフィルム中に僅かなタレの発生が見られた。
C:ドライフィルム中に大きなタレの発生が見られた。
各実施例及び比較例において、平板状の銅基板上に、乾燥後の絶縁膜形成用の樹脂組成物を、乾燥後の膜厚が25μmとなるように塗布した後、乾燥温度80℃、乾燥時間60分の条件で乾燥させることで乾燥塗膜を作製した後、上記(3-1)又は(3-2)で説明した現像処理を行った。
A:80℃で60分乾燥させた乾燥塗膜、及び80℃で80分乾燥させた乾燥塗膜のいずれにおいても現像残渣は確認されなかった。
B:80℃で60分乾燥させた乾燥塗膜においては、現像残渣は確認されなかったが、80℃で80分乾燥させた乾燥塗膜においては現像残渣が確認された。
C:80℃で60分乾燥させた乾燥塗膜、及び80℃で80分乾燥させた乾燥塗膜のいずれにおいても現像残渣が確認された。
JIS D0202で規定される試験方法に従って、上記(3)で作製したテストピースのソルダーレジスト層に碁盤目状にクロスカットを入れ、続いてセロハン粘着テープを用いたピーリング試験をおこなった。試験後の剥がれの状態を目視により観察した。その結果を次に示すように評価した。
A:100個のクロスカット部分のうち全てに全く変化がみられない。
B:100個のクロスカット部分のうち1~10箇所に剥がれを生じた。
C:100個のクロスカット部分のうち11~100箇所に剥がれを生じた。
上記(3)で作製したテストピースのソルダーレジスト層の鉛筆硬度を、JIS K5400の規定に準拠して、鉛筆として三菱ハイユニ(三菱鉛筆社製)を用いて測定した。
上記(3)で作製したテストピースを、室温下で、10%の硫酸水溶液に30分間浸漬した後、このテストピースのソルダーレジスト層の外観を観察した。その結果を次に示すように評価した。
A:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が認められない。
B:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が僅かに認められる。
C:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が顕著に認められる。
上記(3)で作製したテストピースのソルダーレジスト層に、水溶性フラックス(ロンドンケミカル社製、品番LONCO 3355-11)を塗布し、続いてソルダーレジス層を260℃の溶融はんだ浴に10秒間浸漬してから水洗した。この処理を3回繰り返してから、ソルダーレジスト層の外観を観察し、その結果を次に示すように評価した。
A:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が認められない。
B:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が僅かに認められる。
C:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が顕著に認められる。
上記(3)で作製したテストピースに、市販のメッキ液を用いて、無電解ニッケルメッキと無電解金メッキを順次施してから、メッキ層及びソルダーレジスト層の外観を目視で確認した。続いて、このテストピースのソルダーレジスト層に対してセロハン粘着テープ剥離試験を行うことで、メッキ後のソルダーレジスト層の密着状態を確認した。その結果を、次のようにして評価した。
A:メッキ層の形成前後でソルダーレジスト層に外観の変化が認められず、めっきの潜り込みも認められず、かつセロハン粘着テープ剥離試験でソルダーレジスト層の剥離は認められなかった。
B:メッキ層の形成前後でソルダーレジスト層に外観の変化が認められないが、セロハン粘着テープ剥離試験でソルダーレジスト層の一部剥離が認められる。
C:メッキ層の形成後でソルダーレジスト層の浮き上がりが認められ、セロハン粘着テープ剥離試験でソルダーレジスト層の剥離が認められる。
上記(3)で作製したテストピースを、温度121℃の飽和水蒸気中に50時間放置した後、このテストピースのソルダーレジスト層の外観を観察した。その結果を次に示すように評価した。
A:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常は認められない。
B:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が僅かに認められる。
C:ソルダーレジスト層にふくれ、剥離、変色等の異常が顕著に認められる。
FR-4タイプの銅張積層板に、ライン幅/スペース幅が100μm/100μmである櫛形電極を形成することで、評価用のプリント配線板を得た。このプリント配線板上に、上記(3)と同様の作製方法及び条件で、ソルダーレジスト層を形成した。続いて、櫛形電極にDC30Vのバイアス電圧を印加しながら、プリント配線板を121℃、97%R.H.の試験環境下に100時間暴露した。この試験環境下におけるソルダーレジスト層の電気抵抗値を常時測定した。その結果を次の評価基準により評価した。
A:試験開始時から100時間経過するまでの間、電気抵抗値が常に106Ω以上であった。
B:試験開始時から少なくとも70時間経過するまでは、電気抵抗値が106Ω以上であったが、100時間経過するまでに電気抵抗値が106Ω未満となった。
C:試験開始時から70時間経過する以前に、電気抵抗値が106Ω未満となった。
以上から明らかなように、本開示に係る第一の態様の絶縁膜形成用の樹脂組成物は、 硬化性樹脂(A)、ベントナイト(E)、第一の溶剤(F1)及び第二の溶剤(F2)を含有する。第一の溶剤(F1)の20℃における水1Lに対する溶解度は1g以上であり、第二の溶剤(F2)の20℃における水1Lに対する溶解度は1g未満である。樹脂組成物全量に対する第一の溶剤(F1)と第二の溶剤(F2)との合計量は、15質量%以上50質量%以下である。第一の溶剤(F1)と第二の溶剤(F2)との合計量に対する第二の溶剤(F2)の量は、15質量%以上50質量%以下である。
Claims (12)
- 硬化性樹脂(A)、ベントナイト(E)、第一の溶剤(F1)及び第二の溶剤(F2)を含有する絶縁膜形成用の樹脂組成物であって、
前記硬化性樹脂(A)は、ノボラック構造を有するエポキシ樹脂(a1)の一部のエポキシ基にモノカルボン酸(b1)を、別の一部のエポキシ基に多価カルボン酸(b2)をそれぞれ付加反応させたカルボキシル基含有樹脂(A1-1)を含み、
前記第一の溶剤(F1)の20℃における水1Lに対する溶解度は1g以上であり、前記第二の溶剤(F2)の20℃における水1Lに対する溶解度は1g未満であり、
前記樹脂組成物全量に対する前記第一の溶剤(F1)と第二の溶剤(F2)との合計量は、15質量%以上50質量%以下であり、
前記第一の溶剤(F1)と前記第二の溶剤(F2)との合計量に対する前記第二の溶剤(F2)の量は、15質量%以上50質量%以下であり、
前記第一の溶剤(F1)と前記第二の溶剤(F2)との合計量に対する前記ベントナイト(E)の量は、1.5質量%以上12質量%以下である、
絶縁膜形成用の樹脂組成物。 - 前記モノカルボン酸(b1)は、アクリル酸を含む、
請求項1に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物。 - 前記多価カルボン酸(b2)は、テトラヒドロフタル酸を含む、
請求項1又は2に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物。 - 前記カルボキシル基含有樹脂(A1-1)のエポキシ当量は、8000g/eq.以上である、
