JP7110663B2 - ウエハ収容容器及びウエハ収容容器の清浄化方法 - Google Patents
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Description
内部にウエハを収容する収容空間を有するウエハ収容部と、
前記収容空間の気体を検出するセンサー部と、前記センサー部からの信号が入力されるデータ処理部とを有しており、前記ウエハ収容部の底壁である収容部底壁によって前記収容空間に対して隔てられて、前記収容部底壁の外側面である底壁外面または前記底壁外面より下方に設置される検出機構と、を有しており、
前記収容部底壁には、前記収容空間と前記センサー部とを連通させる通気孔が形成されており、前記センサー部は、前記通気孔を介して前記収容空間の気体に接触することを特徴とする。
前記通気孔は前記底部導出ポートの一部であってもよい。
前記検出機構は、前記収容部底壁と前記底板との間に設置されていてもよい。
前記検出ステップによる検出結果から、前記収容空間の清浄化を実施するか否かを判断する判断ステップと、
前記判断ステップによる判断結果に応じて、清浄化ガス供給手段により前記収容空間に清浄化ガスを導入し、前記収容空間の清浄化を実施する清浄化ステップと、を有する。
前記検出ステップによる検出結果から、前記収容空間の清浄化を実施するか否かを判断する判断ステップと、
前記判断ステップによる判断結果に応じて、清浄化ガス供給手段により前記収容空間に清浄化ガスを導入し、前記収容空間の清浄化を実施する清浄化ステップと、を有する。
図1は、本発明の一実施形態に係るウエハ収容容器としてのフープ20と、フープ20を清浄化する装置の一例としてのロードポート装置40と、を表す概略図である。
20…フープ
20a…容器底面
21…ウエハ収容部
21a…収容空間
22…筐体部
22a…主開口
22b…収容部底壁
22ba…通気孔
22bb…底壁外面
22c…収容部側壁
22d…収容部天壁
23…蓋部
24…底部導出ポート
24a…導出孔
25…底部導入ポート
26…底板
26a…切り欠き
26b…貫通孔
30、130…検出機構
130a…第1部分
130aa…先端部
130ab…接続部
130b…第2部分
130c…第3部分
31、131…センサー部
32…送信部
33…電源部
34…蓄電部
35…受給部
36…通信制御部
37…データ処理部
39…フィルター
40…ロードポート装置
41…フロントパージノズル
42…ボトムパージノズル
42a…導入ノズル
42b…排出ノズル
43…制御部
44…受信部
45…給電部
45a…給電コイル
46…載置台
47…ドア
60…イーフェム(EFEM)
62…搬送ロボット
64…壁部
80…HOSTコンピュータ
Claims (12)
- 内部にウエハを収容する収容空間を有するウエハ収容部と、
前記収容空間の気体を検出するセンサー部と、前記センサー部からの信号が入力されるデータ処理部とを有しており、前記ウエハ収容部の底壁である収容部底壁によって前記収容空間に対して隔てられて、前記収容部底壁の外側面である底壁外面または前記底壁外面より下方に設置される検出機構と、を有しており、
前記収容部底壁には、前記収容空間と前記センサー部とを連通させる通気孔が形成されており、前記センサー部は、前記通気孔を介して前記収容空間の気体に接触し、
前記通気孔には、防水機能を有する通気性フィルターが設けられていることを特徴とするウエハ収容容器。 - 内部にウエハを収容する収容空間を有するウエハ収容部と、
前記収容空間の気体を検出するセンサー部と、前記センサー部からの信号が入力されるデータ処理部とを有しており、前記ウエハ収容部の底壁である収容部底壁によって前記収容空間に対して隔てられて、前記収容部底壁の外側面である底壁外面または前記底壁外面より下方に設置される検出機構と、を有しており、
前記収容部底壁には、前記収容空間と前記センサー部とを連通させる通気孔が形成されており、前記センサー部は、前記通気孔を介して前記収容空間の気体に接触し、
前記センサー部の表面には、防水機能を有する通気性フィルターが設けられていることを特徴とするウエハ収容容器。 - 前記検出機構は、前記底壁外面に取り付けられているアタッチメント部材であることを特徴とする請求項1又は2に記載のウエハ収容容器。
- 前記検出機構は、前記センサー部及び前記データ処理部に電力を供給する電源部を備えることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかに記載のウエハ収容容器。
- 前記収容部底壁に設けられており、前記収容空間の気体を外部に導出させる底部導出ポートを有しており、
前記通気孔は前記底部導出ポートの一部であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかに記載のウエハ収容容器。 - 前記検出機構は、前記センサー部を含み前記底部導出ポート内に配置される第1部分と、前記データ処理部を含み前記底部導出ポートから離間する位置に配置されてる第2部分と、前記第1部分と前記第2部分とを接続する第3部分と、を有することを特徴とする請求項5に記載のウエハ収容容器。
- 前記第1部分は、前記センサー部が配置される先端部と、前記先端部と前記第3部分との間の部分であって前記先端部に接続しており、前記底部導出ポート内において前記先端部から下向に延びる接続部と、を有することを特徴とする請求項6に記載のウエハ収容容器。
- 前記収容部底壁の下方に設けられており、前記ウエハ収容容器の容器底面の少なくとも一部を構成する底板を有しており、
前記検出機構は、前記収容部底壁と前記底板との間に設置されていることを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれかに記載のウエハ収容容器。 - 前記検出機構は、前記ウエハ収容部の動きを検出して前記データ処理部に出力する動き検出センサー部を有することを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれかに記載のウエハ収容容器。
- 請求項1~9までのいずれかに記載のウエハ収容容器が有する前記検出機構により、前記収容空間の気体を検出する検出ステップと、
前記検出ステップによる検出結果から、前記収容空間の清浄化を実施するか否かを判断
する判断ステップと、
前記判断ステップによる判断結果に応じて、清浄化ガス供給手段により前記収容空間に清浄化ガスを導入し、前記収容空間の清浄化を実施する清浄化ステップと、を有するウエハ収容容器の清浄化方法。 - 請求項9に記載のウエハ収容容器が有する前記検出機構により、前記ウエハ収容部の動きを検出する検出ステップと、
前記検出ステップによる検出結果から、前記収容空間の清浄化を実施するか否かを判断する判断ステップと、
前記判断ステップによる判断結果に応じて、清浄化ガス供給手段により前記収容空間に清浄化ガスを導入し、前記収容空間の清浄化を実施する清浄化ステップと、を有するウエハ収容容器の清浄化方法。 - ウエハ収容容器の清浄化方法であって、
前記ウエハ収容容器は、
内部にウエハを収容する収容空間を有するウエハ収容部と、