請求項1から3のいずれか一項に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物。 - 前記第一の溶剤(F1)は、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを含む、
請求項1から4のいずれか一項に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物。 - 前記第二の溶剤(F2)は、芳香族系炭化水素を含む、
請求項1から5のいずれか一項に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物。 - 前記絶縁膜形成用の樹脂組成物全量に対する前記ベントナイト(E)の量は、0.5質量%以上5質量%以下である、
請求項1から6のいずれか一項に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物。 - 絶縁膜形成用の樹脂組成物の製造方法であって、
前記樹脂組成物は、硬化性樹脂(A)、ベントナイト(E)、第一の溶剤(F1)及び第二の溶剤(F2)を含有し、
前記第一の溶剤(F1)の20℃における水1Lに対する溶解度は1g以上であり、前記第二の溶剤(F2)の20℃における水1Lに対する溶解度は1g未満であり、
前記樹脂組成物全量に対する前記第一の溶剤(F1)と第二の溶剤(F2)との合計量は、15質量%以上50質量%以下であり、
前記第一の溶剤(F1)と前記第二の溶剤(F2)との合計量に対する前記第二の溶剤(F2)の量は、15質量%以上50質量%以下であり、
前記第一の溶剤(F1)と前記第二の溶剤(F2)との合計量に対する前記ベントナイト(E)の量は、1.5質量%以上12質量%以下であり、
前記製造方法は、
前記第一の溶剤(F1)と、ノボラック構造を有するエポキシ樹脂(a1)と、モノカルボン酸(b1)とを含有する溶液中で、前記ノボラック構造を有するエポキシ樹脂(a1)と前記モノカルボン酸(b1)とを反応させて中間体を合成し、
前記溶液に多価カルボン酸(b2)を加えて前記中間体と前記多価カルボン酸(b2)とを反応させ、
前記中間体と前記多価カルボン酸(b2)との反応途中に、前記溶液に前記第二の溶剤(F2)を加えることで、前記硬化性樹脂(A)に含まれるカルボキシル基含有樹脂(A1-1)を製造することを含む、
絶縁膜形成用の樹脂組成物の製造方法。 - 請求項1から7のいずれか一項に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物の乾燥物である、
ドライフィルム。 - 請求項1から7のいずれか一項に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物の硬化物を含む絶縁膜を備える、
プリント配線板。 - 前記絶縁膜が、層間絶縁層又はソルダーレジスト層である、
請求項10に記載のプリント配線板。 - 導体配線と、この導体配線に重なる絶縁膜とを備えるプリント配線板の製造方法であって、
請求項1から7のいずれか一項に記載の絶縁膜形成用の樹脂組成物から前記絶縁膜を作製することを含む、
プリント配線板の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018203557 | 2018-10-30 | ||
JP2018203557 | 2018-10-30 | ||
PCT/JP2019/041443 WO2020090565A1 (ja) | 2018-10-30 | 2019-10-23 | 絶縁膜形成用の樹脂組成物、絶縁膜形成用の樹脂組成物の製造方法、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020090565A1 JPWO2020090565A1 (ja) | 2021-02-15 |
JP7137241B2 true JP7137241B2 (ja) | 2022-09-14 |
Family
ID=70464069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020524427A Active JP7137241B2 (ja) | 2018-10-30 | 2019-10-23 | 絶縁膜形成用の樹脂組成物、絶縁膜形成用の樹脂組成物の製造方法、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7137241B2 (ja) |
KR (1) | KR102375289B1 (ja) |
CN (1) | CN111417901A (ja) |
TW (1) | TWI809215B (ja) |
WO (1) | WO2020090565A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2022211122A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014235376A (ja) | 2013-06-04 | 2014-12-15 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化熱硬化性樹脂組成物、硬化物、及びプリント配線板 |
JP2016513268A (ja) | 2013-01-31 | 2016-05-12 | 太陽油墨(蘇州)有限公司 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、そのドライフィルムおよびその硬化物、ならびにそれらを用いて形成されたプリント配線板 |
JP2018045030A (ja) | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 互応化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、及び被覆プリント配線板 |
JP2018124561A (ja) | 2018-03-09 | 2018-08-09 | 互応化学工業株式会社 | ソルダーレジスト用組成物及びプリント配線板 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5632603B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-11-26 | 互応化学工業株式会社 | カルボキシル基含有樹脂、それを含有する組成物及び硬化物、並びにカルボキシル基含有樹脂の製造方法 |
JP2018053215A (ja) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
-
2019
- 2019-10-23 JP JP2020524427A patent/JP7137241B2/ja active Active
- 2019-10-23 KR KR1020207014450A patent/KR102375289B1/ko active IP Right Grant
- 2019-10-23 WO PCT/JP2019/041443 patent/WO2020090565A1/ja active Application Filing
- 2019-10-23 CN CN201980006032.3A patent/CN111417901A/zh active Pending