前記収容空間の気体を検出するセンサー部と、前記センサー部からの信号が入力されるデータ処理部と、前記ウエハ収容部の動きを検出して前記データ処理部に出力する動き検出センサー部とを有しており、前記ウエハ収容部の底壁である収容部底壁によって前記収容空間に対して隔てられて、前記収容部底壁の外側面である底壁外面または前記底壁外面より下方に設置される検出機構と、を有し、
前記収容部底壁には、前記収容空間と前記センサー部とを連通させる通気孔が形成されており、前記センサー部は、前記通気孔を介して前記収容空間の気体に接触しており、
前記ウエハ収容容器が有する前記検出機構により、前記ウエハ収容部の動きを検出する検出ステップと、
前記検出ステップによる検出結果から、前記収容空間の清浄化を実施するか否かを判断する判断ステップと、
前記判断ステップによる判断結果に応じて、清浄化ガス供給手段により前記収容空間に清浄化ガスを導入し、前記収容空間の清浄化を実施する清浄化ステップと、を有するウエハ収容容器の清浄化方法。
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Families Citing this family (1)
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US12087605B2 (en) * | 2020-09-30 | 2024-09-10 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. | Reticle pod with antistatic capability |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002261159A (ja) | 2000-12-04 | 2002-09-13 | Ebara Corp | 基板搬送容器 |
JP2004047929A (ja) | 2002-05-13 | 2004-02-12 | Fujitsu Ltd | 分子汚染監視システム、保管搬送容器および分子汚染センサ |
JP2004527899A (ja) | 2001-01-10 | 2004-09-09 | エンテグリス カイマン リミテッド | 内部環境モニタを含む可搬式コンテナ |
US20050096776A1 (en) | 2003-11-05 | 2005-05-05 | International Business Machines Corporation | Manufacturing product carrier environment and event monitoring system |
JP2007533166A (ja) | 2004-04-18 | 2007-11-15 | インテグリス・インコーポレーテッド | 流体密封流路を備えた基板容器 |
US20090053017A1 (en) | 2006-03-17 | 2009-02-26 | Shlomo Shmuelov | Storage and purge system for semiconductor wafers |
JP2009105205A (ja) | 2007-10-23 | 2009-05-14 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
US20110220545A1 (en) | 2010-03-15 | 2011-09-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate transfer container, gas purge monitoring tool, and semiconductor manufacturing equipment with the same |
JP2012094822A (ja) | 2010-09-30 | 2012-05-17 | Shibaura Mechatronics Corp | 密閉型容器及び半導体製造装置 |
JP2017212322A (ja) | 2016-05-25 | 2017-11-30 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器及びその管理システム並びに基板収納容器の管理方法 |
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Family Cites Families (1)
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---|---|---|---|---|
WO1998059229A2 (en) * | 1997-06-23 | 1998-12-30 | Genco Robert M | Pod monitor for use in a controlled environment |
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002261159A (ja) | 2000-12-04 | 2002-09-13 | Ebara Corp | 基板搬送容器 |
JP2004527899A (ja) | 2001-01-10 | 2004-09-09 | エンテグリス カイマン リミテッド | 内部環境モニタを含む可搬式コンテナ |
JP2004047929A (ja) | 2002-05-13 | 2004-02-12 | Fujitsu Ltd | 分子汚染監視システム、保管搬送容器および分子汚染センサ |
US20050096776A1 (en) | 2003-11-05 | 2005-05-05 | International Business Machines Corporation | Manufacturing product carrier environment and event monitoring system |
JP2007533166A (ja) | 2004-04-18 | 2007-11-15 | インテグリス・インコーポレーテッド | 流体密封流路を備えた基板容器 |
US20090053017A1 (en) | 2006-03-17 | 2009-02-26 | Shlomo Shmuelov | Storage and purge system for semiconductor wafers |
JP2009105205A (ja) | 2007-10-23 | 2009-05-14 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
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JP2012094822A (ja) | 2010-09-30 | 2012-05-17 | Shibaura Mechatronics Corp | 密閉型容器及び半導体製造装置 |
JP2017212322A (ja) | 2016-05-25 | 2017-11-30 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器及びその管理システム並びに基板収納容器の管理方法 |
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