- 2019-10-25 TW TW108138538A patent/TWI809215B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016513268A (ja) | 2013-01-31 | 2016-05-12 | 太陽油墨(蘇州)有限公司 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、そのドライフィルムおよびその硬化物、ならびにそれらを用いて形成されたプリント配線板 |
JP2014235376A (ja) | 2013-06-04 | 2014-12-15 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化熱硬化性樹脂組成物、硬化物、及びプリント配線板 |
JP2018045030A (ja) | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 互応化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、及び被覆プリント配線板 |
JP2018124561A (ja) | 2018-03-09 | 2018-08-09 | 互応化学工業株式会社 | ソルダーレジスト用組成物及びプリント配線板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020090565A1 (ja) | 2020-05-07 |
KR102375289B1 (ko) | 2022-03-15 |
JPWO2020090565A1 (ja) | 2021-02-15 |
TWI809215B (zh) | 2023-07-21 |
KR20200062350A (ko) | 2020-06-03 |
TW202033584A (zh) | 2020-09-16 |
CN111417901A (zh) | 2020-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5997860B1 (ja) | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 | |
KR102493938B1 (ko) | 카르복실기 함유 수지, 감광성 수지 조성물, 드라이 필름, 프린트 배선판, 및 카르복실기 함유 수지의 제조 방법 | |
JP7072819B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板 | |
JP7270204B2 (ja) | 皮膜の製造方法及びプリント配線板 | |
WO2017077662A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板 | |
WO2013073518A1 (ja) | カルボキシル基含有樹脂、ソルダーレジスト用樹脂組成物、及びカルボキシル基含有樹脂の製造方法 | |
JP6204518B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
JP6391121B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
WO2017125967A1 (ja) | ドライフィルム積層体 | |
JP6767090B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、プリント配線板、支持体付きドライフィルム、及び多層プリント配線板 | |
WO2016121395A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
JP6829863B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、及び被覆プリント配線板 | |
JP6478351B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | |
JP6892668B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP7137241B2 (ja) | 絶縁膜形成用の樹脂組成物、絶縁膜形成用の樹脂組成物の製造方法、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | |
JP6082083B1 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
JP6705084B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法及び多層プリント配線板 | |
JP2017191204A (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
JP2017129687A (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
JP7150230B2 (ja) | カルボキシル基含有樹脂、感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及びカルボキシル基含有樹脂の製造方法 | |
JP6172816B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
JP6140246B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
JP7333506B2 (ja) | 黒色感光性樹脂組成物、ドライフィルム、ソルダーレジスト及びプリント配線板 | |
KR102506139B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 드라이 필름, 및 프린트 배선판 | |
JP2017090492A (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板及び感光性樹脂組成物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210518 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210719 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20211221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220322 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20220322 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20220329 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20220405 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220725 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220802 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220826 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7137241 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |